JPS60116654A - 含フッ素第四級アンモニウム化合物 - Google Patents
含フッ素第四級アンモニウム化合物Info
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- JPS60116654A JPS60116654A JP58227344A JP22734483A JPS60116654A JP S60116654 A JPS60116654 A JP S60116654A JP 58227344 A JP58227344 A JP 58227344A JP 22734483 A JP22734483 A JP 22734483A JP S60116654 A JPS60116654 A JP S60116654A
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- hydrocarbon group
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な含フツ素第四級アンモニウム化合物に
関する。
関する。
本発明に係る新規含フツ素化合物は、一般素基またはフ
ッ素化ポリオキシ炭化水素基、Xlは炭素数1〜11の
炭化水素基、kは0またはl。
ッ素化ポリオキシ炭化水素基、Xlは炭素数1〜11の
炭化水素基、kは0またはl。
素または炭素数2〜4のアシル基を示す。〕、〜5の整
数を示す。〕mは1〜5oの整数、R1は水素または炭
素数1〜5の炭化水素基、Wはたけ相異なる炭素数1〜
2oの炭化水素基、1 + %X o)−tt基(但し、X は前記と同じ、qは1
〜20の整数を示す。)、−R,基(但しR/は#記と
同じ。)または−YX R/基(但し、R/、X およ
びYは前記と同じ。)を示す。〕または4 \ −IcR’基〔但し、R4は前記と同じ、R6は炭素数
2〜6の直鎖または分岐・・アルキレン基で1〜20菫
素、酸素または硫黄を含有することがある。〕z紘ハロ
ゲン、OR7基〔但し BTは水素、炭素数1〜20の
炭化水素基または炭素数2凡 は水素または炭素数1〜
2oの炭化水素基をC05R’[但し、R8ハ前記ト同
シ。] ’L 7’crt: C02R’〔但し、B/
l′i前記と同じ。〕を示す。)で表わされる含フツ素
第四級アンモニウム化合物である。
数を示す。〕mは1〜5oの整数、R1は水素または炭
素数1〜5の炭化水素基、Wはたけ相異なる炭素数1〜
2oの炭化水素基、1 + %X o)−tt基(但し、X は前記と同じ、qは1
〜20の整数を示す。)、−R,基(但しR/は#記と
同じ。)または−YX R/基(但し、R/、X およ
びYは前記と同じ。)を示す。〕または4 \ −IcR’基〔但し、R4は前記と同じ、R6は炭素数
2〜6の直鎖または分岐・・アルキレン基で1〜20菫
素、酸素または硫黄を含有することがある。〕z紘ハロ
ゲン、OR7基〔但し BTは水素、炭素数1〜20の
炭化水素基または炭素数2凡 は水素または炭素数1〜
2oの炭化水素基をC05R’[但し、R8ハ前記ト同
シ。] ’L 7’crt: C02R’〔但し、B/
l′i前記と同じ。〕を示す。)で表わされる含フツ素
第四級アンモニウム化合物である。
前記一般式で表わされる本発明に係る新規含フリオキシ
炭化水素基で好ましくは炭素数5〜15のフッ素化脂肪
族基またはフッ素化ポリオキシアルキレン基である。こ
のR/基の例としては、直鎖のまたは分岐したCtFg
t+t c但し、tは8〜21の整数を示す。)、H(
CtF2t+(但し、し、Uは0〜5の整数を示す。)
等があげられる。
炭化水素基で好ましくは炭素数5〜15のフッ素化脂肪
族基またはフッ素化ポリオキシアルキレン基である。こ
のR/基の例としては、直鎖のまたは分岐したCtFg
t+t c但し、tは8〜21の整数を示す。)、H(
CtF2t+(但し、し、Uは0〜5の整数を示す。)
等があげられる。
前記一般式中のX1〜X4およびR1−R6に含有され
る炭化水素基は、好ましくはアルキレン基でアル。この
アルキレン基は、炭素数が2以上の場合直鎖であってよ
いし分岐していてもよい。
る炭化水素基は、好ましくはアルキレン基でアル。この
アルキレン基は、炭素数が2以上の場合直鎖であってよ
いし分岐していてもよい。
前記一般式中のmは1〜5oの整数で好ましく5の整数
を示す。)で上記ルーは通常は水素である。
を示す。)で上記ルーは通常は水素である。
前記一般式中のB〜几 が炭素数1〜20の炭ルキル基
でめる。
でめる。
繭記一般式中の2がハロゲンの場合、このハロゲンは通
常沃素、臭素または塩素である。
