JPS60114810A - Optical element - Google Patents

Optical element

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Publication number
JPS60114810A
JPS60114810A JP22143283A JP22143283A JPS60114810A JP S60114810 A JPS60114810 A JP S60114810A JP 22143283 A JP22143283 A JP 22143283A JP 22143283 A JP22143283 A JP 22143283A JP S60114810 A JPS60114810 A JP S60114810A
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JP
Japan
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film
monomolecular
heating
light
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP22143283A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yukio Nishimura
征生 西村
Masahiro Haruta
春田 昌宏
Yutaka Hirai
裕 平井
Kunihiro Sakai
酒井 邦裕
Hiroshi Matsuda
宏 松田
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP22143283A priority Critical patent/JPS60114810A/en
Priority to US06/674,602 priority patent/US4796981A/en
Publication of JPS60114810A publication Critical patent/JPS60114810A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/0147Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on thermo-optic effects

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

PURPOSE:To render an optical element usable for a light modulator, and devices, etc., capable of displaying an image high in resolution and good in quality by forming a monomolecular film made of an org. compd. molecule having at least a hydrophobic part and a hydrophilic part, or the laminated layer of the monomolecular films, and a heating element for heating it, and a colored filter. CONSTITUTION:One or >=2 kinds of org. compds. are selected as a film-forming molecule from a group of higher fatty acids, cyanine dyes. azo dyes, phospholipids, and long-chain dialkyl ammonium salts. A suitable thickness of a single molecular film or the laminated layer of the monomolecular films 3 is 3-300mum, especially, 30-300mum. Materials usable for a base 1 are glass, metals, such as aluminum, plastics, ceramics, etc., and materials suitable for a protective base 4 are glass and plastics having pressure resistance as high as possible and light transmittance, and especially, colorless or light-colored ones are preferable. Said heating element 2 generates heat in various forms, such as a dot matrix, dot lines, lines, or insular forms, and heats the monomolecular layer or their laminated layer by heat conduction.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な光学素子、特には、光変調装置、表示装
置、記録装置および記憶装置等に利用する光学素子に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a novel optical element, and particularly to an optical element used in light modulation devices, display devices, recording devices, storage devices, and the like.

現在、各種の事務用機器や計測用機器に於ける端末表示
器、或は、テレビやビデオカメラ用モニターに於ける表
示器として、陰極線管(所謂、CRT)が広く利用され
ている。しかし、このC,R,、、Tに就いては、画質
、解像度、表示容量の面で銀塩若しくは電子写真法を用
いたハードコピー程度のレベルに達していないと言う不
満が残されている。又、CRTに代わるものとして、液
晶によりドツトマトリックス表示する所謂、液晶パネル
の実用化の試みも試されているが、この液晶パネルに就
いても、駆動性、信頼性、生産性、#天性の面で未だ満
足できるものは得られていない。
Currently, cathode ray tubes (so-called CRTs) are widely used as terminal displays in various office equipment and measuring instruments, or as displays in televisions and video camera monitors. However, there are still complaints about C, R,...T that they do not reach the same level as hard copies made using silver halide or electrophotography in terms of image quality, resolution, and display capacity. . In addition, as an alternative to CRT, attempts are being made to commercialize so-called liquid crystal panels that display dot matrix images using liquid crystals. I haven't been able to get anything that I'm satisfied with yet.

そこで、本発明は、斯かる技術分野に於ける従来技術の
解決し得なかった課題を解決することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to solve the problems that could not be solved by the conventional techniques in this technical field.

つまり、本発明の目的は、光変調装置や高解像度で良質
の画像を表示する、駆動性、生産性、耐久性、信頼性に
優れた表示装置、記録装置、記憶装置等に利用する光学
素子を子供することを目的とする。
In other words, an object of the present invention is to provide an optical element used in a light modulation device, a display device that displays high-resolution, high-quality images, a recording device, a storage device, etc. that has excellent drive performance, productivity, durability, and reliability. Aimed at children.

本発明の光学素子は、少なくとも疎水部分と親木部分と
を有する有機化合物分子からなる単分子膜又は単分子層
累積膜、該単分子膜又は該単分子層累積膜を加熱するた
めの発熱要素および有色のフィルタ層を備えたことを特
徴とする。
The optical element of the present invention includes a monomolecular film or a monomolecular layer stack consisting of organic compound molecules having at least a hydrophobic part and a parent wood part, and a heating element for heating the monomolecular film or the monomolecular layer stack. and a colored filter layer.

前記フィルタ層が分割された複数の異色部め集合体より
成ることが好ましい。
Preferably, the filter layer is composed of a plurality of divided aggregates of different color parts.

以下に本発明に係る表示素子の例を図面に従って説明す
る。第1図は簡単のために単分子膜又は単分子層累積膜
および発熱要素のみを描いた表示素子の断面図であり、
第1図(A)は透過型の表示素子DEを、また第一1図
(B)は反射型の表示素子DEを夫々示している。lは
基板、2は発熱要素、3は単分子膜または単分子層累積
膜、4は保護用基板である。
Examples of display elements according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of a display element in which only a monomolecular film or a monomolecular layer stack and a heat generating element are depicted for the sake of simplicity.
FIG. 1A shows a transmissive display element DE, and FIG. 1B shows a reflective display element DE. 1 is a substrate, 2 is a heating element, 3 is a monomolecular film or a monomolecular layer stack, and 4 is a protective substrate.

第1図(A)の透過型の表、示素子の作像1理は、次の
とおりである。
The principle behind the image formation of the transmission type display element shown in FIG. 1(A) is as follows.

作像のためにあるパターンに従い、発熱要素2の所望す
る位置を加熱し、加熱された発熱要素2上の単分子膜又
は単分子層累積膜3の加熱部5において物性変化を生ぜ
しめる。この表示素子の基板l側から平行光である照明
光7を入射させると、加熱部5以外の部分を通過する光
と、加熱部6を通過する光とでは屈折率等が異なり、光
路が変化する。この変化を直接、間接にとらえ表示する
A desired position of the heat generating element 2 is heated according to a certain pattern for image formation, and a physical property change is caused in the heated portion 5 of the monomolecular film or monomolecular layer accumulation film 3 on the heated heat generating element 2. When illumination light 7, which is parallel light, is incident from the substrate l side of this display element, the light passing through parts other than the heating section 5 and the light passing through the heating section 6 have different refractive indexes, and the optical path changes. do. Capture and display this change directly or indirectly.

第1図(B)の反射型の表示素子においては、照射光7
を透過型とは逆に保護用基板4側から入射し、単分子膜
又は単分子層累積膜3より基板l側に設けである不図示
の反射膜によって反射せしめ、加熱部5と加熱部5以外
の部において反射される反射光の光路の変化をとらえ表
示する。
In the reflective display element shown in FIG. 1(B), the irradiation light 7
Contrary to the transmission type, the light enters from the protective substrate 4 side and is reflected by a reflection film (not shown) provided on the substrate l side from the monomolecular film or monomolecular layer cumulative film 3. Changes in the optical path of reflected light reflected at other parts are captured and displayed.

第2図は本発明に係る表示素子の作像原理を更に具体的
に説明するための表示素子の断面図であり、第2図(A
)は透過型の表示素子を、第2図(B)は反射型の表示
素子を夫々示している。
FIG. 2 is a cross-sectional view of the display element for more specifically explaining the image forming principle of the display element according to the present invention, and FIG.
) shows a transmissive display element, and FIG. 2(B) shows a reflective display element.

図に於て、9は輻射線10を吸収して発熱する輻射線吸
収層、3は単分子膜又は単分子層累積膜、4は保護用基
板を示す。なお、第2図(B)に示されている反射型の
表示素子DEに於て、11は表示に利用する照明光7を
反射するための反射膜、12は単分子膜又は単分子層累
積膜3を予め加熱しておくための発熱体層である。これ
ら反射膜11.発熱体層12は必ずしも表示素子DEに
必要とするものではなく、必要に応じて設けられる。た
とえば、単分子膜又は単分子層累積膜3が加熱された時
、輻射線吸収一層9が光反射性を有する時には反射膜1
1は用いられないし、単分子膜又は単分子層累積膜の有
機化合物成膜分子のTcが低く輻射線!(1の輻射線吸
収層9への照射のみによる輻射線吸収層9の発熱のみで
充分応答性良く、単分子膜又は単分子層累積膜3が加熱
されて加熱部5が形成される場合は、発熱体層12は設
けられない。また、輻射線強度が充分に強い場合も発熱
体層12は不要である。但し、発熱体層12については
後述するので、第2図(B)においては発熱体層12は
ないものとして説明する。また、発熱体層12は必要に
応じて第2図(A)に示されている透過型の表示素子に
も設けられる。輻射線吸収層9は輻射線lOとりわけ赤
外線を効率的に吸収して発熱するが、それ自身は発熱す
ることによって溶融し難いものでなければならない、こ
の輻射線吸収層9は各種の無機或は有機材料を成膜(多
層膜を含む)して得られる。尚、この輻射線吸収層9自
身は膜厚数p程度なので、概して支持機能に乏しいから
、不図示のガラスやプラスチック等からなる輻射線透過
性支持板を基板として付加するのが一般的である。単分
子膜又は単分子層累積膜3を構成する有機化合物には後
述のような種類があり、一般に可視光線に対して透光性
を有するものが適しているが赤外線等。輻射線、!、対
し、−C透光性、あるヵ、否ヵ、は問わない。13は格
子で、単分子膜又は単分子層累積膜3が加熱されていな
い時、表示素子に入射して透過型の表示素子を透過した
り、反射型の表示素子によって反射されて表示素子から
射出する照明光7を遮光している。このように構成され
た表示素子DEに対して、図面右方から輻射線(特に、
赤外線) 10を照射すると、輻射線吸収層9の対応点
が発熱する。この様にして輻射線吸収層の1部が発熱す
ると、これに接しているかもしくは近接している部分の
単分子膜又は単分子層累積膜3は熱伝導によって加熱さ
れ、温度が上昇して、その物性が加熱前より変化し、単
分子膜又は単分子層累積膜3の高温領域の加熱部5が形
成される。この加熱部5を通過する照明光7は、加熱部
5を通過する時、第1図に於て前述したメカニズムによ
りその光路を変化させられる。この光路変化をうけた照
明光7の少なくとも一部は表示素子DEを射出した時、
格子13の開口を通過する。一方、加熱部5を通らない
照明光7は全て格子13によって遮光されるので、この
格子13を介して表示素子DEを見た場合、加熱部5が
形成された単分子膜又は単分子層累積膜の部分を通過す
る照明光と非加熱部を通過する照明光7とが識別される
In the figure, 9 is a radiation absorbing layer that absorbs radiation 10 and generates heat, 3 is a monomolecular film or a monomolecular layer stack, and 4 is a protective substrate. In the reflective display element DE shown in FIG. 2(B), 11 is a reflective film for reflecting the illumination light 7 used for display, and 12 is a monomolecular film or a monomolecular layer accumulation. This is a heating element layer for preheating the membrane 3. These reflective films 11. The heating element layer 12 is not necessarily required for the display element DE, but is provided as necessary. For example, when the monomolecular film or the monomolecular layer cumulative film 3 is heated, when the radiation absorbing layer 9 has light reflective properties, the reflective film 1
1 is not used, and the Tc of the organic compound film forming molecules of the monomolecular film or monomolecular layer stack is low and radiation! (If the heating part 5 is formed by heating the monomolecular film or the monomolecular layer cumulative film 3 and the responsiveness is sufficient due to the heat generation of the radiation absorption layer 9 only by irradiation to the radiation absorption layer 9 of 1), , the heating element layer 12 is not provided.Also, the heating element layer 12 is not required when the radiation intensity is sufficiently strong.However, since the heating element layer 12 will be described later, in FIG. The explanation will be made assuming that the heating element layer 12 is not provided.The heating element layer 12 is also provided in the transmission type display element shown in FIG. This radiation absorbing layer 9 is made of various inorganic or organic materials (multi-layered). The radiation absorbing layer 9 itself has a film thickness of about several micrometers, so it generally has a poor supporting function, so a radiation-transparent support plate made of glass, plastic, etc. There are various types of organic compounds constituting the monomolecular film or monomolecular layer stack 3 as described below, and those that are transparent to visible light are generally suitable. However, there are infrared rays, etc.In contrast to radiation, it does not matter whether -C is transparent or not.13 is a grating, and when the monomolecular film or the monomolecular layer accumulation film 3 is not heated, The illumination light 7 that enters the display element and passes through the transmissive display element or is reflected by the reflective display element and exits from the display element is blocked. Then, the radiation from the right side of the drawing (especially,
When irradiated with infrared rays 10, corresponding points on the radiation absorbing layer 9 generate heat. When a part of the radiation absorption layer generates heat in this way, the monomolecular film or monomolecular layer stack 3 in the part that is in contact with or in close proximity to it is heated by thermal conduction, and the temperature rises. Its physical properties change from before heating, and a heated portion 5 in a high temperature region of the monomolecular film or monomolecular layer stack 3 is formed. When the illumination light 7 passing through the heating section 5 passes through the heating section 5, its optical path is changed by the mechanism described above in FIG. When at least a part of the illumination light 7 that has undergone this optical path change exits the display element DE,
It passes through the opening in the grid 13. On the other hand, all the illumination light 7 that does not pass through the heating section 5 is blocked by the grating 13, so when viewing the display element DE through the grating 13, the monomolecular film or monomolecular layer accumulation on which the heating section 5 is formed The illumination light passing through the membrane part and the illumination light 7 passing through the non-heated part are distinguished.

