JPH01503330A - コンパクト連続波波面センサー - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 コンΔクト連続波波面センサー 発明の背景 １、発明の技術分野 本発明は光収差を決めるための装置、特に入力ビームに存在する光学パスエラー あるいは位相エラーを決めるための波面センサーに関する。

λ関連技術の説明 波面勾配センサーは、例えば適合光学システムに用いられ、光学設備及び／また は介在手段によって生成される波面の歪みを補償するために必要な調節を決定す る。多くの適用例ではビームの断面全体にわたる波面勾配がＯであることが理想 的である。勾配が０でないということはビームに歪み及び分散があるということ であシ、その結果伝送／ダワーが減少するか、あるいはイメージ生成能力が低下 する。

出力ビームは、例えば変形可能な第１のミラーに測定された分布の関数としてか けられる圧力を変えることによりて予め歪ませることができる。このようにして ａ４ラメータに関連した適切な勾配を減少して、送られた／４ワーあるいは受け 取られたイメージの質を促進することができる。

波面勾配センサーを評価する基準には、信頼性、速度、分解能およびコストがあ る。さらにノ４ルス波モード及び連続波モードのいずれの場合も使用できるよう な柔軟性も主な考慮点となる。

いくつか用いられている勾配センサーには移動部材が具備されている。移動する ことによってビームの異なった部分をサンプル化し、すなわち勾配の計算に必要 なビームの単一部分の多重計測を行なっている。

このようなシステムは一般的に連続波に適用することが制限されるという欠点が ある。又機械的な運動に関連する時間によって、システムの計測速度が限定され る。これは特に実時間処理が必要とされる場合に問題となる。さらに運動する部 分を伴うことによって、システムの信頼性が低下しまたコストも増大する。

波面をサンブリングする多重副開口部を用いる別の波面勾配センサーがある。例 えばいくつかの／１−トマン型センサーでは多重副開口部を限定する格子が用い られている。各副開口部の範囲内の平均勾配が決定され、集合的な決定によって 勾配分布ビームが与えられる。

格子センサーに伴う主な問題は、高分解能格子の製造が困難であるということで ちる。さらに入射光の可成の割合のものが反射によって、或は格子における散乱 によって失われてしまう可能性がある。又開口部が小さいと回折による影響がよ シ深刻なものとなる。

最後に機械的な開口センサーでは約３乃至４倍の計算が必要である。従ってリア ルタイムでの実行が損なわれる。上記の使用可能なセンサーによって、機械的な 運動を伴うシステムの限界と機械的なグリッド、すなわち副開口部に伴うシステ ムの限界との間で選択が行なわれる。そのために効率的にデータを処理し、高分 解能を感知し、連続波の場合と同じように・やルスに適用可能な、信頼性のちる 低コストの高速波面感知が必要となる。

発明の概要 従って本発明は先行技術の欠点を克服するものである。本発明は必要なイメージ コンポーネントを生成するための単一検出アレイ及びイメージ方向装置を用いた 波面センサーを提供している。本発明は又ビームを方向付け、分割し、フィルタ Ｋかけて必要なイメージコンポーネントを生成するための種々のプリズム装置を 使用する。さらに、本発明ではコン・ヤクトな１つのユニット内で機能光学の映 像化と光学的な調節を行なってｈる。本発明では又電子プロセッサを波面センサ ーと関連づけて入力ビーム上にある位相エラーを決定して込る。

本発明は改良した波面センサーを備えた装置を提供している。本発明の波面セン サーには入力ビームサンプルを得る手段が具備されている。そしてビームサンプ ルは機構に導かれて２つのコンポーネントビームに分割される。この２つのコン ポーネントビームは第２の分割機構によって４つのコンポーネントビームに変換 される。４つのコンポーネントビームは機構に導かれて４つのコンポーネントビ ームの強度分配を検出する。検出機構と関連する電子プロセッサによシ強度分布 情報から、入力ビーム上にある位相エラーが決定される。

一般的に入力ビームを２つのコンポーネントビームに分割する機構は、一定の空 間関数のビーム分割要素を有するプリズムから構成されている。ビーム分割要素 １まプリズムの一部を通してビームエネルギー強度の約半分を反射し、プリズム の別の一部を通してビームエネルギー強度の約半分を送る。２つのコンポーネン トビームを４つのコンポーネントビームに分割する第２の機構は一般的Ｋ、イメ ージ平面に位置される直話はビームエネルギー強度のいくらか、約半分をプリズ ムの一部を通して反射し、ビームエネルギー強度の幾らか、約半分をプリズムの 別の一部を通して送る。