常沃素、臭素または塩素である。
前記式中のR7またはRが炭素数1〜20の炭化水素基
の場合、この炭化水素基は、通常脂肪族基あるいは置換
または非置換アリール基もしくはアルアルチル基である
。
の場合、この炭化水素基は、通常脂肪族基あるいは置換
または非置換アリール基もしくはアルアルチル基である
。
次に本発明に係る新規含フツ素化合物の具体例を示すが
、もちろんこれらに限定されるものではな“0 (琺1
舶4衷引I九(う 輌 四 四 四 −−− 0000000 ■− 二 ImI リ g u Q ■頃 0 0 φ め IX) @6 ^ ^ ど) へ 0 0 Q O ’j+() Oo −。
、もちろんこれらに限定されるものではな“0 (琺1
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本発明に係る新規含フツ素第四級アンモニウム化合物の
製法は、通常 (a)式: %式% (式中、RlX−Xおよびmは前記と同じ。)で表わさ
れる化合物と式: (式中、R/およびXは前記と同じ。)、式: %式%(2) (式中、R/は前記と同じ、AはアルコキシA基を示す
。)、 式: %式%(3) (式中、R/は前記と同じ、Bはハロゲンを示す。)、 式: %式%(4) (式中、R/およびBは前記と同じ。)または式: %式%(5) (式中、R/、X’およびBは前記と同じ。)で衣わさ
れる化合物とを反応させ、式:%式% (式中、R/、X −X 、m オjヒRum記と同じ
、 〔但し、nは前記と同じ。〕を示す。)′ で表わされ
る化合物を得、 (b) 上記(&)で得られた化合物と、式:%式%(
6) (式中、Bは前記と同じ、Rは炭素数1〜20の炭化水
素基、(xLo−)−n基〔但し、Xi およびqは前
記と同じ。〕またはルーは前記と同じJを示す。) 式: (式中、Rfおよびxlは前記と同じ。)または式: %式% (8) (式中、BおよびR6は前記と同じ。)で表わされる化
合物を反応させ式: (式中、B、、 Hl 〜R8、X 1−X4、yl
オよびmは前記と同じ。) または式: %式% () (式中、R/、 R’、R6、XI 〜X4、Yl お
よびmは前記と同じ。) で表わされる化合物を得、 (C)上記(b)で得られた化合物と、式:%式%) (式中、BおよびBは前記と同じ。)、または式: %式% (式中、8および几は前記と同じ、QはSO暑、804
または00gを示す。)で表わされる化合物とを反応さ
せることからなる。
製法は、通常 (a)式: %式% (式中、RlX−Xおよびmは前記と同じ。)で表わさ
れる化合物と式: (式中、R/およびXは前記と同じ。)、式: %式%(2) (式中、R/は前記と同じ、AはアルコキシA基を示す
。)、 式: %式%(3) (式中、R/は前記と同じ、Bはハロゲンを示す。)、 式: %式%(4) (式中、R/およびBは前記と同じ。)または式: %式%(5) (式中、R/、X’およびBは前記と同じ。)で衣わさ
れる化合物とを反応させ、式:%式% (式中、R/、X −X 、m オjヒRum記と同じ
、 〔但し、nは前記と同じ。〕を示す。)′ で表わされ
る化合物を得、 (b) 上記(&)で得られた化合物と、式:%式%(
6) (式中、Bは前記と同じ、Rは炭素数1〜20の炭化水
素基、(xLo−)−n基〔但し、Xi およびqは前
記と同じ。〕またはルーは前記と同じJを示す。) 式: (式中、Rfおよびxlは前記と同じ。)または式: %式% (8) (式中、BおよびR6は前記と同じ。)で表わされる化
合物を反応させ式: (式中、B、、 Hl 〜R8、X 1−X4、yl
オよびmは前記と同じ。) または式: %式% () (式中、R/、 R’、R6、XI 〜X4、Yl お
よびmは前記と同じ。) で表わされる化合物を得、 (C)上記(b)で得られた化合物と、式:%式%) (式中、BおよびBは前記と同じ。)、または式: %式% (式中、8および几は前記と同じ、QはSO暑、804
または00gを示す。)で表わされる化合物とを反応さ
せることからなる。
通常、反応(1)、(2)または(5)で用いられる溶
媒は、アルコール類、エーテル類、炭化水素化合物、ハ
ロゲン化炭化水素化合物、芳香族化合物等、反応温度は
20〜150℃好ましくは40〜100t+、反応時間
は8〜lO時間好ましくは5て8時間である。
媒は、アルコール類、エーテル類、炭化水素化合物、ハ
ロゲン化炭化水素化合物、芳香族化合物等、反応温度は
20〜150℃好ましくは40〜100t+、反応時間
は8〜lO時間好ましくは5て8時間である。
通常、反応(3)または(4)で用いられる溶媒は、エ
ーテル類、炭化水素化合物、ハロゲン化炭化水素化合物
