JPH1093161A - レーザ増幅装置の整列の測定装置 - Google Patents
レーザ増幅装置の整列の測定装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 少なくとも測定手段と、増幅装置のフィルタ
用の穴のプレートの替わりに置かれた整列テンプレート
を備えたレーザビ−ムの増幅装置を整列するための装置
を開示する。 【解決手段】 前記装置の整列用テンプレートが穴を有
し、その穴の中心がフィルタ用の穴の中心とほぼ同じ空
間の位置を有しており、あるテンプレートの穴には互い
に角度的にオフセットされた基準視野があり、これらの
視野の先端は該穴の中心の方向に向けられており、該測
定手段は増幅装置の終端で照準付けを行うことにより、
一点で会わされる穴の中のビームの集束点と、視野の先
端との間の開きを定め、角度の位置によりそれぞれの穴
に該開きを割り当て、該増幅装置の素子の位置が開きの
測定値の関数として制御されていることを特徴としてい
る。増幅装置の整列の自動設定に応用され、特に多数の
並列増幅器の場合に応用される。
用の穴のプレートの替わりに置かれた整列テンプレート
を備えたレーザビ−ムの増幅装置を整列するための装置
を開示する。 【解決手段】 前記装置の整列用テンプレートが穴を有
し、その穴の中心がフィルタ用の穴の中心とほぼ同じ空
間の位置を有しており、あるテンプレートの穴には互い
に角度的にオフセットされた基準視野があり、これらの
視野の先端は該穴の中心の方向に向けられており、該測
定手段は増幅装置の終端で照準付けを行うことにより、
一点で会わされる穴の中のビームの集束点と、視野の先
端との間の開きを定め、角度の位置によりそれぞれの穴
に該開きを割り当て、該増幅装置の素子の位置が開きの
測定値の関数として制御されていることを特徴としてい
る。増幅装置の整列の自動設定に応用され、特に多数の
並列増幅器の場合に応用される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザ増幅装置の整
列を測定する装置に関する。本発明は多段通過構造の幾
つかの縦続接続の光増幅器の使用を必要とする電力レー
ザに特に適用される。
列を測定する装置に関する。本発明は多段通過構造の幾
つかの縦続接続の光増幅器の使用を必要とする電力レー
ザに特に適用される。
【０００２】電力レーザを製造するため、パイロットレ
ーザと呼ぶ低電力レーザにより作成される信号は、例え
ば閃光電球と共同するネオジムをドーピングしたガラス
プレートからなる光増幅器により一般に増幅されてい
る。必要な電力レベルは多数の該プレートを連続的に交
差させることにより得られる。幾つかのプレートの結合
は基本増幅器を構成している。
ーザと呼ぶ低電力レーザにより作成される信号は、例え
ば閃光電球と共同するネオジムをドーピングしたガラス
プレートからなる光増幅器により一般に増幅されてい
る。必要な電力レベルは多数の該プレートを連続的に交
差させることにより得られる。幾つかのプレートの結合
は基本増幅器を構成している。
【０００３】これらの増幅器に蓄積されたエネルギーの
取り出しを最適に行うため多段通過構造として知られて
いる構造が使用されている。この構造によりビームは数
回各基本増幅器と交差する。
取り出しを最適に行うため多段通過構造として知られて
いる構造が使用されている。この構造によりビームは数
回各基本増幅器と交差する。
【０００４】各増幅器を通る幾つかの通過を得るため使
用される技術の１つは個々の通過の間ビームを空間的又
は角度的に多重化する技術である。この技術は二つの連
続した増幅器の間の通路に於てビームに空間的にフィル
タをかけるため、フィルタ用の穴の中心にビームを集束
させる方法を使用している。集束点は装置の全ての通路
に対し異なっている。
用される技術の１つは個々の通過の間ビームを空間的又
は角度的に多重化する技術である。この技術は二つの連
続した増幅器の間の通路に於てビームに空間的にフィル
タをかけるため、フィルタ用の穴の中心にビームを集束
させる方法を使用している。集束点は装置の全ての通路
に対し異なっている。
【０００５】多段通過増幅器のこの技術が困難である一
つは増幅器及びフィルタ用の穴にビームを心合わせする
ことが難しいからである。心合わせはそれぞれのレーザ
発射動作に対し行う必要があり、１つの発射動作から他
の発射動作に対して行い、機械的及び熱的制約により光
システムが変形を受けることに安定性を確保することが
不可能である。
つは増幅器及びフィルタ用の穴にビームを心合わせする
ことが難しいからである。心合わせはそれぞれのレーザ
発射動作に対し行う必要があり、１つの発射動作から他
の発射動作に対して行い、機械的及び熱的制約により光
システムが変形を受けることに安定性を確保することが
不可能である。
【０００６】段階的な方法は例えば、数ミリメーターの
大きさの重水素標的に２００を越えるレーザービームの
心合わせを行いこの標的に所望の電力を伝達するのに必
要な原子核反応融合の場合の様に多数の装置が同時に使
用される時考えることができない。従って、高速の動作
特性を有した自動整列装置が必要である。
大きさの重水素標的に２００を越えるレーザービームの
心合わせを行いこの標的に所望の電力を伝達するのに必
要な原子核反応融合の場合の様に多数の装置が同時に使
用される時考えることができない。従って、高速の動作
特性を有した自動整列装置が必要である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、増幅
器内及びレーザ装置のフィルタ用の穴の中でビームの心
合わせを提供するこの種の整列装置の製造を可能にする
ことであり、この整列装置は多数のレーザ増幅装置を同
時に整列する必要がある時特にふさわしい。
器内及びレーザ装置のフィルタ用の穴の中でビームの心
合わせを提供するこの種の整列装置の製造を可能にする
ことであり、この整列装置は多数のレーザ増幅装置を同
時に整列する必要がある時特にふさわしい。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この目的のため、本発明
の対象はレーザビーム増幅装置の整列を測定する装置で
あって、前記装置が少なくとも測定手段と、増幅装置の