一般的にプリズムから放出される２つ及び４つのビームコンポーネントは相互に 予め決められた距離で空間的に分離されている。

さらに入力ビームの位相エラーあるいは収差を決定する方法が開示されている。

一定の空間関数ビーム分割器によってビームを２つのビームコンポーネントに均 一に分割するための機構に入力ビームを投射する。

２つのビームコンポーネントを線形ランプ関数ビーム分割器によって４つのビー ムコンポーネントに分割スるために、２つのビームコンポーネントを機構中に投 射する。この４つのビームコンポーネントを機構に投射して４つのビームコンポ ーネントの強度分布を検出する。この４つのビームコンポーネントの強度分布か ら入力ビームの位相エラーを決定する。

この方法では又入力ビーム、２つのビームコンポーネント、４つのビームコンポ ーネントをビームとして方向付ける手段が具備されておシ、ビームコンポーネン トはそれぞれの機構を通して各々のコンポーネントを生成する。さらに、基準光 源及びシステムを通しての基準ビームのパスがビームの整列のための設けられ、 応答能力、ドリフト及び較正のために検出器が具備されている。

下記の添付図面を参照した説明及び請求の範囲から、本発明のその他の目的及び 利点は当該分野の専門家には明確であろう。

図面の簡単な説明 第１図は本発明に従った光学線の概略図であシ、第２図は第１図に示されたは面 センサーの拡大斜視図である。

発明の詳細な説明 図面を参照すると、波面センサーが参照番号１０で示されている。一般的に入力 ビーム１６は入口瞳孔１２に導入され、ここには操作鏡を設けることができ、そ の半径は約１０である。そして入力ビーム１６は２素子の望遠インターフェイス １４を通過し、それは望まし？ｆ番号（ｆ／１２０が望ましい）を有しておシ、 入力ビーム１６を波面センサー１０に向ける。波面センサー１０Ｆｉ入力ピーム １６を２つのビームコンポーネントに分割する機構１８を備えている。２つのビ ームコンポーネントを受け取る機構２０は機構１８に近接して設けられている。

機構２０は２つのビームコンポーネントを４つのビームコンポーネン）Ｋ分割す る。

４つのビームコンポーネント５Ｂ、６０，６２及び６４は機構２２に向けられ、 この機構はビームコンポーネントを調節し中央に集め、ビームを発散して前記入 口瞳孔１２を再映像化する。４つのビームコン４−ネント５ｇ、６０．６２及び ６４は機構２４を通過して４つのビームコンポーネントの像を増強する。４つの ビームコンポーネントの強度分布を検出するための機構２６は増強機構２４に近 接して設けられている。

検出機構２６は入力ビームの位相エラーを決める電子プロセッサ（図示されてｂ なり）と関連している。

第２図には波面センサー１ｏの拡大図が示されておシ、理解が容易になっている 。一般的に入力ビームＪ６は視線調節機構２８を通シ、この機構によって適切に 方向付けられ、傾斜が与えられ、横方向にシフトされ、入力ビーム１６を整列し 、そして分割機構１８中に投射される。視線調節機構２８は入力ビームを適切な 方向に位置させる働きをする。一般的に視線調節機構２８には視差プレートが備 えられ、焦点レンズ、すなわち焦点源が入力ビームの平面に変換される。レンズ ３４はまた入力ビーム１６の投射線に配置されて、システム後方の入口瞳孔１２ の正しい位置づけを可能にしている。

基準ビーム３０は周期的にシステムを通って投射される。基準ビーム３０によっ て検出器に沿りたシステムの整列、応答性及びドリフト、較正の周期的なチェッ クができる。基準ビーム３０は視線調節機構３２を通ることもできる。基準ビー ム３０は以下説明するように入力ビームと似た様式でシステムを通過する。

分割機構１８は一般的に１つのプリズムから構成されている。このプリズムには ビーム分割面３８があシ、プリズムを通して入力ビーム１６を透過及び反射して 込る。ビーム分割面３８は一般的にビームエネルギー強度の約５０％がビーム分 割面３８ｔ−通して伝達され、残シの約５Ｑ％のエネルギーが反射されるように なっている。