、芳香族化合物等、反応温度は−10〜100℃好まし
くは0〜50℃、反応時間は1〜5時間好ましくは2〜
8時間である。
ーテル類、炭化水素化合物、ハロゲン化炭化水素化合物
、芳香族化合物等、反応温度は−10〜100℃好まし
くは0〜50℃、反応時間は1〜5時間好ましくは2〜
8時間である。
通常、反応(6)、(7)または(8)は反応(1)、
(2)、(3)、(4)または(5)が終了した後、反
応(9)または(11)は、反応(6)、(7)または
(8)が終了した後、生成物を単離することなく反応混
合物にさらに原料を添加して実施さ扛、いずれも反応温
度は20〜150℃好ましくは40〜i o oc 、
反応時間は8〜10時間好ましくは5〜8時間である。
(2)、(3)、(4)または(5)が終了した後、反
応(9)または(11)は、反応(6)、(7)または
(8)が終了した後、生成物を単離することなく反応混
合物にさらに原料を添加して実施さ扛、いずれも反応温
度は20〜150℃好ましくは40〜i o oc 、
反応時間は8〜10時間好ましくは5〜8時間である。
なお、反応(6)および(9)で用いられる式二B−8
で表わされる化合物が同じものである場合、反応(6)
および(9)は通常同時に行なわれる。
で表わされる化合物が同じものである場合、反応(6)
および(9)は通常同時に行なわれる。
従来、式
で表わされる含フツ素化合物は知ら扛ている。しかしな
がら上記二種の化合物のうちの第四級アンモニウム塩は
水に溶解するものの低級アルコール以外の有機溶媒に対
する溶解性が悪く、他の一つは有機溶媒に溶解するもの
の、溶媒に溶解したときの溶媒の表面張力低下能が悪く
、その用途は限られていた。
がら上記二種の化合物のうちの第四級アンモニウム塩は
水に溶解するものの低級アルコール以外の有機溶媒に対
する溶解性が悪く、他の一つは有機溶媒に溶解するもの
の、溶媒に溶解したときの溶媒の表面張力低下能が悪く
、その用途は限られていた。
本発明に係る新規化合物は、上記従来の含フツ素化合物
に比し、有機溶媒に対する溶解性が格別すぐnておシ、
また有機溶媒に溶解したとき有機溶媒の表面張力を大き
く低下させる働きを有しており、各種ワックスや塗料の
レベリング剤、水成泡消化剤、合成界面活性剤あるいは
蛋白泡消火剤添加剤、粉末消火剤処理剤、繊維冷属〃真
等の処理液浸透剤、樹脂の帯電防止剤、非粘着剤、防汚
剤、農ビフィルムの防曇防霧剤さらには離型剤や乳化重
合用乳化剤等として好適に利用できるものである0 次に本発明に係る新規含フツ素第四級アンモニウム化合
物の合成例ならびに試験例および比較例を示す。
に比し、有機溶媒に対する溶解性が格別すぐnておシ、
また有機溶媒に溶解したとき有機溶媒の表面張力を大き
く低下させる働きを有しており、各種ワックスや塗料の
レベリング剤、水成泡消化剤、合成界面活性剤あるいは
蛋白泡消火剤添加剤、粉末消火剤処理剤、繊維冷属〃真
等の処理液浸透剤、樹脂の帯電防止剤、非粘着剤、防汚
剤、農ビフィルムの防曇防霧剤さらには離型剤や乳化重
合用乳化剤等として好適に利用できるものである0 次に本発明に係る新規含フツ素第四級アンモニウム化合
物の合成例ならびに試験例および比較例を示す。
(a)温度針、冷却器および攪拌装置を備えた100m
J(0,01モル)、HgN(CJI怠) sO((O
Hg ) 40) s 。
J(0,01モル)、HgN(CJI怠) sO((O
Hg ) 40) s 。
(CHg)aNHg 7.08 g (0,01モル)
およびインプロパノ−A/15gを仕込み、70℃で6
時間反応させた。反応混合物をガスクロマトグラフィー
で分析したところ、原料のエポキシド化合物は検出され
なかった。
およびインプロパノ−A/15gを仕込み、70℃で6
時間反応させた。反応混合物をガスクロマトグラフィー
で分析したところ、原料のエポキシド化合物は検出され
なかった。
(b)および(e) 上記得られた反応混合物に、(3
fImIa、97g(0,o85モル)を添加し、70
℃ で7時間さらに反応させた。反応終了後、反応混合
物から未反応のCHsIと溶媒のイソプロパツールを溜
去し、残渣をエーテルで洗浄し、標記の化合物t2.6
8g(収率90%)を得た。分析結果を次に示す。
fImIa、97g(0,o85モル)を添加し、70
℃ で7時間さらに反応させた。反応終了後、反応混合
物から未反応のCHsIと溶媒のイソプロパツールを溜
去し、残渣をエーテルで洗浄し、標記の化合物t2.6
8g(収率90%)を得た。分析結果を次に示す。
ブロモフェノールブルー試験
上記合成した化合物の1重量%水溶液10mjに、0.