フィルタ用のホールプレートの代わりに置かれた整列テ
ンプレートとを備え、該整列テンプレートが穴を有し、
その穴の中心がフイルタ用の穴の中心とほぼ同じ空間的
な位置を有しており、あるテンプレートの穴には互いに
角度的にオフセットされた基準視野があり、これらの視
野の先端は該穴の中心の方向に向けられており、該測定
手段は増幅装置の終端で、照準付けをすることにより、
一点で会わされる穴の中のビームの集束点と、視野の先
端との間の開きを定め、角度の位置によりそれぞれの穴
に該開きを割り当て、該増幅装置の素子の位置が開きの
測定値の関数として制御されていることを特徴とする測
定装置である。
の対象はレーザビーム増幅装置の整列を測定する装置で
あって、前記装置が少なくとも測定手段と、増幅装置の
フィルタ用のホールプレートの代わりに置かれた整列テ
ンプレートとを備え、該整列テンプレートが穴を有し、
その穴の中心がフイルタ用の穴の中心とほぼ同じ空間的
な位置を有しており、あるテンプレートの穴には互いに
角度的にオフセットされた基準視野があり、これらの視
野の先端は該穴の中心の方向に向けられており、該測定
手段は増幅装置の終端で、照準付けをすることにより、
一点で会わされる穴の中のビームの集束点と、視野の先
端との間の開きを定め、角度の位置によりそれぞれの穴
に該開きを割り当て、該増幅装置の素子の位置が開きの
測定値の関数として制御されていることを特徴とする測
定装置である。
【０００９】本発明の主な利点は、増幅装置を作る物理
的な作業が複雑でなく、整列を容易にしかも早く調整で
き、可動部分が殆ど無く、整列のためパイロットレーザ
の電力のみ必要とし、自動的で更に実現が容易であり、
高精度にすることができる。
的な作業が複雑でなく、整列を容易にしかも早く調整で
き、可動部分が殆ど無く、整列のためパイロットレーザ
の電力のみ必要とし、自動的で更に実現が容易であり、
高精度にすることができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１は、レーザビームを増幅する
ため多段通過構造を有した装置の実施態様の例を示して
いる。パイロットビームと呼ばれ増幅されるレーザビー
ム１は例えば挿入鏡２により一番目のフィルタ用の穴Ｔ
１ａの中心に焦点を作る。フィルタ用の穴は他の三つの
点Ｔ１ｂ，Ｔ１ｃ，Ｔ１ｄを含むフルタ用プレートＴ１
の中に穴が開けられている。
ため多段通過構造を有した装置の実施態様の例を示して
いる。パイロットビームと呼ばれ増幅されるレーザビー
ム１は例えば挿入鏡２により一番目のフィルタ用の穴Ｔ
１ａの中心に焦点を作る。フィルタ用の穴は他の三つの
点Ｔ１ｂ，Ｔ１ｃ，Ｔ１ｄを含むフルタ用プレートＴ１
の中に穴が開けられている。
【００１１】一番目のフィルタ用の穴Ｔ１ａから出たビ
ームの通路に従い、該増幅装置は一番目のレンズＬ１
と、一番目の基本増幅器３と、二番目のレンズＬ２と、
４つのフィルタ用の穴Ｔ２ａ，Ｔ２ｂ，Ｔ２ｃ，Ｔ２ｄ
が開けられた二番目のフィルタ用のプレートＴ２と、二
番目の基本増幅器４及びバックオブキャビティ（ｂａｃ
ｋ−ｏｆ−ｃａｖｉｔｙ）鏡と呼ばれる一番目の鏡５を
有している。
ームの通路に従い、該増幅装置は一番目のレンズＬ１
と、一番目の基本増幅器３と、二番目のレンズＬ２と、
４つのフィルタ用の穴Ｔ２ａ，Ｔ２ｂ，Ｔ２ｃ，Ｔ２ｄ
が開けられた二番目のフィルタ用のプレートＴ２と、二
番目の基本増幅器４及びバックオブキャビティ（ｂａｃ
ｋ−ｏｆ−ｃａｖｉｔｙ）鏡と呼ばれる一番目の鏡５を
有している。
【００１２】レンズと共同するフィルタ用の穴を通して
行われる空間的なフィルタ作用により伝達されるレーザ
ーエネルギーの一様性が改善される。レンズＬ１，Ｌ
２、Ｌ３は互いにほぼ一緒にされる焦点軸を有してい
る。一番目のプレートＴ１のフィルタ用の穴の平面はこ
れらの焦点軸にほぼ直角である。これは二番目のプレー
トＴ２のフィルタ用の穴の場合も同様である。
行われる空間的なフィルタ作用により伝達されるレーザ
ーエネルギーの一様性が改善される。レンズＬ１，Ｌ
２、Ｌ３は互いにほぼ一緒にされる焦点軸を有してい
る。一番目のプレートＴ１のフィルタ用の穴の平面はこ
れらの焦点軸にほぼ直角である。これは二番目のプレー
トＴ２のフィルタ用の穴の場合も同様である。
【００１３】増幅に沿った全てのレーザビームの通路は
次の通りである。一番目のフィルタ用の穴Ｔ１ａの後
に、ビームは一番目のレンズＬ１を通る。このレンズは
ビームを平行ビームにする。一番目の増幅器３と二番目
のレンズＬ２で交差した後、ビームは二番目のフィルタ
用の穴Ｔ２ａを通る。この穴Ｔ２ａは一番目の穴Ｔ１ａ
と全く同じであり、その中心で心合わせをする。該ビー
ムは二番目の増幅器４を通過してから一番目のバックオ
ブキャビティ鏡４内でゼロで無い入射角で反射される。
その後増幅器３、４内への一番目の通過が行われる。
次の通りである。一番目のフィルタ用の穴Ｔ１ａの後
に、ビームは一番目のレンズＬ１を通る。このレンズは
ビームを平行ビームにする。一番目の増幅器３と二番目
のレンズＬ２で交差した後、ビームは二番目のフィルタ
用の穴Ｔ２ａを通る。この穴Ｔ２ａは一番目の穴Ｔ１ａ
と全く同じであり、その中心で心合わせをする。該ビー
ムは二番目の増幅器４を通過してから一番目のバックオ
ブキャビティ鏡４内でゼロで無い入射角で反射される。
その後増幅器３、４内への一番目の通過が行われる。
【００１４】二番目の通過は前述の通過と逆の方向で行
われ、ビームは心合わせをしている間、他のフィルター
用の穴Ｔ２ｂ、Ｔ１ｂを通過する。フィルタ用の穴Ｔ１
ｂの出力で、ビームはＵターン鏡６で反射され、四番目
のレンズＬ４に送られ、二番目のバックオブキャビティ
鏡７内でゼロで無い入射角で反射される。例えば、ポケ
ルスセルと偏光子８’はこの鏡と四番目のレンズＬ４の
間に置かれる。これらは更に増幅器４と鏡５との間にも
置かれる。該ビームのＵターンはこの様に行われる。こ
のＵターンにより、ビームはＵターン鏡６で反射された
後、まだ交差せず穴の中心で心合わせをしている他の穴
Ｔ１ｃに向けられる。レーザービームは次に基本増幅器
３、４を通り三番目の通路を作る。この基本増幅器は特
に前述の穴と全く同じ穴Ｔ２ｃの中心で心合わせを行
う。一番目のバックオブキャビティ鏡５に焦点を合わせ