一般的にプリズム１８及びビーム分割面３８は以下のように働く。入力ビーム１ ６＃ｉプリズムの１つの面４０に入力、ビーム分割面３８に向かって入る。入っ た入力ビーム１６がビーム分割面３８ｔｌＣ当たると、入力ビーム１６の約５０ ％のエネルギーがビーム分割面３８を通ってプリズム１８の第２の面４２に伝達 される。入力ビーム１６は面４２から反射してプリズム１８から出る。入力ビー ム１６の約５０％のエネルギーはビーム分割面３８に当ってビーム分割面３８に よってプリズム１８の第３の面４４に反射される。入力ビーム１６は面４４から 反射してプリズム１８から出る。一般的にプリズム１８はビームをビーム分割面 ３８で反射する五角形プリズム、およびビーム分割面３８を通過したビームのだ めの単一の反射プリズムである。このようにして形成された２つのコンポーネン トビーム４６及び４８は相互に予め決められた空間的な距離でプリズム１８から 投射される。選択された距離は、コンポーネントビーム４６及び４８が適切な間 隔を保持して第２の分割機構２０に入るような距離である。

２つのコンポーネントビーム４６及び４８は分割機構１８から分割機構２０に投 射される。分割機構２０はプリズム２０内の焦点面５２に線形ランフ″（ｒａｍ ｐ）ビーム分割器を備えた第２のプリズムである。２つのビームコンポーネント ４６及び４８は第１のプリズム面５１を通して焦点面５２上に投射され、ここで コンポーネントビーム４６及び４８が再び分割される。焦点面５２には１対の線 形ラングビーム分割器５３及び５５が備えられ、コンポーネントビーム４６及び ４８がプリズム２ｏを通過及び反射する。線形ラングビーム分割器５３及び５５ には２つのコンポーネントビーム４６及び４８をプリズム２ｏを通して適切に伝 達し反射するための予め決められた方向付は及び形がある。

プリズム２０Ｆｉまず２つのビームを５５で反射させ、次に面５６から反射させ る五角形プリズムであシ、かつ、プリズム２ｏけ２つのビームを５５を通して面 ５４から反射させる単一の屈折プリズムである。一般的に線形ラングビーム分割 器５５及び５３によって、ビームエネルギーのいくらかは焦点面５２を通過し、 残）のエネルギーは焦点面５２から反射される。ビームエネルギー強度の５０％ は焦点面５２を通って直接１／Ｃｆリズム２０の第２の面５４１Ｃ伝達される。

ビームは第２の面５４から反射されてプリズム２ｏから出る。

ビームエネルギー強度の５０％は焦点面５２から反射し、プリズム２０の第３の 面５６に向かう。このビームはプリズムを通って第３の面５６から反射されてプ リズムから出る。従って２つのコンポーネントビーム４６及び４８は上記のよう に直接１ｃ！形ラングビ一ム分割器５３及びｓｓｙ導かれて分割され、４つのコ ンポーネントビーム５ｇ、６０．６２及び６４ｙｋ形成する。４つのコンポーネ ントビームは相互に予め決められた望ましい距離で配置され、ビームが検出機構 ２６に投射されるときビームの強度分布を決めることができる。プリズム２０は ビームを分割するＫあたシ以下説明するように再度ビームを方向付ける。

４つのビームコンポーネント５Ｆ１，６０．６２及び６４は調節、集中、発散機 構２２に向けて投射される。調節、集中、発散機構２２は複数の４つのレンズ６ ６．６８．７０及び７２から構成され、各々のレンズは４つのコンポーネントビ ーム５Ｂ、６０，６２゜６４の１つを集中させ、調節し、発散させることで、４ つのコンポーネントビームが適切に集中して入口瞳孔１２の像が適切に検出機構 ２６に投影される。

４つのコンポーネントビーム５Ｂ、６０．６２及び５４ｉｊ調節、集中及び発散 機構２２を通って投射され、それぞれ強度増強機構２４の出口瞳孔７４，７６゜ ７８及び８０に集められる。強度増強機構２４は一般的に１ｘの幾何学的な像の 拡大を行なう像増強器である。像増強器は４つのコンポーネントビーム５８゜６ ０．６２．６２の強度を大きく増加させ、ビームの強度分布が検出機構２６Ｊ／ Ｃよって容易に判断できるようにする。