勿論、非加熱部を通過する照明光7が、格子13の開口
を通過するようにすれば、加熱部5が形成された時に、
この部分を通過する照明光7は格子13によって遮光さ
れるので、照明光7が通過しない格子13の開口もあり
、前述の例の逆の形態の表示素子も可能となる。
Of course, if the illumination light 7 passing through the non-heating section is made to pass through the opening of the grating 13, when the heating section 5 is formed,
Since the illumination light 7 passing through this portion is blocked by the grating 13, there are also openings in the grating 13 through which the illumination light 7 does not pass, and a display element having the reverse form of the above-mentioned example is also possible.

格子13がない場合でも、単分子膜又は単分子層累積膜
3の加熱部5を通過する照明光7の方向と、非加熱部を
通過する照明光7の方向とは表示素子DEを射出してき
た場合、互いに異なっているので、どちらか一方の光束
がくる方向にむかって見た場合、光学的に照明光7は識
別される。
Even if there is no grating 13, the direction of the illumination light 7 passing through the heating section 5 of the monomolecular film or monomolecular layer stack 3 and the direction of the illumination light 7 passing through the non-heating section are the same as those emitted from the display element DE. Since the illumination light beams 7 are different from each other, the illumination light beams 7 can be optically distinguished when viewed in the direction in which either one of the light beams comes.

尚、表示素子DEに対して輻射線10を照射する場合、
所定の画像に対応する様にパターン状に照射することも
できるし、レーザー光源を利用して、輻射線lOをビー
ムとして多数のビームをドツト状に一括して照射するこ
ともできるが、lビーム又はlラインビームを輻射線吸
収層9上に走査させる方法をとることもできる。
Note that when irradiating the display element DE with the radiation 10,
It is possible to irradiate in a pattern corresponding to a predetermined image, or it is possible to use a laser light source to irradiate a large number of beams at once in the form of a dot using radiation lO as a beam. Alternatively, a method may be adopted in which the radiation absorbing layer 9 is scanned with an l-line beam.

又輻射線10を照射する方向は、第2図(A)に示され
ている透過型の表示素子DEの場合、図示例のみに限定
されない。つまり、保護用基板4及び単分子膜又は単分
子層累積膜3を輻射線lOが透過する場合には、輻射線
10を図面左方から照射することも可能である。尚1表
示の消去は単分子nり又は単分子層累積膜3の加熱部5
の冷却によって自然に為される。
Furthermore, the direction in which the radiation 10 is irradiated is not limited to the illustrated example in the case of the transmissive display element DE shown in FIG. 2(A). That is, when the radiation 10 passes through the protective substrate 4 and the monomolecular film or the monomolecular layer stack 3, it is also possible to irradiate the radiation 10 from the left side of the drawing. Note that the display 1 can be erased by heating the heating section 5 of the monomolecular or monomolecular layer cumulative film 3.
This is done naturally by cooling.

尚、以上では輻射線加勢によって表示画素を形成する方
法に就いて説明したが、本発明では第2図の輻射線吸収
層9を後述のように不図示の金属等から成る伝熱層に代
え、これに不図示の発熱素子を近接若しくは接触させて
単分子膜又は単分子層累積膜を伝導加熱する様に変形す
ることも可能である。
Although the method for forming display pixels by applying radiation has been described above, in the present invention, the radiation absorbing layer 9 in FIG. It is also possible to modify the monomolecular film or the monomolecular layer stack by bringing a heating element (not shown) in close proximity to or in contact with this to heat the monomolecular film or the monomolecular layer stack by conduction.

本発明では、表示画素の識別効果を更に高める為に、輻
射線吸収層9と単分子膜又は単分子層累積膜の間に前述
したように可視光線の反射膜11を別途、介在させるこ
ともできる。斯かる反射膜11は、熱伝導の際、それ自
身が溶融することのない高融点の金属材料又は金属化合
物材料によって形成する必要がある。
In the present invention, in order to further enhance the discrimination effect of display pixels, a visible light reflecting film 11 may be separately interposed between the radiation absorbing layer 9 and the monomolecular film or the monomolecular layer cumulative film as described above. can. Such a reflective film 11 needs to be formed of a high melting point metal material or metal compound material that does not melt itself during heat conduction.

本発明に於て有効な表示を得るためには単分子膜又は単
分子層累積膜3の輻射線吸収層9と接する面及びその近
傍が加熱される必要があるが、その加熱が単分子膜又は
単分子層累積膜3の保護用基板4に接する面及びその近
傍にまで及ぶことは要件ではない、しかしながら、単分
子膜又は単分子層累積膜3の輻射線吸収層9の加熱面に
接する面及びその近傍の温度が周辺領域の単分子膜又は
単分子層累積膜3の温度より高い程、表示素子DEの表
示のコントラストは向上することが実験の結果判った。
In order to obtain an effective display in the present invention, it is necessary to heat the surface of the monomolecular film or the monomolecular layer cumulative film 3 in contact with the radiation absorbing layer 9 and its vicinity. Or, it is not a requirement that the surface of the monomolecular layer stacked film 3 that is in contact with the protective substrate 4 and the vicinity thereof be covered. Experiments have shown that the higher the temperature of the surface and its vicinity is than the temperature of the monomolecular film or monomolecular layer stack 3 in the peripheral region, the better the display contrast of the display element DE is improved.

更に、これを積極的に利用すれば、単分子膜又は単分子
層累積膜3を加熱するための熱量を異ならしめることに
より中間調を表示することが可能になる。′ 尚、輻射線吸収層9上に輻射線10を照射する照射スポ
ット径は小さい程表示のコントラストが良く好適な輻射
線lOのスポット径(直径)は0.5#Lm〜100I
L11位が適当である。
Furthermore, if this is actively utilized, it becomes possible to display halftones by varying the amount of heat for heating the monomolecular film or the monomolecular layer stack 3. ' Note that the smaller the irradiation spot diameter for irradiating the radiation 10 onto the radiation absorbing layer 9, the better the contrast of the display, and the preferred spot diameter (diameter) of the radiation 10 is 0.5#Lm to 100I.
L11th position is appropriate.

しかしながら幅2鵬1長さ10層層の矩形状の光束の輻
射線lOで輻射線吸収層9を照射しても表示像は得られ
るものである。本発明の詳細な説明に於てしばしば用い
る単分子膜又は単分子層累積膜の加熱部5とは後者の範
囲も含むものである。もっとも、単分子nり又は単分子
層累積膜の加熱部5が微小でなくとも加熱面の温度が一
様でないために加熱部5に於ける光の光路の方向と非加
熱部に光の光路の方向に差異が生ずれば識別効果は生ず
る。
However, a display image can be obtained even if the radiation absorbing layer 9 is irradiated with radiation lO of a rectangular light beam having a width of 2 cm and a length of 10 layers. In the detailed description of the present invention, the heating section 5 of a monomolecular film or a monomolecular layer stacked film, which is often used, includes the latter range. However, even if the heated part 5 of a monomolecular or monomolecular layer stack film is not very small, the temperature of the heated surface is not uniform, so the direction of the optical path of light in the heated part 5 and the optical path of light in the non-heated part are different. If a difference occurs in the direction of , a discrimination effect occurs.

したがって、本発明に於ては、単分子膜又は単分子層累
81膜の加熱部5を微小範囲に限定するものではない。
Therefore, in the present invention, the heating portion 5 of the monomolecular film or monomolecular layer stack 81 film is not limited to a minute range.

本発明においては、第2図(B)に示されているように
、表示画素としても単分子膜又は単分子層累積膜の加熱
部5の形成速度を大いに速めるために、反射膜を用いな
い場合は、表示素子DEの輻射線吸収層9と単分子膜又
は単分子層累積膜3との間に、反射膜を用いる場合は、
輻射線吸収層9と反射膜11との間にジュール熱によっ
て発熱する発熱体層12を設け、所定の単分子膜又は単
分子層累積膜を予熱することが望ましい場合もある。
In the present invention, as shown in FIG. 2(B), in order to greatly speed up the formation speed of the heating section 5 of the monomolecular film or monomolecular layer cumulative film even as a display pixel, a reflective film is not used. In this case, when a reflective film is used between the radiation absorption layer 9 and the monomolecular film or monomolecular layer cumulative film 3 of the display element DE,
In some cases, it may be desirable to provide a heating element layer 12 that generates heat by Joule heat between the radiation absorbing layer 9 and the reflective film 11 to preheat a predetermined monomolecular film or monomolecular layer stack.

尚、この時、輻射線吸収層9或は反射膜11が導体であ
る場合には、これ等と発熱体層12との間に不図示の絶
縁層を設けることが望ましい。
At this time, if the radiation absorbing layer 9 or the reflective film 11 is a conductor, it is desirable to provide an insulating layer (not shown) between them and the heat generating layer 12.