た後、該ビームは心合わせを行う増幅器３、４を通りま
だ交差していない２つのフィルタ用の穴Ｔ２ｄ，Ｔ１ｄ
に四番目と最後の通過を行う。最後のフィルタ用の穴Ｔ
１ｄからの出力で、レーザービームは五番目のレンズＬ
５により平行ビームとして位置を変える。
われ、ビームは心合わせをしている間、他のフィルター
用の穴Ｔ２ｂ、Ｔ１ｂを通過する。フィルタ用の穴Ｔ１
ｂの出力で、ビームはＵターン鏡６で反射され、四番目
のレンズＬ４に送られ、二番目のバックオブキャビティ
鏡７内でゼロで無い入射角で反射される。例えば、ポケ
ルスセルと偏光子８’はこの鏡と四番目のレンズＬ４の
間に置かれる。これらは更に増幅器４と鏡５との間にも
置かれる。該ビームのＵターンはこの様に行われる。こ
のＵターンにより、ビームはＵターン鏡６で反射された
後、まだ交差せず穴の中心で心合わせをしている他の穴
Ｔ１ｃに向けられる。レーザービームは次に基本増幅器
３、４を通り三番目の通路を作る。この基本増幅器は特
に前述の穴と全く同じ穴Ｔ２ｃの中心で心合わせを行
う。一番目のバックオブキャビティ鏡５に焦点を合わせ
た後、該ビームは心合わせを行う増幅器３、４を通りま
だ交差していない２つのフィルタ用の穴Ｔ２ｄ，Ｔ１ｄ
に四番目と最後の通過を行う。最後のフィルタ用の穴Ｔ
１ｄからの出力で、レーザービームは五番目のレンズＬ
５により平行ビームとして位置を変える。
【００１５】図１に示すタイプのレーザ増幅装置の整列
には少なくとも次の二つの動作を含んでいる：−瞳の心
合わせ、即ちバックオブキャビティ鏡５、７の上で瞳を
重ね合わせること；−集束点と空間的フィルタ用穴の整
列。
には少なくとも次の二つの動作を含んでいる：−瞳の心
合わせ、即ちバックオブキャビティ鏡５、７の上で瞳を
重ね合わせること；−集束点と空間的フィルタ用穴の整
列。
【００１６】一番目のフィルタ用プレートＴ１と一番目
のバックオブキャビティ鏡５との間の増幅装置の長さは
１００メーターを越える場合があり、基本増幅器３、４
は例えば１５メーターの長さを有している。
のバックオブキャビティ鏡５との間の増幅装置の長さは
１００メーターを越える場合があり、基本増幅器３、４
は例えば１５メーターの長さを有している。
【００１７】二つの連続したレーザー発射動作の間で、
装置の全ての素子は若干でも位置を変えることができ
る。現在、増幅器内のビームの心合わせ、及びフィルタ
用の穴を通るビームの心合わせには精度を非常に高くす
る必要がある。フィルタ用の穴の直径は約３ｍｍである
ので、レーザービームはこの穴の上での心合わせを数十
マイクロメータの精度で行う必要がある。それ故、心合
わせ動作に所望の精度を有するためには各レーザの発射
動作の前に増幅装置の素子の位置を修正することが不可
欠である。Ｚが装置の軸である時、座標Ｘ，Ｙ，Ｚの正
規直交軸基準装置を検討するならば、大きな被写界深度
によりこのＺ軸に沿った修正を無視することができる。
その平行部分では、レーザービームは例えば横に約４０
ｃｍの正方形の部分を有している。
装置の全ての素子は若干でも位置を変えることができ
る。現在、増幅器内のビームの心合わせ、及びフィルタ
用の穴を通るビームの心合わせには精度を非常に高くす
る必要がある。フィルタ用の穴の直径は約３ｍｍである
ので、レーザービームはこの穴の上での心合わせを数十
マイクロメータの精度で行う必要がある。それ故、心合
わせ動作に所望の精度を有するためには各レーザの発射
動作の前に増幅装置の素子の位置を修正することが不可
欠である。Ｚが装置の軸である時、座標Ｘ，Ｙ，Ｚの正
規直交軸基準装置を検討するならば、大きな被写界深度
によりこのＺ軸に沿った修正を無視することができる。
その平行部分では、レーザービームは例えば横に約４０
ｃｍの正方形の部分を有している。
【００１８】これらの大きさ及び重さにより、設置後、
基本増幅器３、４及び集束レンズＬ１，Ｌ２，Ｌ３，Ｌ
４の位置を変更することは難しい。鏡２、５、７及びフ
ィルター用プレートＴ１，Ｔ２の位置を動かすことが好
ましい。
基本増幅器３、４及び集束レンズＬ１，Ｌ２，Ｌ３，Ｌ
４の位置を変更することは難しい。鏡２、５、７及びフ
ィルター用プレートＴ１，Ｔ２の位置を動かすことが好
ましい。
【００１９】増幅装置の光学系は、一番目の近似とし
て、装置の素子により受ける変化が外乱として現れる直
線数学的モデルにより記載できる。
て、装置の素子により受ける変化が外乱として現れる直
線数学的モデルにより記載できる。
【００２０】集束点と実際の所望の瞳の中心との間の
ｘ，ｙ平面で前述の開きの測定が変化することを考える
と、外乱に対し出力の感度マトリクスを作ることができ
る。瞳の中心は増幅器内ではビームの心合わせの点であ
る。特にこの感度マトリクスによりフィルタ用の穴の中
で集束点の心合わせに対する全ての変化の影響が定めら
れる。これはｍがｎより大きい時にｎ個の未知の量を有
するｎ個の式のｎ次の直線システムに対応している。図
１に記載のタイプの増幅装置に関連して、出願者が行っ
た実験及び計算により、該直線システムは例えば５つの
直線的に独立した式に減らされることが示されている。
ｘ，ｙ平面で前述の開きの測定が変化することを考える
と、外乱に対し出力の感度マトリクスを作ることができ
る。瞳の中心は増幅器内ではビームの心合わせの点であ
る。特にこの感度マトリクスによりフィルタ用の穴の中
で集束点の心合わせに対する全ての変化の影響が定めら
れる。これはｍがｎより大きい時にｎ個の未知の量を有
するｎ個の式のｎ次の直線システムに対応している。図
１に記載のタイプの増幅装置に関連して、出願者が行っ
た実験及び計算により、該直線システムは例えば５つの
直線的に独立した式に減らされることが示されている。
【００２１】制御変数として、スイベル鏡２、５、７の
回転角と、フィルタ用のプレートの軸ｘ，ｙに沿った並
進の変化を考えると、これらの運動に対し出力の感度マ
トリクスを作ることができる。
回転角と、フィルタ用のプレートの軸ｘ，ｙに沿った並
進の変化を考えると、これらの運動に対し出力の感度マ
トリクスを作ることができる。
【００２２】Ｂが制御に対する装置の感度マトリクスで
あり、Ｖがフィルタ用の穴の中心に対する焦点の心合わ
せの誤差のベクトルの時、加えられる命令はベクトルＵ
で表される。このベクトルＵは直線システムの分解能に