2規定(1’) CHs 0(JONa 水溶液75m
1,0.2規定(7) (JiaCOOH水溶液925
mjおよびo、i重量%のブロモフェノールを溶解した
96% エチルアルコール溶液2Qmj を混合してな
る試薬を数滴滴下したところ、該水溶液は陽イオン界面
活性剤が存在することを示す深青色を呈した。
2規定(1’) CHs 0(JONa 水溶液75m
1,0.2規定(7) (JiaCOOH水溶液925
mjおよびo、i重量%のブロモフェノールを溶解した
96% エチルアルコール溶液2Qmj を混合してな
る試薬を数滴滴下したところ、該水溶液は陽イオン界面
活性剤が存在することを示す深青色を呈した。
元素分析
上記合成法および分析結果よシ標記化合物であることが
わかる。
わかる。
合成例2゜
((Js)s・■ の合成)
(a)温度計、冷却器および攪拌装置を備えた100m
jの四つ目フラスコにCyFtsOO,zOgHs 4
.42 g(0,01モ# )、HtN(CfI2)s
O(((Jh)40)s(CMg)aNHg7.08
g (0,01モル)およびイソプロパツール15gt
−仕込み70℃で7時間反応させた。反応混合物音ガス
クロマトグラフィーで分析したところ、原料のエステル
化合物は検出されなかった。
jの四つ目フラスコにCyFtsOO,zOgHs 4
.42 g(0,01モ# )、HtN(CfI2)s
O(((Jh)40)s(CMg)aNHg7.08
g (0,01モル)およびイソプロパツール15gt
−仕込み70℃で7時間反応させた。反応混合物音ガス
クロマトグラフィーで分析したところ、原料のエステル
化合物は検出されなかった。
(b)および(C) 上記得られた反応混合物に(3H
sI4.97g(0,086モル)會添加し、80℃
で7時間さらに反応させた。反応終了後、反応混合物か
ら未反応の0HsIと溶媒のイングロノ4ノールを溜去
し、残渣をエーテルで洗浄し、標記の化合物lt、47
g(収率90%)を得た。分析結果を次に示す。
sI4.97g(0,086モル)會添加し、80℃
で7時間さらに反応させた。反応終了後、反応混合物か
ら未反応の0HsIと溶媒のイングロノ4ノールを溜去
し、残渣をエーテルで洗浄し、標記の化合物lt、47
g(収率90%)を得た。分析結果を次に示す。
ブロモフェノール試験
合成例1の場合と同様の結果を得た。
町−核磁気共鳴分析(外部標準: CF a CO(M
I)赤外吸収分析 上記合成法および分析結果より標記化合物であることが
わかる。
I)赤外吸収分析 上記合成法および分析結果より標記化合物であることが
わかる。
合成例8. M
(CyFxsCMg(3Hz80gN(OHz)sO(
(CHz)io)s(al温度計、冷却器および攪拌装
置を備えた100mjの四つロフラスコにCrLbCH
zCHs80zCj41g 7g(0,01モル)、[
tN(OHz) 1o(((3Hz)40)s80分反
応させたのち室温で2時間反応させた。
(CHz)io)s(al温度計、冷却器および攪拌装
置を備えた100mjの四つロフラスコにCrLbCH
zCHs80zCj41g 7g(0,01モル)、[
tN(OHz) 1o(((3Hz)40)s80分反
応させたのち室温で2時間反応させた。
(b)および(0) 上記得られた反応混合物にCHg
I4.97g(0,085モル)およびインプロパツ
ール15gを添加し、80 ℃で7時間さらに反応させ
た。反応終了後、反応混合物から未反応の0nsIと溶
媒のイソプロパツールおよびトリクロロトリフルオロエ
クンを溜去し、残渣をエーテルで洗浄して標iieノ化
合物12.81g(収率92%)t−得た。分析結果を
次に示す。
I4.97g(0,085モル)およびインプロパツ
ール15gを添加し、80 ℃で7時間さらに反応させ
た。反応終了後、反応混合物から未反応の0nsIと溶
媒のイソプロパツールおよびトリクロロトリフルオロエ
クンを溜去し、残渣をエーテルで洗浄して標iieノ化
合物12.81g(収率92%)t−得た。分析結果を
次に示す。
ブロモフェノール試験
合成例1の場合と同様の結果を得た。
元素分析
上記合成法および分析結果より標記化合物であることが
わかる。
わかる。
合成例4゜
(a) 温度計、冷却器および攪拌装置を備えた100
mgの四つロフラスコに0aFztC!旺zOHzI
5.74g(0,01モル) 、 M2N(CHz )
80((CH2) 40) 8(Cng)ajGh
7.08 g (0,01モル)およびイングロパノー
ル15g を仕込み70′Gで6時間反応させた。反応
混合物をガスクロマトグラフィーで分析したところ、原
料の沃化物は検出されなかった。