このような発熱体層12としては、はぼ、輻射線ビーム
の−又は複数の走査線に対応する線状発熱体や格子状発
熱体(何れも不図示)等が好適である。発熱体層12が
線状発熱体の場合、この幅方向に於て発熱部は微小であ
るから良好な表示結果が得られるものと思われる。この
とき輻射線lOの輻射線吸収層9への照射と発熱体層1
2による単分子膜又は単分子層累積膜3の加熱とを同期
させるのが好適である。この様な発熱体層12の素材と
しては、硼化ハフニウムや窒化タンタル等に代表される
金属化合物、ニクロム等の合金を挙げることができる。
As such a heating element layer 12, a dowel, a linear heating element corresponding to one or more scanning lines of a radiation beam, a grid-shaped heating element (none of which are shown), etc. are suitable. When the heating element layer 12 is a linear heating element, it is thought that good display results can be obtained because the heating portion is minute in the width direction. At this time, the radiation absorption layer 9 is irradiated with radiation lO and the heating element layer 1
It is preferable to synchronize the heating of the monomolecular film or monomolecular layer stack 3 by 2. Examples of the material for such a heating element layer 12 include metal compounds such as hafnium boride and tantalum nitride, and alloys such as nichrome.

又、本発明に於ては、単分子膜又は単分子層累積膜に直
接、腐蝕性の構成要素が接触する様な表示素子の構成は
、素子の寿命を低下させることになるので、避けるべき
である。単分子膜又は単分子層累積膜に腐蝕性の構成要
素が接している構成では、化学腐蝕、熱酸化等が生じて
表示素子が損傷又は劣化する場合が大きいからである。
Furthermore, in the present invention, the structure of the display element in which a corrosive component comes into direct contact with the monomolecular film or the monomolecular layer stack should be avoided, since this will shorten the life of the element. It is. This is because in a configuration in which a corrosive component is in contact with a monomolecular film or a monomolecular layer stack, chemical corrosion, thermal oxidation, etc. occur, and the display element is often damaged or deteriorated.

従って、この様な場合には、単分子膜又は単分子層累積
膜と腐蝕性の構成要素の界面に、耐蝕性の保護膜(不図
示)を形成することが望ましい。
Therefore, in such cases, it is desirable to form a corrosion-resistant protective film (not shown) at the interface between the monomolecular film or the monomolecular layer stack and the corrosive component.

そして、この保護膜の素材としては、酸化硅素、酸化チ
タン等の誘電体や耐熱性プラスチック等を挙げることが
できる。この保護膜を反射膜がその機能を兼ねることも
ある。
Examples of the material for this protective film include dielectrics such as silicon oxide and titanium oxide, heat-resistant plastics, and the like. A reflective film may also serve as this protective film.

なお、輻射線吸収層9として金属等を用いるときは、こ
れは、一般に、基板としての輻射線透過性支持板上に成
膜されるのが普通であるから、輻射線吸収層9を加熱し
た時、これは外部空気によって酸化される心配はない、
輻射線吸収層9の輻射線吸収率が完全でない場合には、
これに輻射線lOを照射する側に反射防止膜(不図示)
を施すことにより輻射線吸収層9の輻射線10の吸収率
を著しく高めることもできる。
Note that when a metal or the like is used as the radiation absorption layer 9, it is generally formed into a film on a radiation-transparent support plate as a substrate. There is no need to worry about it being oxidized by external air,
If the radiation absorption rate of the radiation absorption layer 9 is not perfect,
An anti-reflection film (not shown) is placed on the side that is irradiated with radiation lO.
By applying this, the absorption rate of the radiation 10 of the radiation absorption layer 9 can be significantly increased.

第3図は、本発明に係るカラー表示素子の例であり、説
明の便宜上、上半分を透過型の表示素子を、下半分を反
射型の表示素子として断面図で示しである。9は輻射線
吸収層、11は反射膜であり、本図の上半分に示した透
過型の表示素子には設けていない、28は、カラーモザ
イクフィルタで、これの具体的構成及び製造技術に就い
ては、既に、特公昭52−1301114号公報及び特
公昭52−38019号公報に於て詳しく説明されてい
る通りであるか、 ら、これらを援用することとして、
ここでは、詳細な説明を省略する。3は単分子膜又は単
分子層累積膜、4は保護用基板、28はカラーモザイク
フィルタを示す。
FIG. 3 shows an example of a color display element according to the present invention, and for convenience of explanation, the upper half is a transmissive display element and the lower half is a reflective display element in a cross-sectional view. 9 is a radiation absorption layer, 11 is a reflective film, which is not provided in the transmissive display element shown in the upper half of this figure, and 28 is a color mosaic filter, the specific structure and manufacturing technology of which are described below. This is already explained in detail in Japanese Patent Publication No. 52-1301114 and Japanese Patent Publication No. 52-38019.
A detailed explanation will be omitted here. 3 is a monomolecular film or a monomolecular layer stack, 4 is a protective substrate, and 28 is a color mosaic filter.

図示例に於て、カラーモザイクフィルタ28の赤色フィ
ルタ部(R)に接する単分子膜又は単分子層累積膜3は
輻射線10を吸収した輻射線吸収層9により熱伝導加熱
され、この上に単分子膜又は単分子層累積膜の加熱部5
が生ずると、反射膜11により反射されるか、もしくは
輻射線吸収層9を透過してきた平行照明光7は単分子膜
又は単分子層累積膜の加熱部5を通過することにより、
前述のようなメカニズムにより、破線で示したような加
熱部5がない場合に通過してきた光の光路とは異なった
2点鎖線で示したような屈西した光路を通って、表示素
子DE外に射出してくる。白色光が赤色フィルタ部(R
)に入射した場合、表示素子DEから出てくる透過光も
しくは反射光は、赤が視覚される光(以下、赤色光とい
う)のみである、青色フィルタ部(B)及び緑色フィル
タ部(G)を通過してくる光についても赤色フィルタ部
(R)を通過する前述の光の進路と同様である。但し、
第3図の場合、緑色フィルタ部CG)ついては、加熱部
5を通過しない場合の光線のみ図示しである。また、入
射光が白色光の場合、青色フィルタ部(B)を通過して
きた光は、青が視覚される光(以下、青色光という)の
みであり、また緑色フィルタ部(G)を通過してきた光
は、緑が視覚される光(以下、緑色光という)のみであ
る、この単分子膜又は単分子層累積膜の加熱部5を通過
してくる光の方向に向って、表示素子DEを見た場合、
不図示の観察者は、加色法による擬似カラーを視覚する
ものである0例えば、相隣接したカラーモザイクフィル
タ28の赤色フィルタ部(R)、緑色フィルタ部(G)
、青色フィルタ部(B)に於て同時に単分子膜又は単分
子層累積膜3を加熱して加熱部5が形成された時には、
不図示の観察者は白色を視覚することができる。
In the illustrated example, the monomolecular film or monomolecular layer cumulative film 3 in contact with the red filter portion (R) of the color mosaic filter 28 is heated by thermal conduction by the radiation absorbing layer 9 that absorbs the radiation 10, and is heated by the radiation absorption layer 9 that absorbs the radiation 10. Heating section 5 of monomolecular film or monomolecular layer cumulative film
When this occurs, the collimated illumination light 7 that has been reflected by the reflective film 11 or transmitted through the radiation absorption layer 9 passes through the heating section 5 of the monomolecular film or monomolecular layer accumulation film, thereby causing
Due to the above-mentioned mechanism, light travels outside the display element DE through a curved optical path as shown by the two-dot chain line, which is different from the optical path of the light that would have passed in the absence of the heating section 5 as shown by the broken line. It comes out. The white light passes through the red filter section (R
), the transmitted light or reflected light that comes out from the display element DE is only the light that makes red visible (hereinafter referred to as red light); the blue filter section (B) and the green filter section (G). The path of the light passing through the red filter section (R) is also the same as the path of the light passing through the red filter section (R). however,
In the case of FIG. 3, only the light rays that do not pass through the heating section 5 are shown for the green filter section CG). Furthermore, when the incident light is white light, the light that has passed through the blue filter section (B) is only the light that makes blue visible (hereinafter referred to as blue light), and the light that has passed through the green filter section (G). The light is only the light that makes green visible (hereinafter referred to as green light).The display element DE If you see
An observer (not shown) sees the pseudo colors created by the additive coloring method.
, when the heating part 5 is formed by simultaneously heating the monomolecular film or the monomolecular layer cumulative film 3 in the blue filter part (B),
An observer (not shown) can see white.

また、第2図に於て説明したように、表示素子DEの前
面に不図示の遮光格子を配置することにより、表示素子
DEから出てくる光の内、単分子膜又は単分子層累積膜
の加熱部5を通過してくる光のみを不図示の遮光格子の
開口に通すことにより、更に明瞭な加色法による疑似カ
ラー表示をうることができる。
Furthermore, as explained in FIG. 2, by arranging a light-shielding grating (not shown) in front of the display element DE, the light emitted from the display element DE can be absorbed by a monomolecular film or a monomolecular layer cumulative film. By passing only the light that has passed through the heating section 5 through the opening of a light-shielding grating (not shown), a clearer pseudo-color display using the additive coloring method can be obtained.

本発明の光学素子の単分子膜または単分子層累積膜の構
成分子としては、分子内に疎水部分と親木部分を有する
有機化合物であれば広く用いることができる。
As the constituent molecules of the monomolecular film or monomolecular layer stack of the optical element of the present invention, a wide variety of organic compounds can be used as long as they have a hydrophobic part and a parent part within the molecule.

このような有機化合物としては、以下のものが例示され
る。
Examples of such organic compounds include the following.

(1)高級脂肪酸 CH3(CH2)14 COOH CH3CCH2) lb C00H CH3(OH2) 、8’ C00H CH3(CH2)4 (CH=CI(GH214(CH
2)2 C00)l()(2= ()I(C;R2)!
1 C00HCH2= CHCCH2) +s C00
HCH2= 0H(CH2)2゜C00)l(R3(C
H2) 17 CC0OH 1 CR2 CH3(CH2)a Cia C−CミC(CH2)s
 C00HOH3(CH2)9c=c−c膳C(C:H
z)a C00H(:R3(CH2) 1□ C=C−
CミC(C)Iz)a C00HCH3(CH2)13
 C=C−C= CCCH2)s (:00H(2)シ
アニン色素 一般式 工 X−(CI = C’H計−X ′ (式中Xは■または■の基であり、X′は■〜Xの基で
あり、nは0または正の整数である)で示されるシアニ
ン色素。
(1) Higher fatty acid CH3(CH2)14 COOH CH3CCH2) lb C00H CH3(OH2), 8' C00H CH3(CH2)4 (CH=CI(GH214(CH
2)2 C00)l()(2= ()I(C;R2)!
1 C00HCH2= CHCCH2) +s C00
HCH2= 0H(CH2)2゜C00)l(R3(C
H2) 17 CC0OH 1 CR2 CH3(CH2)a Cia CCmiC(CH2)s
C00HOH3(CH2)9c=cc set C(C:H
z)a C00H(:R3(CH2) 1□ C=C-
CmiC(C)Iz)a C00HCH3(CH2)13
C=C-C= CCCH2)s (:00H(2) General formula of cyanine dye: X group, n is 0 or a positive integer).

tl (11) (1) (至) (至) IIからXの式中、ZはN−R1,05Se、C(Me
)’zであり、YはH又1* 2− M e テあり、
R1は01〜4のアルキル基であり、R2はC1゜〜3
0のアルキル基である。
tl (11) (1) (to) (to) In the formulas II to X, Z is N-R1,05Se, C(Me
)'z, Y is H or 1* 2- M e te,
R1 is an alkyl group of 01-4, and R2 is C1°-3
0 alkyl group.