より決定される： ＢＵ＝−Ｖ （１）
あり、Ｖがフィルタ用の穴の中心に対する焦点の心合わ
せの誤差のベクトルの時、加えられる命令はベクトルＵ
で表される。このベクトルＵは直線システムの分解能に
より決定される： ＢＵ＝−Ｖ （１）
【００２３】ベクトルＵの各構成要素により、加えられ
る命令、例えば鏡２、５、７の回転、又はフィルタ用プ
レートＴ１，Ｔ２の変化が定められる。ベクトルＵは感
度マトリクスＢ及び心合わせの開きの測定値のベクトル
Ｖを知ることにより完全に定められる。本発明に基づく
装置により心合わせの開きのこれらの測定値を容易に得
ることができる。感度マトリクスは例えば一度に全てに
対しプリセットされる。
る命令、例えば鏡２、５、７の回転、又はフィルタ用プ
レートＴ１，Ｔ２の変化が定められる。ベクトルＵは感
度マトリクスＢ及び心合わせの開きの測定値のベクトル
Ｖを知ることにより完全に定められる。本発明に基づく
装置により心合わせの開きのこれらの測定値を容易に得
ることができる。感度マトリクスは例えば一度に全てに
対しプリセットされる。
【００２４】前述の通り定めたｘ又はｙの各軸に対し、
感度マトリクスＢの入力変数は例えば次の様に見做され
る：ｘＬ１，ｘＬ１，ｘＬ４，ｘＴ１，ｘＴ１，θＭ
５，θＭ７，θＭ２，ここに、ｘＬ１，ｘＬ２，ｘＬ
４，ｘＴ１，ｘＴ２はそれぞれ一番目、二番目、四番目
のレンズＬ１，Ｌ２，Ｌ４及び二つのフィルタ用プレー
トＴ１，Ｔ２の軸ｘ（又はｙ）に沿った並進である。
感度マトリクスＢの入力変数は例えば次の様に見做され
る：ｘＬ１，ｘＬ１，ｘＬ４，ｘＴ１，ｘＴ１，θＭ
５，θＭ７，θＭ２，ここに、ｘＬ１，ｘＬ２，ｘＬ
４，ｘＴ１，ｘＴ２はそれぞれ一番目、二番目、四番目
のレンズＬ１，Ｌ２，Ｌ４及び二つのフィルタ用プレー
トＴ１，Ｔ２の軸ｘ（又はｙ）に沿った並進である。
【００２５】θＭ２，θＭ５，θＭ７はそれぞれ挿入鏡
２及び一番目と二番目のバックオブキャビティ鏡５、７
の軸ｙ又はｘについての回転である。
２及び一番目と二番目のバックオブキャビティ鏡５、７
の軸ｙ又はｘについての回転である。
【００２６】感度マトリクスＢの出力変数は次の通りで
ある：ｄｘＴ１ａ，ｄｘＴ１ｂ，ｄｘＴ１ｃ，ｄｘＴ１
ｄ，ｄｘＴ２ａ，ｄｘＴ２ｂ，ｄｘＴ２ｃ，ｄｘＴ２
ｄ，これらは二つのプレートＴ１，Ｔ２のフィルタ用の
穴の軸ｘ（又はｙ）に沿った並進を表している。
ある：ｄｘＴ１ａ，ｄｘＴ１ｂ，ｄｘＴ１ｃ，ｄｘＴ１
ｄ，ｄｘＴ２ａ，ｄｘＴ２ｂ，ｄｘＴ２ｃ，ｄｘＴ２
ｄ，これらは二つのプレートＴ１，Ｔ２のフィルタ用の
穴の軸ｘ（又はｙ）に沿った並進を表している。
【００２７】感度マトリクスＢは例えば５番目のランク
のマトリクスであるので、５次のマトリクスまで減らす
ことができる。次に、逆にされ、５つの入力変数は装置
を分析するため必要である。
のマトリクスであるので、５次のマトリクスまで減らす
ことができる。次に、逆にされ、５つの入力変数は装置
を分析するため必要である。
【００２８】これらの入力変数は実際には、二つのプレ
ートＴ１，Ｔ２に穴が開けられ、全部で８個のフィルタ
用の穴のうち５個の穴の中心に対し、ビームの集束点の
心合わせの開きの測定値である。
ートＴ１，Ｔ２に穴が開けられ、全部で８個のフィルタ
用の穴のうち５個の穴の中心に対し、ビームの集束点の
心合わせの開きの測定値である。
【００２９】５つの命令が選ばれ縮小された五次のマト
リクスＢ’が得られる。
リクスＢ’が得られる。
【００３０】Ｖ’を前述の開きの測定値から成るベクト
ルとし、Ｕ’を５つの命令から成るベクトルとすると、
フィルタ用の穴の中の集束点の心合わせを得るため装置
に加えられる命令Ｂ’は次の関係式で与えられる： Ｕ’＝（Ｂ’-1）（−Ｖ’） （２） ここに、Ｂ’-1は縮小されたマトリクスの逆マトリクス
である。
ルとし、Ｕ’を５つの命令から成るベクトルとすると、
フィルタ用の穴の中の集束点の心合わせを得るため装置
に加えられる命令Ｂ’は次の関係式で与えられる： Ｕ’＝（Ｂ’-1）（−Ｖ’） （２） ここに、Ｂ’-1は縮小されたマトリクスの逆マトリクス
である。
【００３１】この逆マトリクスＢ’-1はコンピュータに
記憶される。このコンピュータは前述の関係式（２）を
測定値Ｖ’のベクトルの基づき各整列に対し計算する。
記憶される。このコンピュータは前述の関係式（２）を
測定値Ｖ’のベクトルの基づき各整列に対し計算する。
【００３２】マトリクスＢ’は増幅装置の光学モデルか
ら決定される。
ら決定される。
【００３３】図２はフィルタ用の穴の中心に対しビーム
の集束点の中心の開きを測定する手段の可能な実施態
様、即ち実際にはベクトルＶ’の測定に対する手段を示
している。
の集束点の中心の開きを測定する手段の可能な実施態
様、即ち実際にはベクトルＶ’の測定に対する手段を示
している。
【００３４】このベクトルＶ’は図２に示す様に、フィ
ルタ用の穴のプレートを整列テンプレートＴ’１，Ｔ’
２に置き換えることにより測定される。一番目の整列用
テンプレートＴ’１は一番目のフィルタ用の穴のプレー
トＴ１の替わりに置かれている。二番目のテンプレート
Ｔ’２は二番目のフィルタ用の穴のプレートＴ２の替わ
りに置かれている。テンプレートＴ’１，Ｔ’２は実際
のフィルタ用のプレートの穴の直径以上の穴の開いたプ
レートからなり穴の中心はほぼ同じ空間位置を有してい
る。各穴にはたかだか１つの方向性視野２１が取り付け
られており、その先端は穴の中心に向いている。穴の中
に分布された視野の全数はベクトルＶ’の測定値の数に
等しく、例えば図１に示す装置の場合は５個の測定値で
ある。実際には、視野の全数は装置の感度マトリクスＢ
のランクに等しい。視野の位置は角度の面でオフセット
されており、全ての視野が増幅装置の終端で照準付け動
作を通してみることができる。例えば、一番目のテンプ
レートＴ’１の二つの穴は、それぞれ７時と１１時に位
置した視野を有しており、他の二つの穴は視野を有して
いない。二番目のテンプレートＴ’２の三つの穴はそれ
ぞれ１時と、３時と、５時に位置した視野に取り付けら
れており、１つの穴が視野を有していない。視野２１は
一様に分布されている。
ルタ用の穴のプレートを整列テンプレートＴ’１，Ｔ’
２に置き換えることにより測定される。一番目の整列用
テンプレートＴ’１は一番目のフィルタ用の穴のプレー