４つのコンポーネントビーム５Ｂ、６０．６２及び６４が像増強器２４を通過し た後、ビームは最小イヤラグで検出機構２６に向けられる。そのため検出機構２ ６は従来の方法によシ像増強器２４に接合されることが好ましい。検出機構２６ は４つのコンポーネントビームの強度分布を判断するだめの単一検出アレイチッ プである。検出アレイチップは一般的に４つの副開口部８２，８４，８６．ＢＢ を備え、各々に特定の方向パターンを保持し４つのコンポーネントビームの強度 分布を判断する。

第２図に示されているように、説明を判シ易くするために、副開口部８２，８４ ．８６及び８８には識別記号ｘ、　ｔ　ｘ２．　ｙ、　ｔ　ｙ２がつけられてい る。各々の副開口部には１対の参照番号９０及び９２が備えられている。参照番 号９０には円形部分９４及び線部分９６が含まれる。参照番号９２には矢印部分 ９８及び線部分１００が含まれる。参照番号９０及び９２の色色な位置は、４つ のコンポーネントビームの強度分布がどのように読みとられるかを説明している 。コンポーネントビームの読み取シは以下のようである。ビームは円形部分９４ から線部分９６へ読みとられ、副開口部の線部分１００の端部から矢部分９８へ 矢の方向に順次サンプリングされる。

例えばＸ、の副開口部８８に投射された強度分布が副開口部の右側にある円形部 分９４から、線部分９６の端部、すなわち左に読みとられ、強度は矢９８の方向 で線１００の端部から矢９８の点Ｋ、すなわち副開口部８８の底部から頂部に順 次サンプリングされる。

残少の副開口部の強度分布も同様にして読みとられる。

すなわち円形部９４からＩ！！９６の端部まで読み取シそして頭次矢の方向のビ ームを線１００の端部から矢９８の点にサンプリングする。このようにして、検 出アレイ２６は入力ビーム上の点の強度分布を検出器２６の副開口部の各々に沿 って同時に入力ビーム上の対応する点に関して読みとる。例えば１つの副開口部 での読み取シがこの開口部の円形部分９４で行なわれると、残夛の３つの副開口 部はこれら開口部上の円形部分９４における各々のビームコンポーネントの強度 分布を判断する。次にコンポーネントビームは線９６を通して読みとられ、符号 ９０に沿ったビームの同時読み取シが、４つの副開口部の各々において同時にす べての符号９０ｔ／Ｃ沿った同じ位置で行なわれるように、矢９８の方向で線１ ００の端部から矢９８の点に順次サンプリングされる。

そして検出アレイ２６からの信号は電子プロセッサによって変換され、電子プロ セッサは検出アレイ２６上の強度分布から得られる情報からの入力ビーム１６の 位相エラーを計算し決定する。

別のアレイ形態をとることも明らかに可能である。

他の実施例ではセンサーの分解能がよシ大きく、レーデビームを特徴付ける際に データ量の交換が行なわれる。しかし追加される処理は検出器、すなわち限定さ れた副開口部の数に比例する。各強度センサーからの読み取シはプロセッサの要 求によってアナログ／デジタルコンバータ（図示されていない）Ｋよりて二進形 態に変換される。

プロセッサは一点ごとに差を検査し、合計で除算して正規化する。図示されたシ ステムでは理論上０．５ずつの目盛シが適用される。さらに一般的には計算式は 以下のようである。

＊　ｂ）＝Ｋ　ＣＩ　−Ｉ、（ｄ　）　Ｃ”　ｔ（Ｘ）＋　ＩｒＹ（ｄ　）　− ’ここで３（→は点Ｘ１　ｅ　Ｘ２　＊　Ｙｌ　ｖ　Ｙ２　においての傾きであ 夛、工ｔ←）は関連する強度センサー上のＸ、　ｔ　Ｘ２゜Ｙ、　、　Ｙ２に対 応する点における伝達されたコンポーネントの強度で６．りＩｒ（ｄは関連する 強度センサー上のＸｌ　＃　Ｘ２　＊　Ｙｌ　’　Ｙ２に対応する点くおける反 射されたコンポーネントの強度であシ、Ｋは定数である。

Ｋは無限空間直径の線形シンｆフィルタの場合半分に等しい。この７アクターは 空間直径がランプフィルタ上のレーデビームスポットの空間分散に対して十分に 大きい場合に適用することができる。

さらにプロセッサによって較正決定に従りて入力の変換及びスケーリングが行な われる。図示されたシステムの内容では、４つの加算／減算及び３つの乗算／除 算が行なわれる。差の検出、正規化図の計算、及び２つの較正変換は４つの加算 ／減算である。理論的なスケールファクタ及び較正ファクタによる正規化、乗算 は３つの乗算を構成する。