mgの四つロフラスコに0aFztC!旺zOHzI
5.74g(0,01モル) 、 M2N(CHz )
80((CH2) 40) 8(Cng)ajGh
7.08 g (0,01モル)およびイングロパノー
ル15g を仕込み70′Gで6時間反応させた。反応
混合物をガスクロマトグラフィーで分析したところ、原
料の沃化物は検出されなかった。
(b) 上記得うrt、た反応混合物にOgHaBr
2.18g(0,02モル)を添加し、70℃ で5時
間反応させた。得られた反応混合物をカスクロマトグラ
フィーで分析したところ、C2H5Br は検出されな
かった。
2.18g(0,02モル)を添加し、70℃ で5時
間反応させた。得られた反応混合物をカスクロマトグラ
フィーで分析したところ、C2H5Br は検出されな
かった。
(e) 上記(b)で得られた反応混合物にCICHz
G1.27 g (0,01モ#)を添加し、70℃
で5時間反応させた。反応混合物をガスクロマトグラフ
ィーで分析したところ、CjCH2−Qは検出されなか
った。反応終了後、反応混合物からイングロパノールを
製表し、残渣をエーテルで洗浄し標記化合物1z、os
g (収率90チ)を得た。分析結果を次に示す。
G1.27 g (0,01モ#)を添加し、70℃
で5時間反応させた。反応混合物をガスクロマトグラフ
ィーで分析したところ、CjCH2−Qは検出されなか
った。反応終了後、反応混合物からイングロパノールを
製表し、残渣をエーテルで洗浄し標記化合物1z、os
g (収率90チ)を得た。分析結果を次に示す。
ブロムフェノールブルー試験
合成例1と同様の結果を得た。
元素分析
上記合成法および分析結果よシ標記化合物であることが
わかる。
わかる。
(C山ecK*晶CH+l!J(On巾o((cル)0
8(a) 合成例1の(a)と同様の手順で反応を行っ
た。
8(a) 合成例1の(a)と同様の手順で反応を行っ
た。
(b) 上記(a)で得られた反応混合物ニCjCI(
2C1l[ll0H1,61g(0,02モル)を添加
し、70℃で6待時間反応させた。反応混合物をガスク
ロマトグラフィーで分析したところ、0j(IlzCH
20u[検出されなかった。
2C1l[ll0H1,61g(0,02モル)を添加
し、70℃で6待時間反応させた。反応混合物をガスク
ロマトグラフィーで分析したところ、0j(IlzCH
20u[検出されなかった。
(C) 上記(b)で得らnた反応混合物に804(C
Hs)gl、89g(0,011モル)を添加し、60
℃で2時間反応させた。反応終了後、反応混合物からイ
ングロバノールt−ffI!去し、残渣をエーテルで洗
浄し、標記化合物18.08g(収率90%)を得た。
Hs)gl、89g(0,011モル)を添加し、60
℃で2時間反応させた。反応終了後、反応混合物からイ
ングロバノールt−ffI!去し、残渣をエーテルで洗
浄し、標記化合物18.08g(収率90%)を得た。
分析結果を次に示す。
ブロムフェノールブルー試験
合成例1と同様の結果を得た。
元素分析
上記合成法および分析結果よシ標記化合物であることが
わかる。
わかる。
試験例および比較例
下記の本発明に係る新規含フツ素第四級アンモニウム化
合物および比較例化合物の(I)1重量%を溶解させた
時の有機溶媒に対する溶解性と(I)トルエンに0.1
重量%浴解したときのトルエンの表面張力、すなわち底
面張力低下能、を示す。なお、トルエンの表面張力はウ
ィルヘルミー法で測定した。
合物および比較例化合物の(I)1重量%を溶解させた
時の有機溶媒に対する溶解性と(I)トルエンに0.1
重量%浴解したときのトルエンの表面張力、すなわち底
面張力低下能、を示す。なお、トルエンの表面張力はウ
ィルヘルミー法で測定した。
(以T命白、宏引−晩()
9 3 3 8
Q Q OQ
8 3 ′i 戸
開
タ
Q Q ” ”
中 有機溶媒に対する溶解性(1重量%溶液)表中、Q
は再啓、Δはやや不・透明または分散状態、Xは不溶を
示す。
は再啓、Δはやや不・透明または分散状態、Xは不溶を
示す。
([) )ルエンに0.1重量%溶解したときのトルエ
ンの表面張力(トルエンのみの表面張カニ 28.5ダ
イン/1) なお、化合物vii −’rxはトルエンに不溶のため
測定不能。
ンの表面張力(トルエンのみの表面張カニ 28.5ダ
イン/1) なお、化合物vii −’rxはトルエンに不溶のため
測定不能。
以上
特許出願人 ダイキン工業株式会社
手続補正書(自発)
昭和59年E月θρ日
特許庁長官 志 賀 学 殿 虚に
1、事件の表示
昭、t!+58年特許願第227344号2、発明の名