トＴ１の替わりに置かれている。二番目のテンプレート
Ｔ’２は二番目のフィルタ用の穴のプレートＴ２の替わ
りに置かれている。テンプレートＴ’１，Ｔ’２は実際
のフィルタ用のプレートの穴の直径以上の穴の開いたプ
レートからなり穴の中心はほぼ同じ空間位置を有してい
る。各穴にはたかだか１つの方向性視野２１が取り付け
られており、その先端は穴の中心に向いている。穴の中
に分布された視野の全数はベクトルＶ’の測定値の数に
等しく、例えば図１に示す装置の場合は５個の測定値で
ある。実際には、視野の全数は装置の感度マトリクスＢ
のランクに等しい。視野の位置は角度の面でオフセット
されており、全ての視野が増幅装置の終端で照準付け動
作を通してみることができる。例えば、一番目のテンプ
レートＴ’１の二つの穴は、それぞれ７時と１１時に位
置した視野を有しており、他の二つの穴は視野を有して
いない。二番目のテンプレートＴ’２の三つの穴はそれ
ぞれ１時と、３時と、５時に位置した視野に取り付けら
れており、１つの穴が視野を有していない。視野２１は
一様に分布されている。
【００３５】図３は穴Ｔ’１ａの視野２１の先端の座標
ｘ１ａ，ｙ１ａが特に対応するフィルタ用の穴の中心Ｏ
ａに対する平面ｘ，ｙ内に定められていることを示して
いる。このように、該視野の先端に対する集束点の位置
の測定値によりフィルタ用の穴の中心を有したこれらの
集束点の開きの測定値を定めることが可能である。該装
置は例えば５次の装置であるので、５つの開きの測定値
と５つの命令のみが該装置を修正するのに必要である。
ｘ１ａ，ｙ１ａが特に対応するフィルタ用の穴の中心Ｏ
ａに対する平面ｘ，ｙ内に定められていることを示して
いる。このように、該視野の先端に対する集束点の位置
の測定値によりフィルタ用の穴の中心を有したこれらの
集束点の開きの測定値を定めることが可能である。該装
置は例えば５次の装置であるので、５つの開きの測定値
と５つの命令のみが該装置を修正するのに必要である。
【００３６】測定されたベクトルＶ’は例えば次の通り
である： Ｖ’＝（ｄｘＴ’１ｃ，ｄｘＴ’１ｄ，ｄｘＴ’２ｂ，
ｄｘＴ’２ｃ，ｄｘＴ’２ｄ）
である： Ｖ’＝（ｄｘＴ’１ｃ，ｄｘＴ’１ｄ，ｄｘＴ’２ｂ，
ｄｘＴ’２ｃ，ｄｘＴ’２ｄ）
【００３７】これらのベクトルの構成要素は視野２１に
取り付けられ、テンプレートＴ’１，Ｔ’２の穴Ｔ’１
ｃ，Ｔ’１ｄ，Ｔ’２ｂ，Ｔ’２ｃ，Ｔ’２ｄの中心に
対するビームの集束点の平面ｘ，ｙ内の開きである。
取り付けられ、テンプレートＴ’１，Ｔ’２の穴Ｔ’１
ｃ，Ｔ’１ｄ，Ｔ’２ｂ，Ｔ’２ｃ，Ｔ’２ｄの中心に
対するビームの集束点の平面ｘ，ｙ内の開きである。
【００３８】ｎは感度マトリクスＢのランクであるの
で、ｎ個の命令が選択され、ｎ次の縮小感度マトリクス
Ｂ’を得ることができる。図１に関する例では、ｎは５
に等しい。この様に、命令ベクトルＵ’は次の様にな
る： Ｕ’＝（ｘＴ１，ｘＴ２，θＭ５，θＭ７，θＭ２）
で、ｎ個の命令が選択され、ｎ次の縮小感度マトリクス
Ｂ’を得ることができる。図１に関する例では、ｎは５
に等しい。この様に、命令ベクトルＵ’は次の様にな
る： Ｕ’＝（ｘＴ１，ｘＴ２，θＭ５，θＭ７，θＭ２）
【００３９】これは特にフィルタ用のプレートＴ１，Ｔ
２の平面ｘ，ｙ内に並進の位置と、鏡２、５、７の軸
ｘ，ｙに対する回転位置を定め、フィルタ用の穴の中で
集束点の心合わせを調整することが十分できることを意
味している。この調整は関係式（２）Ｕ’＝（Ｂ-1）
（−Ｖ’）による差の測定値から得ることができ、この
計算は例えばコンピュータにより行われる。
２の平面ｘ，ｙ内に並進の位置と、鏡２、５、７の軸
ｘ，ｙに対する回転位置を定め、フィルタ用の穴の中で
集束点の心合わせを調整することが十分できることを意
味している。この調整は関係式（２）Ｕ’＝（Ｂ-1）
（−Ｖ’）による差の測定値から得ることができ、この
計算は例えばコンピュータにより行われる。
【００４０】開きの測定は図２を使用して行われる。こ
れを行うため、フィルタ用の穴のプレートＴ１，Ｔ２は
５つの基準視野が定められたテンプレートＴ’１，Ｔ’
２により置き替えられている。装置の最後の照準付け動
作を通して、測定手段は該測定手段における一点で併合
されたビームの集束点と、５つの視野の先端との開きを
決定するため使用される。視野の角度の位置により更に
測定された差はそれぞれの穴に割り当てられる。視野の
先端からの開きを知ると、差を取ることにより中心から
の開きを直接得ることができる。これは先端の位置がこ
の中心に対し完全に定められるからである。
れを行うため、フィルタ用の穴のプレートＴ１，Ｔ２は
５つの基準視野が定められたテンプレートＴ’１，Ｔ’
２により置き替えられている。装置の最後の照準付け動
作を通して、測定手段は該測定手段における一点で併合
されたビームの集束点と、５つの視野の先端との開きを
決定するため使用される。視野の角度の位置により更に
測定された差はそれぞれの穴に割り当てられる。視野の
先端からの開きを知ると、差を取ることにより中心から
の開きを直接得ることができる。これは先端の位置がこ
の中心に対し完全に定められるからである。
【００４１】図４はこれらの差を測定する可能な実施態
様を示している。フィルタ用の穴により、実際にはテン
プレートの穴は例えば補助ビームにより照射され、照準
付けは例えば増幅装置から出力Ｔ’１ｄで開きの最後の
点を観察できるＣＣＤ高分解能赤外線カメラの様なカメ
ラ（４１）により行われる。視野の画像はカメラにより
記録され、画像内のそれらの位置は例えば画像をデジタ
ル的に処理することにより行われる。視野の角度の位置
により該位置をそれぞれの穴に割り当て、これらの穴に
対し心合わせの開きを決めることができる。出力で、該
装置からの、即ち最後のフィルタ用の穴Ｔ１ｄからのビ
ームは、半反射用プレート４２の上で、次に球面鏡４３
の上で反射され、マトリクス検出器の上に焦点を合わせ
る。
様を示している。フィルタ用の穴により、実際にはテン
プレートの穴は例えば補助ビームにより照射され、照準
付けは例えば増幅装置から出力Ｔ’１ｄで開きの最後の
点を観察できるＣＣＤ高分解能赤外線カメラの様なカメ
ラ（４１）により行われる。視野の画像はカメラにより
記録され、画像内のそれらの位置は例えば画像をデジタ