一般式Iで示されるシアニン色素の具体例を以下に例示
する。
Specific examples of the cyanine dye represented by general formula I are illustrated below.

R4R1 (3)アゾ色素 (R2はC1゜〜3oのアlレキル基である。)(4)
リン脂質 レシチン スフィンゴミエリン プラスマロゲン ケファリン (5)長鎖シアルキリアンモニウム塩 (Illは、。〜J0の整数) 前記有機化合物を用いて単分子膜または単分子層累積膜
を作成する方法としては、例えば、■。
R4R1 (3) Azo dye (R2 is a C1-3o alkyl group) (4)
Phospholipid lecithin sphingomyelin plasmamalogen kephalin (5) long chain sialkyl ammonium salt (Ill is an integer of .~J0) A method for creating a monolayer film or a monolayer cumulative film using the above organic compound is as follows. , for example, ■.

Langmuirらの開発したラングミュア・プロジェ
ット法(LB法)を用いる。ラングミュア・ブロジェッ
ト法は、分子内に親木基と疎水基を有する構造の分子に
おいて、両者のバランス(両親媒性のバランス)が適度
に保たれているとき、分子は水面上で親木基を下に向け
て単分子の層になることを利用して単分子膜または単分
子層の累積膜を作成する方法である。水面上の単分子層
は二次元系の特徴をもつ。分子がまばらに散開している
ときは、一分子当り面積Aと表面圧■との間に二次元理
想気体の式、 nA= kT が成り立ち、“気体膜°゛となる。ここに、kはポルツ
マン定数、Tは絶対温度である。Aを十分小さくすれば
分子間相互作用が強まり二次元固体の°°凝縮膜(また
は固体膜)′”になる。凝腟膜はガラスなどの基板の表
面へ一層ずつ移すことができる。この方法を用いて、単
分子膜または単分子層累積膜は例えば次のようにして製
造する。
The Langmuir-Prodgett method (LB method) developed by Langmuir et al. is used. The Langmuir-Blodgett method is based on the Langmuir-Blodgett method, in which a molecule has a parent wood group and a hydrophobic group within the molecule, and when the balance between the two (balance of amphiphilicity) is maintained appropriately, the molecule has a parent wood group on the water surface. This is a method of creating a monomolecular film or a cumulative film of monomolecular layers by using the fact that the film turns downward into a monomolecular layer. A monolayer on the water surface has the characteristics of a two-dimensional system. When the molecules are sparsely dispersed, the two-dimensional ideal gas equation, nA = kT, holds between the area per molecule A and the surface pressure ■, resulting in a “gas film °゛.Here, k is Portzmann's constant, T, is the absolute temperature.If A is made sufficiently small, the intermolecular interaction becomes strong, resulting in a two-dimensional solid condensation film (or solid film). The coagulated vaginal membranes can be transferred layer by layer to the surface of a substrate such as glass. Using this method, a monomolecular film or a monomolecular layer stack is produced, for example, as follows.

まず有機化合物を溶剤に溶解し、これを水相中に展開し
、有機化合物を膜状に析出させる。次にこの析出物が水
相上を自由に拡散して広がりすぎないように仕切板(ま
たは浮子)を設けて展開面積を制限して膜物質の集合状
態を制御し、その集合状態に比例した表面圧■を得る。
First, an organic compound is dissolved in a solvent, and this is expanded into an aqueous phase to precipitate the organic compound in the form of a film. Next, to prevent this precipitate from freely diffusing on the aqueous phase and spreading too much, a partition plate (or float) is installed to limit the area of development and control the state of aggregation of the membrane material, and Obtain surface pressure ■.

この仕切板を動かし、展開面積を縮少して膜物質の集合
状態を制御し、表面圧を徐々に上昇させ、累積膜の製造
に適する表面圧■を設定することができる。この表面圧
を維持しながら静かに清浄な基板を・垂直に上下させる
ことにより単分子膜が基板上に移しとられる。単分子膜
は以上で製造されるが、単分子層累積膜は、前記の操作
を繰り返すことにより所望の累積度の単分子層累積膜が
形成される。
By moving this partition plate, the developed area can be reduced to control the state of aggregation of the film material, and the surface pressure can be gradually increased to set the surface pressure (2) suitable for producing a cumulative film. The monomolecular film is transferred onto the substrate by gently raising and lowering the clean substrate vertically while maintaining this surface pressure. A monomolecular layer film is produced as described above, and a monomolecular layer cumulative film having a desired degree of accumulation is formed by repeating the above-mentioned operations.

成膜分子は、前記の有機化合物から1種または2種以上
選択される。
The film-forming molecules are selected from one or more of the above organic compounds.

単分子膜又は単分子層累積膜の厚さは3〇八〜300 
JL IIが適しており、特に3QOOA 〜30 g
 mが適している。
The thickness of the monomolecular film or monomolecular layer cumulative film is 308 to 300.
JL II is suitable, especially 3QOOA ~30 g
m is suitable.

単分子層を基板上に移すには、上述した垂直浸せき法の
他、水平付着法、回転円筒法などの方法′による。水平
付着法は基板を水面に水平に接触させて移しとる方法で
、回転円筒法は1円筒型の基体を水面上を回転させて単
分子層を基体表面に移しとる方法である。前述した垂直
浸せき法では、水面を横切る方向に基板をおろすと一層
めは親木基が基板側に向いた単分子層が基板上に形成さ
れる。前述のように基板を上下させると、各行程ごとに
1枚ずつ単分子層が重なっていく。成膜分子の向きが引
上げ行程と浸せき行程で逆になるので、この方法による
と、各層間は親木基と親木基、疎水基と疎水基が向かい
合うY型膜が形成される。このようにして作成された単
分子層累積膜の模式図を第4図に示す。図中、8−1は
親木基、8−2は疎水基である。
In addition to the above-mentioned vertical dipping method, methods such as horizontal deposition method and rotating cylinder method can be used to transfer the monomolecular layer onto the substrate. The horizontal deposition method is a method in which the substrate is brought into horizontal contact with the water surface and transferred, and the rotating cylinder method is a method in which a cylindrical substrate is rotated on the water surface to transfer a monomolecular layer onto the surface of the substrate. In the vertical dipping method described above, when the substrate is lowered in a direction across the water surface, a monomolecular layer is formed on the substrate with the parent wood group facing the substrate as the first layer. When the substrate is moved up and down as described above, one monolayer is overlapped with each step. Since the direction of the film-forming molecules is reversed between the pulling process and the dipping process, according to this method, a Y-shaped film is formed in which the parent wood groups and the parent wood groups and the hydrophobic groups face each other between each layer. A schematic diagram of the monomolecular layer cumulative film thus prepared is shown in FIG. In the figure, 8-1 is a parent tree group, and 8-2 is a hydrophobic group.

それに対し、水平付着法は、基板を水面に水平に接触さ
せて移しとる方法で、疎水基が基板側に向いた単分子層
が基板上に形成される。この方法では、累積しても、成
膜分子の向きの交代はなく全ての層において、疎水基が
基板側に向いたX型膜が形成される。反対に全ての層に
おいて親木基が基板側に向いた累積膜はX型膜と呼ばれ
る。
On the other hand, the horizontal deposition method is a method in which the substrate is brought into horizontal contact with the water surface and transferred, and a monomolecular layer with hydrophobic groups facing the substrate is formed on the substrate. In this method, there is no change in the direction of the film-forming molecules even if the films are accumulated, and an X-type film is formed in which the hydrophobic groups face the substrate side in all layers. On the other hand, a cumulative film in which parent wood groups in all layers face the substrate side is called an X-type film.

回転円筒法は、円筒型の基体を水面上を回転させて単分
子層を基体表面に移しとる方法である。
The rotating cylinder method is a method in which a cylindrical substrate is rotated on the water surface to transfer a monomolecular layer onto the surface of the substrate.

単分子層を基板上に移す方法は、これらに限定されるわ
けではなく、大面積基板を用いる時には、基板ロールか
ら水相中に基板を押し出していく方法などもとり得る。
The method of transferring the monomolecular layer onto the substrate is not limited to these methods, and when using a large-area substrate, a method of extruding the substrate from a substrate roll into an aqueous phase may also be used.

また、前述した親木基、疎水基の基板への向きは原則で
あり、基板の表面処理等によって変えることもできる。
Furthermore, the orientation of the aforementioned parent wood group and hydrophobic group toward the substrate is a general rule, and can be changed by surface treatment of the substrate, etc.

単分子膜または単分子層累積膜を作成する他の方法とし
ては、スパッタリング法、プラズマ重合法、二分子膜作
製法などがある。
Other methods for creating a monomolecular film or a monomolecular layer stack include a sputtering method, a plasma polymerization method, and a bilayer film production method.

基板lとして使用することのできるものとしては、ガラ
ス、アルミニウムなどの金属、プラスチック、セラミッ
クなどが挙げられる。第1図(A)に示した透過型の場
合には、できる限り耐圧性のある透光性のガラスやプラ
スチック、特に無色乃至淡色のものが好ましい。また、
基板表面の洗浄が不十分であると、単分子層を水面から
移しとる時に、単分子膜が乱れ、良好な単分子膜または
単分子層累積膜ができないので基板表面が清浄なものを
使用する必要がある。
Examples of materials that can be used as the substrate 1 include glass, metals such as aluminum, plastics, and ceramics. In the case of the transmission type shown in FIG. 1(A), it is preferable to use pressure-resistant and transparent glass or plastic, especially colorless or light-colored ones. Also,
If the substrate surface is insufficiently cleaned, the monomolecular layer will be disturbed when it is transferred from the water surface, making it impossible to form a good monomolecular film or monomolecular layer accumulation, so use a substrate with a clean surface. There is a need.

保護用基板4としては、できる限り耐圧性のある透光性
のガラスやプラスチックが適しており、特に無色乃至淡
色のものが好ましい。保護用基板4を設けることは、単
分子膜または単分子層累積1模の耐久性、安定性を向上
させるためには、好ましいことであるが、成膜分子の選
択によって保護用基板は設けても設けなくてもよい。
As the protective substrate 4, a pressure-resistant and transparent glass or plastic is suitable, and a colorless or light-colored one is particularly preferable. Providing the protective substrate 4 is preferable in order to improve the durability and stability of the monomolecular film or the monomolecular layer accumulation, but depending on the selection of the film-forming molecules, the protective substrate may not be provided. There is no need to provide either.

発熱要素2は、ドッートマトリックス状(点打列状)、
ドツトライン状(点線状)、ライン状、島状等の種々の
形態で発熱して熱伝導により単分子膜又は単分子層累積
膜を加熱するためのものである。
The heating element 2 has a dot matrix shape (dot row shape),
It generates heat in various forms such as a dotted line shape, a line shape, an island shape, etc., and heats a monomolecular film or a monomolecular layer stacked film by heat conduction.