称 含フツ素第四級アンモニウム化合物 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 大阪市北区梅田1丁目12査39号新阪急ビル名
称 (285) ダイキン工業株式会社5、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」の欄および「発明の詳細な
説明」、の欄 6、補正の自答 ■、明細書の特許請求の範囲を別紙のとお、4します。
称 含フツ素第四級アンモニウム化合物 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 大阪市北区梅田1丁目12査39号新阪急ビル名
称 (285) ダイキン工業株式会社5、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」の欄および「発明の詳細な
説明」、の欄 6、補正の自答 ■、明細書の特許請求の範囲を別紙のとお、4します。
1 、 !:、細青の発明の詳細な説明の横巾、次の箇
所を補正します。
所を補正します。
(1)第4頁第1行、i YX” R/ Jと16’k
r−YX”t R/ Jに訂正します。
r−YX”t R/ Jに訂正します。
(2)第4頁第2行、[XIJO次に[、k−J ’&
加入します。
加入します。
(3)第6頁第10行、「アルアルチル」とあるを「ア
ルアルキル」に訂正します。
ルアルキル」に訂正します。
0((CH,)40)s (CH2)3t(C馬)3・
箔を加入します。
箔を加入します。
(5) 第8頁第3行、[C,Fl、50□N(CM、
)、、 0((CH,)40)s (C12)、’#(
CH,)、・マ」の次に(C4,1%、 80. N(
CH,)、 O((CH,)、 O)s (Cl2)3
’17<cH,>、(i’Jを加入します。
)、、 0((CH,)40)s (C12)、’#(
CH,)、・マ」の次に(C4,1%、 80. N(
CH,)、 O((CH,)、 O)s (Cl2)3
’17<cH,>、(i’Jを加入します。
■ e
O((CH2)40)8(CH2)3N(CH3)a−
IJ とあに「f正します。
IJ とあに「f正します。
る
正しlす。
Hs
CHaSOJにH」正します。
H
ab、iix頁第3行、fco Fle Q10 CH
CH2N(CH2)3θ CH35O,J とめるを 丁。
CH2N(CH2)3θ CH35O,J とめるを 丁。
四 第11頁第4行、l’−c、 pts CH,CH
25o2N(CH2)3とあるを[Cy F、5CH2
C12So、 N(CH,)、 0訂正します。
25o2N(CH2)3とあるを[Cy F、5CH2
C12So、 N(CH,)、 0訂正します。
時 第13頁第7行、「R/ X’ CHCH2J と
あるを[jXI、 CHCH2J に訂正します。
あるを[jXI、 CHCH2J に訂正します。
(141第13頁第8行、「Rfおよび)clJと1,
1rR7,X”およびk」に訂正します。
1rR7,X”およびk」に訂正します。
(ト)第13頁第14行、rR,X”C0BJ とある
をrRfX’kCOBJ に訂正します。
をrRfX’kCOBJ に訂正します。
ae 第13頁第15行、FB、Jの次に「、Xl お
よびk」を加入します。
よびk」を加入します。
aη 第13頁第17行、rRjX’ 502 BJ
とめるをrR,X1iSO2BJ に訂正します。
とめるをrR,X1iSO2BJ に訂正します。
(ト)第14頁第1行、「RfおよびB」 とろるを1
−Rf、Bおよびk」に訂正します。
−Rf、Bおよびk」に訂正します。
(至)第14負第3行、「Rfx五(CH2)11B」
とあるを「R7X1k(CH2) 、、HJにH1正し
ます。
とあるを「R7X1k(CH2) 、、HJにH1正し
ます。
四 第14負第4行、l’−XIJ(1)次にl’−1
k、I1」を加入します。
k、I1」を加入します。
1
■υ 第14頁第6行、[RI X’ Y’ N X”
0 (X’ 0 ) n。
0 (X’ 0 ) n。
RI
I4 NH2Jとあるをl”R/ X’> Y’ N
X20 (X30 ) 、。
X20 (X30 ) 、。
X’NH2Jに1J正します。
@ 第14負第フイす、「Xl 、、I4 、Jの次に
1k、」を加入します。
1k、」を加入します。
c14aFo5Tht第2行、[R,X’ CHCH2
J (!: ;hるをIR7X”kCHCH2J KH
J正します。
J (!: ;hるをIR7X”kCHCH2J KH
J正します。
■ 第15頁第31]、「RfおよびXIJ とあるを
IR,、xtおよびk」に訂正します。
IR,、xtおよびk」に訂正します。
1