２次元システムの場合は、各副開口部ごとに８つの加算及び６つの乗算が必要と される。これはパルス入力を評価することができる他のシステムと十分に匹敵す る。これらのシステムは副開口部ごとに６４の加算及び１８の乗算を必要とする のが通常である。本発明では又連続波測定に限定されたシステムにわたる有意の 計算上の利点がある。

波面センサー１０は一般的に以下のように作用する。入力ビーム１６が調節機構 ２８及びレンズ３４を通して、ビームが分割機構プリズム１８に投射されるよう に向けられる。ビーム１６は、ビームエネルギー強度の約５０％がビーム分割面 ３８を通してプリズムの面に直接伝達され、プリズムを通して反射されるように 分割される。ビームエネルギー強度の約５０％はビーム分割面３８によってプリ ズム面に反射され、プリズムを通して反射される。

記号９Ｑ及び９２から成る交差形状記号１０２は分割機構プリズムｘｓＫ入るビ ーム１６の方向を示す。

ビームが分割機構プリズム１ｓｙｃ、投射されそれを通過すると、ビームコンポ ーネント４６及び４８の方向はプリズム２８を出る時に交差形状記号１０４及び １０６によりて決定される。

コンポーネントビーム４６及び４１１１ｄ分割機構プリズム２０に入る。分割機 構プリズム２０は一般的に焦点面５２に設けられた線形ラングビーム分割器３８ である。コンポーネントビーム４６及び４８が焦点面５２に入るト、ビームＦｉ ４つのコンポーネントビーム５Ｂ、６０，６２．６４に分割される。２つのコン ポーネントビーム４６及び４８のエネルギー強度の約５０％は焦点面５２を通し てプリズムの面に伝達され、プリズムを通って反射される。２つのコンポーネン トビームのエネルギー強度の約５０％は焦点面５２によってプリズム面に反射さ れてプリズムを通して反射される。

ここで２つのコンポーネントビーム４６及び４８は、プリズム２０を出た４つの コンポーネントビーム５Ｂ、６０，６２．６４が入力ビーム１６からのエネルギ ー強度のそれぞれ約２５％になるように分割される。２つのコンポーネントビー ム４６及び４８のビームエネルギー強度の約５０％は焦点面５２を通して伝達さ れ、約５０％は焦点面５２から反射される。分割機構プリズム２０も又交差形状 記号１０８，１１０゜１１２．１１４によって示されるように、コンポーネント ビーム５Ｂ、６０，６２．６４を再度方向付けする。交差形状記号ＪＯＢ、１１ ０，１１２，１１４は記号９０及び９２とともに適切な方向にあって検出機構２ ６に読みとられる。従ってビームがビーム分割器１８及び２０を通過して、検出 機構２６によって読みとられるように適切な方向にある。

４つのコンポーネントビーム５Ｂ、６０．６２及び６４は調節、集中及び発散機 構２２のレンズ６６゜６Ｂ、７０．７２を通過して、そこで焦点が結ばれ像増強 器２４上に集中される。像増強器２４は４つのコンポーネントビームが検出機構 ２６によって容易に判断されるようにビームコンポーネントの強度を増大する。

検出機構２６は４つのコンポーネントビーム５８゜６０．６２．６４の強度分布 を判断し、その情報を電子プロセッサに伝達する。プロセッサは検出機構２６か らの情報を処理して入力ビーム１６に位相エラー、にこれは上記の勾配法を用す て行なう。ゼロ勾配、またはゼロエラーが発見されると、入力ビームを訂正する 必要はない。しかしゼロ勾配でないこと、すなわちエラーが発見されると、プロ セッサが適応光学部材（記載されていない）によって入力ビームを調節するだめ の命令を送る。

本発明では入力ビーム上の位相エラーを決めるのに用すられるコン／４クトなハ ードウェア装置による技術が提供される。本発明は、米国特許出願第７９３９４ １号（１９８５年１１月１日出願、名称“ソリッド−ステート波面勾配決定”、 この明細書の記載は参考のために本明細書に導入されている。）に記載されたシ ステムに用いられてｂる。

上記のようにして位相差を決定するための改善された波面センサーが提供される 。すでに記載したように添付の請求の範囲の技術的範囲を変更することなく、本 発明を変形、変更することができる。