ル的に処理することにより行われる。視野の角度の位置
により該位置をそれぞれの穴に割り当て、これらの穴に
対し心合わせの開きを決めることができる。出力で、該
装置からの、即ち最後のフィルタ用の穴Ｔ１ｄからのビ
ームは、半反射用プレート４２の上で、次に球面鏡４３
の上で反射され、マトリクス検出器の上に焦点を合わせ
る。
【００４２】これらの測定手段により、例えばコンピュ
ータに心合わせの開きの測定値のベクトルＶ’が与えら
れる。装置の感度マトリクスを知ることにより、特に逆
マトリクスが記憶されることにより、コンピュータは次
に直線システムを分析し、ベクトルＵ’を決定し、例え
ばテンプレートＴ’１，Ｔ’２と、挿入鏡２と、バック
オブキャビティ鏡５、７の位置を制御するアクチュエー
タを命令する。
ータに心合わせの開きの測定値のベクトルＶ’が与えら
れる。装置の感度マトリクスを知ることにより、特に逆
マトリクスが記憶されることにより、コンピュータは次
に直線システムを分析し、ベクトルＵ’を決定し、例え
ばテンプレートＴ’１，Ｔ’２と、挿入鏡２と、バック
オブキャビティ鏡５、７の位置を制御するアクチュエー
タを命令する。
【００４３】本発明に基づく装置により与えられる測定
値から生ずる整列の手順は繰り返され、装置が適当に整
列することが確かめられる。この整列が一度行われる
と、次にフィルタ用の穴のプレートＴ１，Ｔ２は許容誤
差が例えば５μｍを越える精度で位置決めされる整列テ
ンプレートＴ’１，Ｔ’２と置き換えられる。
値から生ずる整列の手順は繰り返され、装置が適当に整
列することが確かめられる。この整列が一度行われる
と、次にフィルタ用の穴のプレートＴ１，Ｔ２は許容誤
差が例えば５μｍを越える精度で位置決めされる整列テ
ンプレートＴ’１，Ｔ’２と置き換えられる。
【００４４】前述の手順を行う前に、瞳の心合わせを調
べることが必要である。これを行うため、増幅装置での
入力での挿入の瞳は装置を通る連続した画像が基本増幅
器３、４内の通路の中央、即ちバックオブキャビティ鏡
５、７及びＵターン鏡６の上に中心がある様に位置する
必要がある。このため、レンズの焦点距離と位置決めは
入力の瞳の連続した画像がこれらの鏡の上にある様にさ
れる。
べることが必要である。これを行うため、増幅装置での
入力での挿入の瞳は装置を通る連続した画像が基本増幅
器３、４内の通路の中央、即ちバックオブキャビティ鏡
５、７及びＵターン鏡６の上に中心がある様に位置する
必要がある。このため、レンズの焦点距離と位置決めは
入力の瞳の連続した画像がこれらの鏡の上にある様にさ
れる。
【００４５】図５は瞳の心合わせを得るための可能な実
施態様である。球面鏡６３の焦点で集束し最後の集束点
に面する様に置かれた光学系に取り付けられたカメラ６
１は種々の瞳の位置を表示するため使用される。所望の
位置に中心のある焦点板はこれらの瞳の平面内に置か
れ、挿入鏡２により挿入された瞳の位置を決めるのにデ
ィスプレイカメラ６１により整列される。無限大に焦点
を有する光学系は例えば半反射鏡６２と、球面鏡６３
と、レンズ６４により形成されている。増幅装置での出
力でのビームは部分的に半反射鏡６２の上と、次に集束
されたビームを焦点６２に戻す球面鏡６３の上で反射さ
れる。レンズ６４はカメラ６１の上にこの点の画像を形
成する。図５の構成部品は図４の構成部品と関係を有し
ている。次にカメラ６１はコンピュータと、アクチュエ
ータにより制御されている挿入鏡に接続されている。こ
のアクチュエータは該コンピュータから制御の値を受け
る。本発明に基づく整列測定装置は特に自動的な動作及
び高速の性能により多数の増幅装置を同時に設定するの
に適用される。該装置は限られた数の部品、例えば数個
の鏡と、数個の整列テンプレートを使用している。該装
置によりビームは精度が穴の直径の５％より大きいフィ
ルタ用の穴に保持される。該装置により更に、アパーチ
ャの１％より大きい精度で瞳内でビームの心合わせと方
向性を保持することが可能である。該整列測定装置はフ
ィルタ用の穴の大きさに無関係にパイロット１の電力の
み使用している。
施態様である。球面鏡６３の焦点で集束し最後の集束点
に面する様に置かれた光学系に取り付けられたカメラ６
１は種々の瞳の位置を表示するため使用される。所望の
位置に中心のある焦点板はこれらの瞳の平面内に置か
れ、挿入鏡２により挿入された瞳の位置を決めるのにデ
ィスプレイカメラ６１により整列される。無限大に焦点
を有する光学系は例えば半反射鏡６２と、球面鏡６３
と、レンズ６４により形成されている。増幅装置での出
力でのビームは部分的に半反射鏡６２の上と、次に集束
されたビームを焦点６２に戻す球面鏡６３の上で反射さ
れる。レンズ６４はカメラ６１の上にこの点の画像を形
成する。図５の構成部品は図４の構成部品と関係を有し
ている。次にカメラ６１はコンピュータと、アクチュエ
ータにより制御されている挿入鏡に接続されている。こ
のアクチュエータは該コンピュータから制御の値を受け
る。本発明に基づく整列測定装置は特に自動的な動作及
び高速の性能により多数の増幅装置を同時に設定するの
に適用される。該装置は限られた数の部品、例えば数個
の鏡と、数個の整列テンプレートを使用している。該装
置によりビームは精度が穴の直径の５％より大きいフィ
ルタ用の穴に保持される。該装置により更に、アパーチ
ャの１％より大きい精度で瞳内でビームの心合わせと方
向性を保持することが可能である。該整列測定装置はフ
ィルタ用の穴の大きさに無関係にパイロット１の電力の
み使用している。
【００４６】該装置の出力の５番目のレンズＬ５には例
えば図６に示す様に二つの非直線クリスタル１０９、１
１０が続いている。これらの二つのクリスタル１０９、
１１０は特に赤外線範囲から紫外線範囲まで、即ち例え
ば波長が１．０５３μｍから０．３５１μｍまでの増幅
ビームを通過させる目的である。これらの非直線クリス
タルは例えば、ＫＤＰとして知られているクリスタルで
あり、化学式がｋＨ2ＰＯ4 で示される。
えば図６に示す様に二つの非直線クリスタル１０９、１
１０が続いている。これらの二つのクリスタル１０９、
１１０は特に赤外線範囲から紫外線範囲まで、即ち例え
ば波長が１．０５３μｍから０．３５１μｍまでの増幅
ビームを通過させる目的である。これらの非直線クリス