(7)第15頁第9行、「Yl」の次に1、k」 を加
入します。
入します。
l
翰 第15頁第12行、[RI X” Y’ N X”
0(X’0)、、、X’I NR5JとおるをrRfX’kY’ N X20(X3
0)、。
0(X’0)、、、X’I NR5JとおるをrRfX’kY’ N X20(X3
0)、。
X’NRI′Jに訂正します。
■ 第15貞第13行、「Yl」の次に「、東」 を加
入します。
入します。
四 第17頁第7行、「式」とあるを1式:」にra■
正します。
正します。
す。
6υ 第詔頁第1行〜第32頁下から3行、「試験例で
使用した・・・定不能。」とあるを以下のように訂正し
ます。
使用した・・・定不能。」とあるを以下のように訂正し
ます。
θ
(CI4)3 ・r (ii)
(CH3)3・l (→
C,Fl、 CH2CH,SO,N< CH2)3−o
((CH2)40)2゜C7g Fty c)I2CH
,N(CH2)、0((CH2)40)、、 (CH,
)3CH。
((CH2)40)2゜C7g Fty c)I2CH
,N(CH2)、0((CH2)40)、、 (CH,
)3CH。
比較例で使用した従来の含フッ素化合物NH茸 儲1す
PC−431)(3M社製フルオロカーボン界面活性剤
)(xiiす (J’人下傘白、ン欠貢1;か楚〈、)(I) 有機溶
緘に対する溶解性(1重皺%溶液)表中、Oは可溶、Δ
はやや不透明または分散状態、Xは不溶を示す。
)(xiiす (J’人下傘白、ン欠貢1;か楚〈、)(I) 有機溶
緘に対する溶解性(1重皺%溶液)表中、Oは可溶、Δ
はやや不透明または分散状態、Xは不溶を示す。
(社) トルエンに0.1重量9&溶解したときのトル
エンの表面張力(トルエンのみの表向張カニ 2g、
5ダイン/a11) なお、化合物viii−xはトルエンに不一のため掬定
不能。。
エンの表面張力(トルエンのみの表向張カニ 2g、
5ダイン/a11) なお、化合物viii−xはトルエンに不一のため掬定
不能。。
(以 上)
(別綽ン
補正された特許請求の範囲
1、一般式:
(式中、R/は炭素数3〜21のフッ素化炭化水素基ま
たはフッ素化ホリオキシ炭化水木基、xlは炭素数1〜
11の炭化水素基、kは0または1.X”〜x4は同一
または相異なる炭素数2?R“ 〜6の炭化水素基、Yは一0H−C)1″−基〔但し、
R6は水素または炭素数2〜4のアンル基を示し、11
は1〜5の整数を示す。〕lは1〜50の整数、R1は
水素または炭素数1〜5の炭化水素基、W線 −または相異なる炭素数1〜20の炭化水素基、(−X
” 0−)−、H基(但し、xlは前記と同゛じ、9は
l−加のm数を示す。)、−R/基 (但しR/は前記
と同じ。)または−yxνf基(但し、Rf、は炭素数
2〜6の直鎖または分岐アルキレン基で、1〜20窒素
、酸素または硫黄を含有することかめる。〕2はハロゲ
ン、OR’基〔但し、R7は水素、炭素数1〜20の炭
化水素基または炭素数2〜20のアシ/I/基を示す。
たはフッ素化ホリオキシ炭化水木基、xlは炭素数1〜
11の炭化水素基、kは0または1.X”〜x4は同一
または相異なる炭素数2?R“ 〜6の炭化水素基、Yは一0H−C)1″−基〔但し、
R6は水素または炭素数2〜4のアンル基を示し、11
は1〜5の整数を示す。〕lは1〜50の整数、R1は
水素または炭素数1〜5の炭化水素基、W線 −または相異なる炭素数1〜20の炭化水素基、(−X
” 0−)−、H基(但し、xlは前記と同゛じ、9は
l−加のm数を示す。)、−R/基 (但しR/は前記
と同じ。)または−yxνf基(但し、Rf、は炭素数
2〜6の直鎖または分岐アルキレン基で、1〜20窒素
、酸素または硫黄を含有することかめる。〕2はハロゲ
ン、OR’基〔但し、R7は水素、炭素数1〜20の炭
化水素基または炭素数2〜20のアシ/I/基を示す。
〕、?
05OR”基〔但し、R6は水素または炭素数1〜1
20の炭化水素基を示す。〕
08OR’基〔但し、R8は前記と同じ。〕Co3R8
(但し、R8は前記と同じ。〕またはco、 R8(但
し、R8は前記と同じ。〕を示す。〕 で表わされる含フツ素第四級アンモニウム化合物。
(但し、R8は前記と同じ。〕またはco、 R8(但
し、R8は前記と同じ。〕を示す。〕 で表わされる含フツ素第四級アンモニウム化合物。
〈↓・人 上)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式: %式% (式中、R/は炭素数8〜21のフッ素化炭化水素基ま
たはフッ素化ポリオキシ炭化水素基、Xlは炭素数l〜
11 の炭化水素基、k(3Hz−基〔但し、R6は水
素または炭素数2または(CH2+□ 〔但し、nは1