発熱要素2としては、赤外線などによる輻射線加熱を利
用するものや抵抗加熱等のジュール熱を利用するもの等
があげられる。前者としては各種の無機あるいは有機材
料、例えばGd@Tb*Feの合金、カーボン・ブラッ
ク等の無機顔料、ニグロシン等の有機染料、アゾ系等の
有機顔料などが適している。後者としては、例えば硼化
ハフニウムや窒化タンタル等の金属化合物やニクロム等
の合金が適している。発熱要素2の膜厚はエネルギー伝
達効率及び解像力に影響を及ぼす。これらの観点より、
発熱要素2の好適な膜厚はtooo〜20(IOAであ
る。表示素子が透過型の場合、発熱要素2は可視光に対
して透過性であることが要件となる。
Examples of the heat generating element 2 include those that utilize radiation heating such as infrared rays, and those that utilize Joule heat such as resistance heating. As the former, various inorganic or organic materials are suitable, such as Gd@Tb*Fe alloys, inorganic pigments such as carbon black, organic dyes such as nigrosine, and organic pigments such as azo. As the latter, metal compounds such as hafnium boride and tantalum nitride, and alloys such as nichrome are suitable. The film thickness of the heating element 2 affects energy transfer efficiency and resolution. From these points of view,
A suitable film thickness of the heat generating element 2 is between too much and 20 (IOA). When the display element is a transmissive type, the heat generating element 2 is required to be transparent to visible light.

しかし、発熱要素2は、特別に設けなくとも、上記特性
を具備した基板材料を選択することにより、基板1が発
熱要素を兼ねることもできる。
However, even if the heating element 2 is not specially provided, the substrate 1 can also serve as the heating element by selecting a substrate material having the above characteristics.

反射膜としては、高融点の金属材料又は金属化合物材料
を用いて金属膜、誘電ミラーなどを単分子膜又は単分子
層累積膜3より基板l側にスパッタリング法、蒸着法な
どにより設ける。反射膜も発熱要素2同様、基板lの材
料を光を反射しうる材料を選択することにより、基板l
に兼ねさせることもできる。
As the reflective film, a metal film, dielectric mirror, etc. using a high melting point metal material or metal compound material is provided on the substrate l side from the monomolecular film or monomolecular layer cumulative film 3 by sputtering, vapor deposition, or the like. Similar to the heat generating element 2, the reflective film can also be formed by selecting a material that can reflect light for the substrate l.
It can also be used as .

基板上の単分子膜または単分子層累積膜は、十分に強く
固定されており基板からの剥離、剥落を生じることはほ
とんどないが、接着力を強化する′目的で、基板と単分
子膜または単分子層累積膜の間に接着層を設けることも
できる。さらに単分子層形成条件、LB法であれば例え
ば水相の水素イオン濃度、イオン種、あるいは表面圧の
選択等によっても接着力を強化することもできる。
A monomolecular film or a monomolecular layer stack on a substrate is sufficiently strongly fixed and rarely peels or peels off from the substrate. An adhesive layer can also be provided between the monomolecular layer stacks. Furthermore, the adhesive force can be strengthened by selecting the monomolecular layer formation conditions, for example, the hydrogen ion concentration of the aqueous phase, the ion species, or the surface pressure in the case of the LB method.

前述した加熱部5における物性変化とは、特に光学的物
性の変化を意味し、たとえば、具体的には単分子J漠又
は単分子層累積膜を構成している分子集合体の屈折率、
密度、分極率等の変化および相転移を意味している。た
とえば、この中で屈折率について言えば、発熱要素2の
加熱部6の発熱により単分子膜又は単分子層累積[3が
温度t″Cから温度(t+Δt ) ”cに上昇したと
する。この場合、温度t’0の時の単分子膜又は単分子
層累積膜の屈折率をNとし、温度(t+Δt)℃の時の
この屈折率をN+ΔNとすると、屈折率勾配はΔN/Δ
を寺−104(1/”0)である。屈折率の変化率、即
ち温度に対する屈折率変化は僅かであるが、発熱要素の
加熱部6の近辺の単分子膜又は単分子層累積膜3の微小
領域が加熱されると微小領域における屈折率勾配は大で
あり、従って、この加熱された微小領域の単分子膜又は
単分子層累積膜3の加熱部5はパワーを持ち、屈折率勾
配の大の領域において光は屈折、散乱、回折等する。
The above-mentioned change in physical properties in the heating section 5 particularly means a change in optical properties, such as the refractive index of a single molecule or a molecular assembly constituting a monolayer cumulative film,
It means changes in density, polarizability, etc., and phase transition. For example, regarding the refractive index, it is assumed that the monomolecular film or the monomolecular layer accumulation [3] rises from the temperature t''C to the temperature (t+Δt)''c due to the heat generated by the heating portion 6 of the heat generating element 2. In this case, if the refractive index of the monomolecular film or monomolecular layer stack at temperature t'0 is N, and if this refractive index at temperature (t+Δt)°C is N+ΔN, then the refractive index gradient is ΔN/Δ
The rate of change in the refractive index, that is, the change in the refractive index with respect to temperature is small, but the monomolecular film or monomolecular layer cumulative film 3 near the heating part 6 of the heating element When a microscopic region of Light is refracted, scattered, diffracted, etc. in a region large in size.

発熱要素2の加熱部6が発熱して単分子膜又は単分子層
累積膜3の物性が前述のように変化する程度に加熱され
て加熱部5が形成される0発熱要素2のその他の部位は
発熱していないのでそれに対応する単分子膜又は単分子
層累積膜3の低温領域の物性の変化はほとんどなく、そ
の物性は近似的に一様である。低温領域においても実際
には加熱部等からの熱伝導によって、加温され、光学的
物性は変化するであろうが、加熱部の変化からみると、
相対的に無視できる程度である。
Other parts of the heat generating element 2 where the heating part 6 of the heat generating element 2 generates heat to such an extent that the physical properties of the monomolecular film or the monomolecular layer cumulative film 3 change as described above to form the heating part 5. Since no heat is generated, there is almost no change in the physical properties of the corresponding monomolecular film or monomolecular layer stack 3 in the low temperature region, and the physical properties are approximately uniform. Even in the low-temperature region, it is actually heated by heat conduction from the heating part, etc., and the optical properties change, but from the perspective of changes in the heating part,
It is relatively negligible.

単分子層又は単分子層累積膜の加熱部5を通過する照明
光7は、この部分に熱的に生じた屈折率勾配(グラディ
エンドインデックス)によって屈折、散乱、回折等して
単分子膜又は単分子層累積HM 3内を直進せず屈折し
て光路変化する。このため、単分子膜又は単分子層累積
膜の加熱部5を通過する照明光7と、そこを通過しない
照明光7とは、表示素子DEを射出してきた時、平行光
とはならず、それらの射出方向は互いに異なる。発熱要
素2の加熱部6が加熱しなくなれば、単分子膜又は単分
子層累積膜の加熱部5は冷却されてなくなり、表示素子
DEから射出する照明光7の方向は全て同じ方向となる
。故に、単分子膜又は単分子層累積膜3の加熱部5の高
温領域を通過する照明光7と、加熱部でない部位の単分
子膜又は単分子累積膜の低温領域を通過する照明光7と
が光学的に識別される。
The illumination light 7 passing through the heating part 5 of the monomolecular layer or monomolecular layer stack is refracted, scattered, diffracted, etc. by the refractive index gradient (gradient index) thermally generated in this part, and the illumination light 7 passes through the heating part 5 of the monomolecular layer or monomolecular layer accumulation film. The light does not travel straight through the monomolecular layer accumulation HM 3 but is refracted and changes its optical path. Therefore, the illumination light 7 that passes through the heating section 5 of the monomolecular film or the monomolecular layer accumulation film and the illumination light 7 that does not pass through it do not become parallel light when they exit the display element DE. Their emission directions are different from each other. When the heating part 6 of the heat generating element 2 stops heating, the heating part 5 of the monomolecular film or the monomolecular layer stack is cooled down and disappears, and the directions of the illumination lights 7 emitted from the display element DE all become the same direction. Therefore, the illumination light 7 that passes through the high-temperature region of the heating section 5 of the monomolecular film or monomolecular layer stack 3, and the illumination light 7 that passes through the low-temperature region of the monomolecular film or monomolecular stack stack that is not the heating section. are optically identified.

前述の相転移は、温度および圧力などの変化によって生
じる。相転移を起こす温度、すなわち相転移温度(Tc
)は物質によって固有であり、単分子膜又は単分子層累
積膜を形成する有機化合物は、Tc以下で結晶相であり
、 Tc以上で液晶相に相転移するものが特に好ましい
、また、Tcは50〜10G”0のものが適している0
例えばジアルキルアン−モニウム塩のTcは20℃〜6
0℃である。一般的に丁cは、。
The aforementioned phase transitions are caused by changes in temperature, pressure, etc. The temperature at which a phase transition occurs, that is, the phase transition temperature (Tc
) is specific to each substance, and it is particularly preferable that the organic compound forming a monomolecular film or a monomolecular layer accumulation film has a crystalline phase below Tc and undergoes a phase transition to a liquid crystal phase above Tc. 50~10G”0 is suitable.
For example, the Tc of dialkylammonium salt is 20°C to 6
It is 0°C. Generally, Ding c is.

アルキル鎖長とともにTcは上昇する。第3図はジアル
キルアンモニウム塩の場合の相転移現像を模式的に示し
たものである。前述のごとく、屈折率変化は温度変化に
近似的に比例するが、Tcの前後では顕著に屈折率は変
化する。したがって加熱温度をTc以上に設定すること
がより好適である。勿論、Tc以下で十分な屈折率変化
が得られればTc以上に設定する必要がないことは言う
までもない。
Tc increases with alkyl chain length. FIG. 3 schematically shows phase transition development in the case of a dialkyl ammonium salt. As described above, the refractive index change is approximately proportional to the temperature change, but the refractive index changes significantly before and after Tc. Therefore, it is more preferable to set the heating temperature to Tc or higher. Of course, it goes without saying that if a sufficient refractive index change can be obtained below Tc, there is no need to set it above Tc.

さらに累積膜の構成分子を適当に選ぶことによって結晶
相からの液晶相に、又はある種の液晶相からある種の液
晶相に相転移することによって光散乱ないし不透光を呈
する。このような光散乱などの相転移による屈折率以外
の物性変化も作緻に用いることができる。
Furthermore, by appropriately selecting the constituent molecules of the cumulative film, the film undergoes a phase transition from a crystalline phase to a liquid crystalline phase, or from a certain type of liquid crystalline phase to a certain type of liquid crystalline phase, thereby exhibiting light scattering or opacity. Changes in physical properties other than the refractive index due to phase transitions such as light scattering can also be used for elaboration.

本発明に係る表示素子は一定の照明条件(例えば、平行
光による照明)の下では直視表示も可能であるが、後述
の結像光学系との組合わせによって更に表示装置として
の用途及び利用価値は広がる。透過型の表示素子の直視
表示の場合、単分子膜又は単分子層累積膜の加熱部5を
通過してきた光の方向に対して位置した不図示の観察眼
に到達する光量差に基づき表示画素の識別ができる。相
転移による光散乱を利用すると、直視表示はより簡単で
効果的である。
Although the display element according to the present invention can be directly viewed under certain illumination conditions (for example, illumination with parallel light), its use and utility value as a display device can be further improved by combining it with an imaging optical system described below. spreads. In the case of direct view display of a transmissive display element, display pixels are determined based on the difference in the amount of light that reaches an observation eye (not shown) positioned with respect to the direction of the light that has passed through the heating section 5 of the monomolecular film or monomolecular layer cumulative film. can be identified. Using light scattering due to phase transition, direct viewing display is simpler and more effective.