タルは例えば、ＫＤＰとして知られているクリスタルで
あり、化学式がｋＨ2ＰＯ4 で示される。
【００４７】有効な方法でエネルギーを損失しない様に
するため、該ビームはその表面に直角である一番目の非
直線クリスタル１０９に入る必要がある。ビームは更に
その表面にほぼ直角な二番目の非直線クリスタル１１０
に入る必要がある。図に示す様に、入射エネルギーの９
５％を一番目のクリスタル１０９を通過させるため、ビ
ームは±５０μｒａｄ内にこのクリスタルに直角に入る
必要がある。
するため、該ビームはその表面に直角である一番目の非
直線クリスタル１０９に入る必要がある。ビームは更に
その表面にほぼ直角な二番目の非直線クリスタル１１０
に入る必要がある。図に示す様に、入射エネルギーの９
５％を一番目のクリスタル１０９を通過させるため、ビ
ームは±５０μｒａｄ内にこのクリスタルに直角に入る
必要がある。
【００４８】図６は非直線クリスタル１０９、１１０を
通るレーザビーム１の通過を図示している。入射ビーム
１の方向は一番目のクリスタル１０９の表面にできるだ
け直角である必要がある。このクリスタルの出力で、周
波数は２ωである。再び、変換効率を最適にするため、
該ビームは法線１００とゼロで無い角αを形成して二番
目のクリスタル１１０に入る必要がある。この角αは例
えば約２５０μｒａｄに等しい。二番目のクリスタル１
１０の出力で、周波数は３ωである。クリスタル１０
９、１１０の出力で、レーザビームの入力周波数は１．
０５３μｍであり、主ビームの波長は丁度０．３５１μ
ｍに等しいが、１．０５３μｍに除去の必要がある波長
が残っている。増幅されたレーザビームの標的は例え
ば、０．３５１μｍの波長で紫外線のみにより貫通され
る必要がある。この残りの波長は例えば分離器により標
的からそれる。
通るレーザビーム１の通過を図示している。入射ビーム
１の方向は一番目のクリスタル１０９の表面にできるだ
け直角である必要がある。このクリスタルの出力で、周
波数は２ωである。再び、変換効率を最適にするため、
該ビームは法線１００とゼロで無い角αを形成して二番
目のクリスタル１１０に入る必要がある。この角αは例
えば約２５０μｒａｄに等しい。二番目のクリスタル１
１０の出力で、周波数は３ωである。クリスタル１０
９、１１０の出力で、レーザビームの入力周波数は１．
０５３μｍであり、主ビームの波長は丁度０．３５１μ
ｍに等しいが、１．０５３μｍに除去の必要がある波長
が残っている。増幅されたレーザビームの標的は例え
ば、０．３５１μｍの波長で紫外線のみにより貫通され
る必要がある。この残りの波長は例えば分離器により標
的からそれる。
【００４９】図７は、ビームが所望の方向の非直線クリ
スタル１０９、１１０に、一番目のクリスタルの表面に
特に直角に、二番目のクリスタルに対しては２５９μｒ
ａｄの開きで入る。これにより変換効率が最適にされ
る。それ故クリスタル１０９、１１０の方向性の設定は
標的上で発射の各動作の前に行う必要がある。この目的
のため、図７に示す様な自動視準装置が使用される。増
幅装置の出力に置かれた自動視準用のプレート１４１と
球面鏡１４２は、ＣＣＤ（電荷結合素子）タイプの赤外
線検出器１４３の上で、増幅装置の出力でレーザビーム
と変換クリスタル１０９、１１０の１つにより反射され
るビームとの光学軸の方向を区別するため使用される。
ビームの小さな部分はこれらのクリスタルの上で反射さ
れる。一番目のクリスタル１０９はこの様に自動視準器
により方向が定められ、次に二番目のクリスタル１１０
は所望の方向に２５０μｒａｄだけ変化している。
スタル１０９、１１０に、一番目のクリスタルの表面に
特に直角に、二番目のクリスタルに対しては２５９μｒ
ａｄの開きで入る。これにより変換効率が最適にされ
る。それ故クリスタル１０９、１１０の方向性の設定は
標的上で発射の各動作の前に行う必要がある。この目的
のため、図７に示す様な自動視準装置が使用される。増
幅装置の出力に置かれた自動視準用のプレート１４１と
球面鏡１４２は、ＣＣＤ（電荷結合素子）タイプの赤外
線検出器１４３の上で、増幅装置の出力でレーザビーム
と変換クリスタル１０９、１１０の１つにより反射され
るビームとの光学軸の方向を区別するため使用される。
ビームの小さな部分はこれらのクリスタルの上で反射さ
れる。一番目のクリスタル１０９はこの様に自動視準器
により方向が定められ、次に二番目のクリスタル１１０
は所望の方向に２５０μｒａｄだけ変化している。
【００５０】本発明に基づく整列装置は図１に示したタ
イプの装置の設置に対し記載した。本発明はあらゆるラ
ンクの直線システムによりモデル化されたシステムの他
のタイプに適応できる。特に、視野の数はレーザ増幅装
置と共同する直線装置のランクに等しいことは好都合で
ある。
イプの装置の設置に対し記載した。本発明はあらゆるラ
ンクの直線システムによりモデル化されたシステムの他
のタイプに適応できる。特に、視野の数はレーザ増幅装
置と共同する直線装置のランクに等しいことは好都合で
ある。
【図１】増幅装置の実施態様の例
【図２】本発明に基づく装置に使用される整列テンンプ
レートの実施態様の例
レートの実施態様の例
【図３】平面内で識別された整列テンプレートの視野の
先端
先端
【図４】集束点の心合わせの開きの装置の可能な実施態
様
様
【図５】瞳の心合わせの開きを測定する可能な実施態様
【図６】非直線クリスタルを通るレーザビームの通過
【図７】ビームが所定の方向の前述のクリスタルに入る
ことを確認するため使用される装置
ことを確認するため使用される装置
１ レーザビーム ２ 挿入鏡 ３ 一番目の基本増幅器 ４ 二番目の基本増幅器 ５ バックオブキャビティ鏡 ６ Ｕターン鏡 ７ 二番目のバックオブキャビティ鏡 ２１ 視野 ４１ カメラ ４２ 半反射用プレート ４３ 球面鏡 ６１ カメラ ６２ 半反射鏡 ６３ 球面鏡 ６４ レンズ １０９、１１０ 非直線クリスタル １４１ 半反射用プレート １４２ 球面鏡 １４３ 赤外線検出器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フランソア−ユーグ ゴーティエル フランス国， 78960 ブワザン ル ブ ルトノー， リュ エクトール ベルリオ ーズ， ８番地 (72)発明者 パトリス ジャノ フランス国， 77240 セーヌ ポール, リュ ドゥ ムラン， 20番地