〜5の整数を示す。〕mは1〜5oの整数、R1は水素
または炭素数1〜5の炭化水素基、Wはまたは相異なる
炭素数1〜20の炭化水素基+X’0+、H1ts (
但L、X’ t[記ト同1;、4は1〜20の整数を示
す。)、−R,基(但しR/は前記と同じ。)または−
Y、K R,基黄を含有することがある。〕2はハロゲ
ン、OR? 基〔但し、R7は水素、炭素数1〜20の
炭化水素基または炭素数2〜20のアシル() 素または炭素数1〜20の炭化水素基を示す。〕0μO
R・、1.工、よ1.ゆ。1、 CjOsB [但し、R8は前記と同じ。]または(3
0gR[但し、B は前記と同じ。]を示す。〕 で表わされる含フツ素第四級アンモニウム化合物。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58227344A JPS60116654A (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 含フッ素第四級アンモニウム化合物 |
EP84113916A EP0144844B1 (en) | 1983-11-18 | 1984-11-16 | Fluorine-containing compounds |
DE8484113916T DE3476798D1 (en) | 1983-11-18 | 1984-11-16 | Fluorine-containing compounds |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58227344A JPS60116654A (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 含フッ素第四級アンモニウム化合物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60116654A true JPS60116654A (ja) | 1985-06-24 |
Family
ID=16859329
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58227344A Pending JPS60116654A (ja) | 1983-11-18 | 1983-11-30 | 含フッ素第四級アンモニウム化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60116654A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4809050A (en) * | 1986-09-11 | 1989-02-28 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Copying machine for forming an image of a document at various magnifications |
JP2008231240A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Dic Corp | 帯電防止剤 |
JP2012057032A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Dic Corp | 帯電防止剤及びそれを用いたコーティング組成物 |
-
1983
- 1983-11-30 JP JP58227344A patent/JPS60116654A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4809050A (en) * | 1986-09-11 | 1989-02-28 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Copying machine for forming an image of a document at various magnifications |
JP2008231240A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Dic Corp | 帯電防止剤 |
JP2012057032A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Dic Corp | 帯電防止剤及びそれを用いたコーティング組成物 |
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