反射型の表示素子と後述の結像光学系との組合わせの場
合、単分子膜又は単分子層累積膜の加熱部5の結像光学
系による結像位置と発熱要素2によって加熱されていな
い(発熱要素2によって単分子膜又は単分子層累積膜3
が予熱されている場合も含む)単分子膜又は単分子層累
積膜3の低温領域の部分(以下、非加熱部という)の結
像光学系による結像位置が異なるためにデフォーカスす
ることにより表示点の識別がより明確に行なわれる。従
って、デフォーカスすることにより明点を暗点に反転さ
せて表示することもできる。後述の結像光学系を用いな
い場合には、表示素子の表示効果を増すために照明光7
として平行光を用い、後述のような遮光格子を付設すれ
ば表示効果は飛躍的に向上する。なお、第1図において
、発熱要素2が光を反射しない場合、単分子膜又は単分
子層累積膜3と発熱要素2との間に光反射性の金属膜、
誘電ミラー等を介在させてもよい。
In the case of a combination of a reflective display element and an imaging optical system described below, the imaging position of the heating unit 5 of the monomolecular film or monomolecular layer stacked film by the imaging optical system and the position that is not heated by the heating element 2 (A monomolecular film or a monomolecular layer cumulative film 3
By defocusing the low-temperature region portion (hereinafter referred to as non-heated portion) of the monomolecular film or monomolecular layer stacked film 3 (including the case where the monomolecular layer is preheated) due to the difference in the imaging position by the imaging optical system. Identification of display points is made more clearly. Therefore, by defocusing, a bright spot can be inverted and displayed as a dark spot. When the imaging optical system described later is not used, the illumination light 7 is used to increase the display effect of the display element.
The display effect can be dramatically improved by using parallel light and adding a light-shielding grating as described below. In FIG. 1, if the heat generating element 2 does not reflect light, a light reflective metal film,
A dielectric mirror or the like may be interposed.

なお、第1図では、説明をわかり易くするために表示素
子DEに入射する光束を平行光としたが、特に平行光に
かぎるものではなく、木質的には表示素子DEに入射す
る光が発熱要素2加熱部6の発熱によって光路中に単分
子膜又は単分子層累積膜3の高温領域、すなわち加熱部
5が形成されることにより、加熱部5が形成されない前
の光路と比較して光路変化をするということを利用する
ものである。
In addition, in FIG. 1, in order to make the explanation easier to understand, the light flux that enters the display element DE is shown as parallel light, but this is not limited to parallel light.In terms of wood, the light that enters the display element DE is a heat-generating element. 2 A high-temperature region of the monomolecular film or monomolecular layer stacked film 3, that is, a heating part 5, is formed in the optical path by the heat generated by the heating part 6, so that the optical path changes compared to the optical path before the heating part 5 is not formed. It takes advantage of the fact that

次に第6図および第7図によってライトバルブ式投写装
置について説明する。ライトパルプ(光弁)は光を制御
あるいは調節するものの意であり、従って、独立した光
源からの光を適当な媒体(本発明の場合1表示素子の単
分子膜又は単分子層累積膜)で制御してスクリーン上に
投写表示する方式のディスプレイはすべてこれに含1れ
ることになる。この方式は、ブラウン管のような自発元
型ディスプレイに比べると原理的には、使用する光源を
強くすることにより表示画面のサイズと明るさをいくら
でも増加できるので、特に光量を必要とする大画面ディ
スプレイに適している。
Next, the light valve type projection device will be explained with reference to FIGS. 6 and 7. Light pulp (light valve) refers to a device that controls or adjusts light, and therefore, light from an independent light source is transferred to a suitable medium (in the case of the present invention, a monomolecular film or a stack of monomolecular layers of one display element). All displays that are controlled and projected onto a screen are included in this category. Compared to self-emitting displays such as cathode ray tubes, this method can, in principle, increase the size and brightness of the display screen by increasing the intensity of the light source used. suitable for

そのうち、第5図に示すものは、シュリーレンライトバ
ルブとも呼ばれているもので、入力信号に応じて制御媒
体である単分子膜又は単分子層累積膜に光の屈折角、回
折角あるいは反射角の異なるパターンあるいは散乱によ
るパターンをつくり、シュリーレン光学系を用いてその
変化を明暗嘗に変換し、スクリーンに投写する方式であ
る。
Among them, the one shown in Fig. 5 is also called a Schlieren light valve, and it adjusts the refraction angle, diffraction angle, or reflection angle of light to a monomolecular film or a monomolecular layer cumulative film, which is a control medium, according to an input signal. This method creates different patterns of light or scattering patterns, converts the changes into brightness and darkness using a schlieren optical system, and projects them onto a screen.

第6図はその表示装置の基本原理を説明するための概要
構成図である。第1格子13aの各スリットの像はシュ
リーレンレンズ14によって第2格子13b各バーの上
に遮光されるように夫々結像するように配置されている
。シュリーレンレンズ14と第2格子1.3bとのIJ
lにおかれた透過型の表示素子DBの媒体としての単分
子膜又は単分子層累積膜が加熱されておらず、その物性
(例えば、屈折率)が一様に平滑であれば、第1格子1
3aを通過した入射光はすべて第2格子13bにより遮
られてスクリーン15に到達しない。しかし、表示素子
DEの単分子膜又は単分子層累積膜3の一部が発熱要素
により加熱されて高温になり単分子膜又は単分子層累積
膜の加熱部5が形成されると、そこを通過する光の光路
が前述したように変化するので、そこを通過した入射光
16は第2格子13bで遮られることなく第2格子13
bの間隙(開口)を通ってスクリーン15に到達する。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram for explaining the basic principle of the display device. The images of each slit of the first grating 13a are arranged so as to be respectively formed by a schlieren lens 14 onto each bar of the second grating 13b so as to be shielded from light. IJ between Schlieren lens 14 and second grating 1.3b
If the monomolecular film or the monomolecular layer cumulative film as a medium of the transmission type display element DB placed in l is not heated and its physical properties (for example, refractive index) are uniformly smooth, Lattice 1
All the incident light that has passed through 3a is blocked by the second grating 13b and does not reach the screen 15. However, when a part of the monomolecular film or monomolecular layer stack 3 of the display element DE is heated by the heating element and reaches a high temperature, and a heated portion 5 of the monomolecular film or monomolecular layer stack is formed, Since the optical path of the passing light changes as described above, the incident light 16 passing therethrough is not blocked by the second grating 13b and reaches the second grating 13.
It reaches the screen 15 through the gap (opening) b.

従って、表示素子DEの単分子膜又は単分子層累積膜の
加熱部5を加熱している加熱面又はその近傍の媒体面を
スクリーン15に結像するように結像レンズ17を配置
すれば、表示素子DEの単分子膜又は単分子層累積膜の
温度変化量に対応した明暗像がスクリーン15上に得ら
れる。なお、これに用いられる第1及び第2格子13a
及び13bの開口は線状、点状の如何を問わない。
Therefore, if the imaging lens 17 is arranged so that the heating surface heating the heating section 5 of the monomolecular film or monomolecular layer cumulative film of the display element DE or the medium surface in the vicinity thereof is imaged on the screen 15, A contrast image corresponding to the amount of temperature change of the monomolecular film or the monomolecular layer stack of the display element DE is obtained on the screen 15. Note that the first and second gratings 13a used for this
The openings 13b and 13b may be linear or dotted.

第7図は透過型ライトバルブ式投写装置の概略構成図で
あり、透過型の表示素子に対する信号入力手段の配置例
を示している。13aは第1格子、DHは透過型の表示
素子、14はシュリーレンズ、13bは第2格子、17
は結像レンズ、15はスクリーンで、これらの構成は第
5図の表示装置の構成に類似している。不図示のレーザ
ー光源及び光変調器を通して変調された輻射線(主に、
赤外線) 10の信号光は水平スキャナー18としての
回転多面鏡によって水平走査され、レンズ2oを会し、
垂直スキャナー18としての回転多面鏡、又はガルバノ
ミラ−によって垂直走査され、コールドフィルタ21に
よって反射されて第2図(A)に示した透過型の表示素
子での輻射線吸収層9に結像し、単分子膜又は単分子層
累積膜をドツトマトリックス状に加熱して単分子膜又は
単分子層累積膜の加熱部5の2次元像を形成する。一方
、第1格子13aを通過した入射光重6はコールドフィ
ルタ21を通過するので、第6図に於て前述せるメカニ
ズムによりスクリーン15上に、表示素子DEの単分子
膜又は単分子層累積膜の加熱部5に対応した二次元の可
視像を形成するものである。本図に於て用いられる表示
素子DEの輻射線吸収層は可視光に対しては透過性のも
のでなければならないことはもちろんである。
FIG. 7 is a schematic diagram of a transmission type light valve type projection device, and shows an example of the arrangement of signal input means for a transmission type display element. 13a is a first grating, DH is a transmission type display element, 14 is a Schley lens, 13b is a second grating, 17
1 is an imaging lens, and 15 is a screen, the construction of which is similar to that of the display device shown in FIG. Radiation modulated through a laser light source and a light modulator (not shown) (mainly,
The signal light (infrared rays) 10 is horizontally scanned by a rotating polygon mirror serving as a horizontal scanner 18, and passes through a lens 2o.
It is vertically scanned by a rotating polygon mirror or a galvanometer mirror as a vertical scanner 18, reflected by a cold filter 21, and imaged on the radiation absorption layer 9 of the transmission type display element shown in FIG. 2(A), A monomolecular film or a monomolecular layer accumulation film is heated in a dot matrix shape to form a two-dimensional image of the heated portion 5 of the monomolecular film or monomolecular layer accumulation film. On the other hand, since the incident light weight 6 that has passed through the first grating 13a passes through the cold filter 21, a monomolecular film or a monomolecular layer cumulative film of the display element DE is formed on the screen 15 by the mechanism described above in FIG. A two-dimensional visible image corresponding to the heating section 5 is formed. Of course, the radiation absorbing layer of the display element DE used in this figure must be transparent to visible light.

なお、半導体レーザアレイ又は発光ダイオードアレイ(
ライン状に並べられたもの)を用いれば、水平スキャナ
ーは省略される。又コールドフィルタとガルバノミラ−
とを共用しても良い。
Note that semiconductor laser arrays or light emitting diode arrays (
If a horizontal scanner is used, the horizontal scanner can be omitted. Also cold filter and galvano mirror
may be shared.

第8図は、本発明に係る表示装置としてのライトバルブ
式投写装置のブロック図である。
FIG. 8 is a block diagram of a light valve type projection device as a display device according to the present invention.