Claims (6)
- 【請求項１】 レーザビーム増幅装置の整列を測定する
装置であって、前記装置が少なくとも測定手段と、増幅
装置のフィルタ用のホールプレートの代わりに置かれた
整列テンプレートとを備え、該整列テンプレートが穴を
有し、その穴の中心がフイルタ用の穴の中心とほぼ同じ
空間的な位置を有しており、あるテンプレートの穴には
互いに角度的にオフセットされた基準視野があり、これ
らの視野の先端は該穴の中心の方向に向けられており、
該測定手段は増幅装置の終端で、照準付けを行うことに
より、一点で会わされる穴の中のビームの集束点と、視
野の先端との間の開きを定め、角度の位置によりそれぞ
れの穴に該開きを割り当て、該増幅装置の素子の位置が
開きの測定値の関数として制御されていることを特徴と
する測定装置。 - 【請求項２】 ｎ番目のランクの直線システムにより作
られた増幅器を有しており、使用された視野即ち焦点板
の全数がこのｎ番目のランクに等しく、測定値の数がｎ
個の開きの測定値に配られることを特徴とする請求項１
に記載の装置。 - 【請求項３】 測定手段が、カメラと、半反射用プレー
ト及び球面鏡とを備え、テンプレートの穴がビームによ
り照射され、照準付けが増幅装置の出力で最後の集束点
を観察する該カメラにより行われ、ビームが増幅装置の
出力で半反射プレートの上及び次に球面鏡の上に反射さ
れ該カメラの上に焦点を作ることを特徴とする請求項１
に記載の装置。 - 【請求項４】 増幅装置の瞳の心合わせを得るため、無
限大で焦点を合わせ増幅装置の最後の集束点に向けられ
た位置に置かれ、別々の瞳の位置を表示する光学装置が
備えつけられたカメラを備え所定の位置に中心のある焦
点板がこれらの瞳の平面に置かれていることを特徴とす
る請求項１に記載の装置。 - 【請求項５】 半反射ミラーと、球面鏡及びレンズとを
備え、ビームが増幅装置の出力で該反射ミラーの上及び
次に球面鏡の上で該カメラの上で焦点を作るレンズに向
かい反射されることを特徴とする請求項４に記載の装
置。 - 【請求項６】 変換クリスタルを備えた増幅装置を有し
ており、入射ビームがクリスタルに入る角度に方向が向
けられる様に軸の方向を自動視準器により識別するた
め、反射板と、球面鏡及び赤外線検出器とを備えている
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9609215 | 1996-07-23 | ||
| FR9609215A FR2751798B1 (fr) | 1996-07-23 | 1996-07-23 | Dispositif d'alignement d'une chaine d'amplification laser |
| FR9702442 | 1997-02-28 | ||
| FR9702442A FR2751797B1 (fr) | 1996-07-23 | 1997-02-28 | Dispositif de mesure d'alignement d'une chaine d'amplification laser |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1093161A true JPH1093161A (ja) | 1998-04-10 |
Family
ID=26232856
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9211254A Withdrawn JPH1093161A (ja) | 1996-07-23 | 1997-07-23 | レーザ増幅装置の整列の測定装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5926281A (ja) |
| JP (1) | JPH1093161A (ja) |
| FR (1) | FR2751797B1 (ja) |
| GB (1) | GB2315549B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101029130B1 (ko) | 2008-12-30 | 2011-04-13 | 주식회사 효성 | 블레이드 제조를 위한 목형 측정용 템플릿 및 이를 이용한 목형 측정 장치 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6781713B1 (en) | 1999-05-20 | 2004-08-24 | Eastman Kodak Company | Correcting exposure in a rendered digital image |
| US6856427B1 (en) | 1999-05-20 | 2005-02-15 | Eastman Kodak Company | System for printing correct exposure in a rendered digital image |
| US6760485B1 (en) | 1999-05-20 | 2004-07-06 | Eastman Kodak Company | Nonlinearly modifying a rendered digital image |
| FR2903200B1 (fr) * | 2006-06-29 | 2008-12-19 | Thales Sa | Stabilisation hybride d'images pour camera video |
| CN106647506A (zh) * | 2016-12-28 | 2017-05-10 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 多路激光光轴同步调节控制系统 |
| CN114413758B (zh) * | 2022-01-24 | 2023-06-09 | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 | 一种激光透射定位精度检测组件 |
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