国際調査報告 国際調査報告 ＵＳ８ε０１２０３ ＳＡ　２２３４５

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. １．入力ビームサンプルを得る手段と、このビームを２つのコンポーネントビー ムに分割するための第１の手段と、 前記２つのコンポーネントビームを４つのコンポーネントビームに分割するため の第２の手段と、前記４つのコンポーネントビームの強度分布を検出するための 手段から構成されている波面センサー。
2. ２．分割のための前記第１の手段がビーム分割器を備えており、このビーム分割 器はこの分割器を通して直接に前記ビームエネルギー強度の約半分を前記分割手 段の第１の面に反射させ、前記ビームエネルギー強度の約半分を前記分割手段の 第２の面にビーム分割器を通過して直接伝送する請求の範囲第１項記載の波面セ ンサー。
3. ３．前記分割手段は前記ビーム分割器で反射したビームのための五角プリズムお よび又前記ビーム分割器を通過するビームのための単一反射プリズムである請求 の範囲第２項記載の波面センサー。
4. ４．前記第２の分割手段は焦点面を有し、前記ビームエネルギー強度の約半分が この焦点面から前記第２の分割手段の第１の面に反射され、前記ビームエネルギ ー強度の約半分が前記焦点面を通して前記第２の分割手段の第２の面に面接伝達 されるように構成されている請求の範囲第２項記載の波面センサー。
5. ５．前記第２の分割手段がランプビーム分割器である請求の範囲第４項記載の波 面センサー。
6. ６．前記検出手段は、前記第２の分割手段から向けられた前記４つのコンポーネ ントビームを受ける予め決められた方向を保持する検出アレイである請求の範囲 第１項記載の波面センサー。
7. ７．基準ビームは前記センサーと関連し、前記基準ビームは前面センサーを通し て周期的に投影されて、前記センサーの整列を定期的にチェックし、また前記検 出手段の応答性およびドリフトを較正する請求の範囲第１項記載の波面センサー 。
8. ８．入力ビームサンプルを得るための手段と、前記ビームを２つのコンポーネン トビームに分割するための第１の手段と、 前記２つのコンポーネントビームを４つのコンポーネントビームに分割するため の第２の手段と、前記４つのコンポーネントビームの強度分布を検出するための 手段と、 前記強度分布から前記入力ビームの位相エラーを決めるための手段とを具備する 入力ビームの位相エラー決定装置。
9. ９．分割のための前記第１の手段がビーム分割器を有しており、このビーム分割 器はこの分割器を通して直接に前記ビームエネルギー強度の約半分を前記分割手 段の第１の面に反射させ、前記ビームエネルギー強度の約半分を前記分割手段の 第２の面にビーム分割器を通過して直接送っている請求の範囲第８項記載の波面 センサー。
10. １０．前記第２の分割手段は焦点面を有し、前記ビームエネルギー強度の約半分 がこの焦点面から前記第２の分割手段の第１の面に反射され、前記ビームエネル ギー強度の約半分が前記焦点面を通過して前記第２の分割手段の第２の面に直接 伝達されるように構成されている請求の範囲第９項記載の波面センサー。
11. １１．前記検出手段は、′前記第２の分割手段から向けられた前記４つのコンポ ーネントビームを受ける予め決められた方向を保持する検出アレイである請求の 範囲第１０項記載の波面センサー。
12. １２．入力ビームを与え、 前記ビームを第１の手段に投射してこのビームを２つのコンポーネントビームに 分割し、前記２つのコンポーネントビームを第２の手段に投射してこの２つのコ ンポーネントビームを４つのコンポーネントビームに分割し、 前記４つのコンポーネントビームをこのビームの強度分布を検出する手段に投射 し、 前記強度分布から前記入力ビームの位相エラーを決定する過程を含む入力ビーム の位相エラー決定方法。
13. １３．前記入力ビームを前記第１の分割手段に投射する前に方向付けを行う請求 の範囲第１２項記載の方法。
14. １４．前記第１の分割手段から投射される前記２つのコンポーネントビームを方 向付けて間隔をあける請求の範囲第１３項記載の方法。
15. １５．前記第２の分割手段から投射される前記４つのコンポーネントビームを再 度方向付けて間隔をあける請求の範囲第１４項記載の方法。
16. １６．前記第２の分割手段から投射される前記４つのコンポーネントビームを焦 点を結ばせ、集中させる請求の範囲第１５項記載の方法。
17. １７．前記第２の分割手段から投射される前記４つのコンポーネントビームを増 強する請求の範囲第１６項記載の方法。