22は映像信号を発、生する映像発生回路、23は映像
信号を制御してこの信号を映像増幅回路24及び水平、
垂直駆動回路25に与えるだめの制御回路、2Bはレー
ザ光源、27はレーザ光源がらのレーザビームを映像増
幅回路24からの信号に従って変調する光変調器、光変
調器27により変調された光は、水平スキャナー18も
しくは垂直スキャナー19に入射する。また、水平スキ
ャナー18、垂直スキャナー19は水平及び垂直駆動回
路25による夫々映像信号に同期した駆動信号をうけて
動作する。
22 is a video generation circuit that generates a video signal; 23 is a video generation circuit that controls the video signal and sends this signal to a video amplification circuit 24 and a horizontal
2B is a laser light source; 27 is an optical modulator that modulates the laser beam from the laser light source according to a signal from the video amplification circuit 24; the light modulated by the optical modulator 27 is as follows: The light enters a horizontal scanner 18 or a vertical scanner 19. Further, the horizontal scanner 18 and the vertical scanner 19 operate in response to drive signals synchronized with the video signals from the horizontal and vertical drive circuits 25, respectively.

他の破線内の部分の構成については前述した構成と同じ
なので説明を省略する。
The configuration of the other portions within the broken line is the same as the configuration described above, so the description thereof will be omitted.

映像発生回路22より出力された映像信号は制御回路2
3を介して映像増幅回路24で増幅される。増幅された
映像信号の入力により光変調器27は駆動し、レーザ光
源26より出射されるレーザビームを変調する。一方、
制御回路23より水平同期信号及び垂直同期信号が出力
され、水平、垂直駆動回路25を介して夫々水平スキャ
ナー18及び垂直スキャナー18を駆動する。このよう
にして表示素子DEの単分子膜又は単分子層累積膜内に
熱的二次元像が形成される。この後の破線内の構成動作
については前述した通りでありここでは簡単のため省略
する。なお、TV主電波受信する場合には映像発生回路
22に代えて受信機を用いればよい。
The video signal output from the video generation circuit 22 is sent to the control circuit 2.
3 and is amplified by the video amplification circuit 24. The optical modulator 27 is driven by input of the amplified video signal and modulates the laser beam emitted from the laser light source 26. on the other hand,
A horizontal synchronization signal and a vertical synchronization signal are output from the control circuit 23 and drive the horizontal scanner 18 and the vertical scanner 18 via the horizontal and vertical drive circuits 25, respectively. In this way, a thermal two-dimensional image is formed within the monomolecular film or monomolecular layer stack of the display element DE. The subsequent configuration operations within the broken line are as described above and will be omitted here for simplicity. Note that when receiving TV main radio waves, a receiver may be used in place of the video generation circuit 22.

第9図は、本発明に係る別の表示素子の断面図であり、
第9図(A)は透過型の、また第9図(B)は反射型の
表示素子を夫々示している。
FIG. 9 is a cross-sectional view of another display element according to the present invention,
FIG. 9(A) shows a transmissive type display element, and FIG. 9(B) shows a reflective type display element.

図に於て、3は単分子膜又は単分子層累積膜、4は保護
用基板、28はカラーモザイクフィルタを示し、これ等
は第1図、第3図にて説明したものと同じ機能を持つ要
素である。28は熱伝導性の絶縁層であり、この両面に
は、発熱要素としての複数の発熱抵抗線30.31が、
互いに絶縁層を挟んで交叉する様にマトリックス状に2
次的に配列しである。lは、これ等発熱抵抗線30.3
1及び絶縁層28の支持板としての基板である。第9図
(A)に示した透過型の表示素子DEの場合は、これら
発熱抵抗線30.31、基板l及び絶縁層28は透明で
あり、たとえば発熱抵抗線30.31はインジウム・テ
ィン・オキサイドの透明薄膜から構成されている。そし
て、これらの表示素子DEに於ては、所定の発熱抵抗線
30.31が共に選択され発熱したときのみ、両者の交
叉領域に於て単分子膜又は単分子層累積膜3中に表示可
能な高温領域の加熱部(不図示)が形成される様、設計
しである。カラーモザイクフィルタは、少なくとも発熱
抵抗線30と31の交叉部に設けられればよい。また、
第2図において前述したように反射膜11は必要に応じ
て設けられる。
In the figure, 3 is a monomolecular film or a monomolecular layer stack, 4 is a protective substrate, and 28 is a color mosaic filter, which have the same functions as those explained in FIGS. 1 and 3. It is an element that has. 28 is a thermally conductive insulating layer, and a plurality of heating resistance wires 30 and 31 as heating elements are provided on both sides of the layer.
2 in a matrix shape so as to intersect each other with an insulating layer in between.
Next is the arrangement. l is these heating resistance wire 30.3
1 and an insulating layer 28 . In the case of the transmissive display element DE shown in FIG. 9(A), the heating resistance wires 30.31, the substrate l, and the insulating layer 28 are transparent; for example, the heating resistance wires 30.31 are made of indium tin. It consists of a transparent thin film of oxide. In these display elements DE, only when the predetermined heating resistance wires 30 and 31 are both selected and generate heat, it is possible to display in the monomolecular film or the monomolecular layer cumulative film 3 in the intersection area of both. It is designed so that a heating part (not shown) in a high temperature region is formed. The color mosaic filter may be provided at least at the intersection of the heating resistance wires 30 and 31. Also,
As described above in FIG. 2, the reflective film 11 is provided as necessary.

次に第10図を用いて斯かる表示素子をマトリックス駆
動する例に就いて、更に詳しく説明する。
Next, an example of matrix driving of such display elements will be explained in more detail using FIG.

図に於て、DEは表示素子を示し、第9図で説明したの
と同様の詳細構成を持つ。この表示素子DEはX/! 
、Xs 、、Xn、Xo、Xp(7)行軸の発熱抵抗線
(これらを行線と呼ぶ)とYc、Yd、Yeの列軸の発
熱抵抗線(これらを列線と呼ぶ)等で構成されており列
1iYc、Yd、Yeの一方は共通直流電源に接続され
ており、他方は夫々エミッタ接地されてトランジスタT
r1〜Tr3のコレクタ側に接続されている。
In the figure, DE indicates a display element, which has the same detailed configuration as explained in FIG. 9. This display element DE is X/!
, Xs , , Xn, Xo, Xp (7) Consists of heating resistance wires on the row axis (these are called row lines) and heating resistance wires on the column axis of Yc, Yd, Ye (these are called column lines), etc. One of the columns 1iYc, Yd, and Ye is connected to a common DC power supply, and the other has its emitter grounded and is connected to a transistor T.
It is connected to the collector side of r1 to Tr3.

行線XA 、 Xm、 Xn、 Xo、 Xpニ順次、
加熱用電流パルスを印加すると、これ等の行線に対応す
る単分子膜又は単分子層累積膜(不図示)が順次、線状
に加熱されるが、このとき、加熱の程度を単分子膜又は
単分子層累積膜の加熱表示の鏝値以下になるように設定
しであるので、単分子膜又は単分子層累積膜中に加熱表
示用の高温領域の加熱部は発生しない。一方、加熱用電
流信号の印加に同期させながら、エミッタ接地されたト
ランジスタTrl〜Tr3のペース側にビデオ信号用パ
ルスを加えてトランジスタTrl xTr3をオンする
ことにより、これらトランジスタTrl−Tr3と夫々
接続している。列線Yc、 Yd、 Yeに対して、所
定のビデオ信号を印加する。このビデオ信号の印加によ
って、列導線Yc、 Yd、’ Yeに対応する単分子
膜又は単分子層累積膜は線状に加熱される。これによっ
て、加熱用電流パルスとビデオ信号とが同期した行線と
列線との交叉部分においては両者の発熱により加算的に
加熱されて単分子膜又は単分子層累積1りの加熱の程度
が加熱表示の閾値を越え、選択された行線と列線の交叉
部分に申分ト膜又は単分子層累積膜加熱部5が形成され
る。
Row lines XA, Xm, Xn, Xo, Xp sequentially,
When a heating current pulse is applied, the monomolecular film or monomolecular layer cumulative film (not shown) corresponding to these row lines is sequentially heated linearly. Alternatively, since the heating value is set to be less than or equal to the trowel value for heating display of the monomolecular layer cumulative film, a heating area in the high temperature region for heating display is not generated in the monomolecular film or the monomolecular layer cumulative film. On the other hand, in synchronization with the application of the heating current signal, a video signal pulse is applied to the pace side of the transistors Trl to Tr3 whose emitters are grounded to turn on the transistors Trl xTr3, thereby connecting these transistors Trl to Tr3, respectively. ing. Predetermined video signals are applied to column lines Yc, Yd, and Ye. By applying this video signal, the monomolecular film or the monomolecular layer stack corresponding to the column conductors Yc, Yd, 'Ye is linearly heated. As a result, at the intersection of the row line and the column line where the heating current pulse and the video signal are synchronized, heat is generated additively from both, and the degree of heating of the monomolecular film or the cumulative amount of monomolecular layers is reduced. The threshold value for heating display is exceeded, and a complete film or monomolecular layer cumulative film heating section 5 is formed at the intersection of the selected row line and column line.

なお、以上の例において、駆動方式を次の様に変えた場
合にも、全く同様に作像することができる。即ち、行線
にビデオ信号を印加し1列線に加熱用電流信号を印加す
る様に変形しても、効果は全く同じである。このように
第9図に例示した表示素子DEは、マトリックス駆動を
も可能とするものである。表示素子DEの単分子膜又は
単分子層累積膜の厚さが非常に薄い場合、L記の如く、
ストライプ状に配列される発熱抵抗線を保護用基板側と
基板側の両方に設置することにより、以下の効果が発生
する。
Note that in the above example, even when the driving method is changed as follows, images can be formed in exactly the same way. That is, even if a modification is made in which a video signal is applied to the row line and a heating current signal is applied to the first column line, the effect is exactly the same. In this way, the display element DE illustrated in FIG. 9 also enables matrix driving. When the thickness of the monomolecular film or monomolecular layer cumulative film of the display element DE is very thin, as shown in L,
By installing heat generating resistance wires arranged in stripes on both the protective substrate side and the substrate side, the following effects occur.

■ 製作工程が簡単になり、歩留りが向上する。■ The manufacturing process is simplified and the yield is improved.

■ 単分子膜又は単分子層累積膜を両側から加温するの
で、熱効率が良い。
■ Thermal efficiency is good because the monomolecular film or monomolecular layer stack is heated from both sides.

等である。etc.

発熱抵抗線の放熱効果を高めるため放熱板を別途、設け
ることが望ましい。この放熱板には基板l(第9図)を
代用することが可能である。
It is desirable to separately provide a heat sink to enhance the heat dissipation effect of the heat generating resistance wire. It is possible to use the substrate 1 (FIG. 9) as a substitute for this heat sink.

なお、両信号線のすべてが発熱抵抗体によって形成され
る必要はない。むしろ、エネルギーの節約を図る上から
行線と列線の交叉部分のみを発熱抵抗体によって構成し
、それ以外はAnなどの良導体で構成する方が好ましい
と言えるが、その分、製造工程が複雑になる欠点はある
Note that it is not necessary that all of both signal lines be formed of heating resistors. Rather, in order to save energy, it is preferable to configure only the intersection of row lines and column lines with a heat-generating resistor, and configure the rest with a good conductor such as An, but this would complicate the manufacturing process. There are drawbacks to being.

又、第1θ図々示例の如きマトリックス駆動を行なうの
に好適な表示素子を構成するための発熱要素としての発
熱素子の他の例に就いて第11図により説明する。
Further, another example of a heat generating element as a heat generating element for configuring a display element suitable for matrix driving as shown in the 1θth figure will be explained with reference to FIG.

第11図は、発熱素子の一部領域を模式的に描いいた外
観斜視図である。図に於いて32は発熱抵抗層を示し、
これは、公知の発熱抵抗体(例えば、ニクロム合金、硼
化/\フニウム、窒化タンタル等)を面状に成膜して得
られる。図示されていないが、この抵抗層32は、勿論
、図面下方にも延在している。又、33a、 33b、
 33c、 33”dは何れも列導線であり、34a、
 34b’、 34cは何れも行導線である。そして、
これ等全ての導線は、金、銀、銅、アルミニウム等の良
導体により得られる(なお、言及していないが、導線は
S20の絶縁膜(不図示)によって被覆されるのが一般
的である)。図示発熱素子に於いて、例えば、列導線の
33bと行導線の34cが選択されてこれ等に共に電圧
が印加されたときには、両者の交叉部35に対応する抵
抗層32の一部に通電が為されて発熱する。
FIG. 11 is an external perspective view schematically depicting a partial region of the heating element. In the figure, 32 indicates a heating resistance layer,
This can be obtained by forming a film of a known heating resistor (for example, nichrome alloy, boron/fnium, tantalum nitride, etc.). Although not shown, this resistance layer 32 naturally extends downward in the drawing. Also, 33a, 33b,
33c and 33"d are all column conductors, and 34a,
Both 34b' and 34c are row conductors. and,
All of these conductive wires are made of good conductors such as gold, silver, copper, aluminum, etc. (Although not mentioned, the conductive wires are generally covered with an S20 insulating film (not shown).) . In the illustrated heating element, for example, when the column conductor 33b and the row conductor 34c are selected and a voltage is applied to them, the part of the resistance layer 32 corresponding to the intersection 35 of the two is not energized. It causes fever.

この様にして1行導線及び列導線を任意の(行・列)交
叉部を発熱させることができる。
In this way, it is possible to generate heat at any (row/column) intersection of the first row conductor and the column conductor.

従って、図示発熱素子を第9図の発熱抵抗線30、31
及び絶縁層28からなる発熱要素としての発熱素子のか
わりに組込んだ表示素子に於いては、第10図々示例と
同様なマトリックス駆動方式によって、ドツトマトリッ
クス画像の表示が可能である。
Therefore, the heating element shown in FIG.
In the display element incorporated in place of the heating element made of the insulating layer 28, a dot matrix image can be displayed using the same matrix driving method as in the example shown in FIG.

ところで、第11図に示した発熱素子に於いて、発熱抵
抗層32を、行導線34と列導線33との交叉部にのみ
分割して設ける(その他の領域では導線同志を絶縁する
)ことも可能であり、この様な構成(第12図)に於い
ては、信号に忠実な作像にとって不都合なりロスト−り
の発生を実質的に防止することができる。
By the way, in the heating element shown in FIG. 11, the heating resistance layer 32 may be divided and provided only at the intersection of the row conducting wire 34 and the column conducting wire 33 (the conducting wires may be insulated from each other in other areas). This is possible, and in such a configuration (FIG. 12), the occurrence of loss, which is inconvenient for image formation faithful to the signal, can be substantially prevented.

第11図の例に於いては、行導線34a、34b・・・
(以下、行導線34という)と列導線33a、、33b
・・・(以下、行導線33という)は 5i02 、 
Si3N 4等の絶縁11り(不図示)を介して配設さ
れるが、行導線34と列導線33の交叉領域の絶縁膜は
取り除かれ、代りにその部分に発熱抵抗体32a、 3
2b、・・・(以下、発熱抵抗体32という)が埋めこ
まれている。
In the example of FIG. 11, the row conductors 34a, 34b...
(hereinafter referred to as row conductors 34) and column conductors 33a, 33b.
... (hereinafter referred to as row conductor 33) is 5i02,
Although the insulating film 11 (not shown) made of Si3N4 or the like is disposed therebetween, the insulating film in the intersection area of the row conductor 34 and the column conductor 33 is removed, and heating resistors 32a, 3 are placed in that area instead.
2b, . . . (hereinafter referred to as heating resistor 32) are embedded.

次に第13図に於いて斯かる第12図に示した発熱要素
としての発熱素子を第9図に示した発熱抵抗線30.3
1及び絶縁層28からなる発熱素子の代わりに組込んだ
表示素子をマド1ルンクス駆動する例について、更に詳
しく説明する。行軸選択回路364士行軸駆動回路37
a、3?b・・・・・べ以下、材軸駆動回路37という
)と信号線により電気的に結合されており、さらに夫々
の材軸駆動回路37の各出力端子t−h夫々の行導線3
4と結合している。出力端子と11導線34の結合のし
かたは様々あるが、本明細書番と於ては基本的な態様に
ついて説明するため、出力端子は行導線34の個数だけ
あり、一つの出ツノ端一7− tよ−の行導線と結合し
ているとする。
Next, in FIG. 13, the heating element as the heating element shown in FIG. 12 is connected to the heating resistance wire 30.3 shown in FIG.
An example in which a display element incorporated in place of the heating element consisting of the heat generating element 1 and the insulating layer 28 is driven in a Mad 1 runx manner will be described in more detail. Row axis selection circuit 364 Row axis drive circuit 37
a.3? b...hereinafter referred to as the material shaft drive circuit 37) by a signal line, and is further connected to each row conductor 3 of each output terminal th of each material shaft drive circuit 37.
It is combined with 4. There are various ways to connect the output terminals and the 11 conductor wires 34, but in order to explain the basic aspects in this specification, there are as many output terminals as there are row conductors 34, and one protrusion terminal 7. - Suppose that it is connected to the row conductor of -t.

列軸選択回路38、列軸駆動回路39a、39b、・・
・・・・(以下9列軸駆動回路38という)及び列導線
33相互の関係についても同様である。画像制御回路4
0は材軸選択回路3B及び列軸選択回路38と信号線に
より電気的に結ばれている。画像制御回路40は画像制
御信号を出力することによって1行軸選択1川路3Bが
どの行軸を選択すべきかを指令し、列軸選択回路38に
対しても同様である。即ち、画像1し1000回路40
からの画像制御信号によって材軸選択回路36は材軸駆
動回路37のいずれかを介して特定の91軸(行導線)
を選択(スイッチ・オン)する。例えば、行軸選択回路
36が行導線Xpを選択すればXp行選択信号を発し、
それを受けて行動駆動回路37XPは、行導線Xpに対
しても行動駆動信号を入力する。一方、画像制御回路4
0からの画像制御信号の一つであるビデオ信号が外軸選
択回路38に入力されると、その指令を受けて外軸選択
回路38は所定の外軸(列導線)を選択する。例えば、
外軸選択回路38が列導線Yeを選択すれば、列軸駆動
回路39Yeは外軸選択回路38から発せられたYe列
選択信号を受けて列導線Yeをスイッチφオン(導通)
状態にする。
Column axis selection circuit 38, column axis drive circuits 39a, 39b,...
. . (hereinafter referred to as the 9-column axis drive circuit 38) and the relationship between the column conductors 33. Image control circuit 4
0 is electrically connected to the material axis selection circuit 3B and the column axis selection circuit 38 by signal lines. The image control circuit 40 outputs an image control signal to instruct which row axis the first row axis selection first river path 3B should select, and the same applies to the column axis selection circuit 38. That is, image 1 and 1000 circuits 40
According to the image control signal from
Select (switch on). For example, if the row axis selection circuit 36 selects the row conductor Xp, it will issue an Xp row selection signal,
In response to this, the behavior drive circuit 37XP also inputs a behavior drive signal to the row conducting line Xp. On the other hand, the image control circuit 4
When a video signal, which is one of the image control signals from 0, is input to the outer axis selection circuit 38, the outer axis selection circuit 38 receives the command and selects a predetermined outer axis (column conductor). for example,
When the outer axis selection circuit 38 selects the column conductor Ye, the column axis drive circuit 39Ye receives the Ye column selection signal issued from the outer axis selection circuit 38 and switches the column conductor Ye on φ (conductivity).
state.

材軸の選択と外軸の選択が同期してなされれば、本例の
場合、行導線Xpと列導線Yeの交叉点(選択点; x
pa Ye)にある発熱抵抗体に電流が流れ、ジュール
熱が発生し、不図示の単分子膜又は単分子層累積膜に加
熱部が形成される。非選択点にもリーク電流は流れるが
単分子膜又は単分子層累積膜の加熱部形成電流f1以下
であるので、単分子膜又は単分子層累積膜に加熱部は形
成されない。また、発熱抵抗体にダイオード機能を持た
せることにより、リーク電流をさらに微弱にすることが
できる。
If the selection of the material axis and the selection of the outer axis are made synchronously, in this example, the intersection point of the row conductor Xp and the column conductor Ye (selection point; x
A current flows through the heating resistor located at pa Ye), generating Joule heat, and a heated portion is formed in the monomolecular film or monomolecular layer accumulation film (not shown). Although leakage current flows also at the non-selected points, it is less than the heating part forming current f1 of the monomolecular film or the monomolecular layer stack, so no heating part is formed in the monomolecular film or the monomolecular layer stack. Further, by providing the heating resistor with a diode function, the leakage current can be made even weaker.

このように第8図に於て説明したと同様に、第13図に
於ても、行動駆動信号で線順次走査し、かつそれに同期
して外軸選択信号を出力し1列軸駆動回路39を介して
選択された列導線33を導通状態にすることにより二次
元の画像表示を行うことができる。尚、外軸選択回路3
8はビデオ信号による指令を受けて外軸選択信号を出力
するものである。この時、発熱抵抗体を流れる電流の向
きは問わない。このような、行、及び外軸選択回路36
.38と行、及び列軸駆動回路37.39とはシフトト
ランジスタやトランジスタアレイ等を用いて公知の技術
により構成されるものである。
In this way, in the same way as explained in FIG. 8, in FIG. 13, line-sequential scanning is performed using the action drive signal, and an outer axis selection signal is output in synchronization with the line-sequential scanning, and the single-column axis drive circuit 39 A two-dimensional image display can be performed by bringing the selected column conducting wire 33 into a conductive state via the conductive line 33. In addition, the outer axis selection circuit 3
Reference numeral 8 outputs an outer axis selection signal in response to a command from a video signal. At this time, the direction of the current flowing through the heating resistor does not matter. Such a row and outer axis selection circuit 36
.. The row and column axis drive circuits 38 and 37 and 39 are constructed using known techniques using shift transistors, transistor arrays, and the like.

尚、以上説明した発熱素子を利用したマトリックス駆動
による表示方式に於ても、第2図(B)に於て前述した
ように第9図(B)に示した構成の表示素子DEにも、
必要に応じて単分子膜又は単分子層累積膜3と反射膜も
しくは単分子膜又は単分子層累積3と廃熱素子(たとえ
ば、その内の発熱抵抗線30)との間に耐蝕性の酸化硅
素、膜や窒化シリコン膜を介在させることにより単分子
膜又は単分子層累積膜とそれらとの反応腐蝕を適宜防止
することもで゛きる。
In addition, even in the matrix drive display method using the heating elements described above, the display element DE having the configuration shown in FIG. 9(B) as described above in FIG. 2(B) also
If necessary, a corrosion-resistant oxidation film is provided between the monomolecular film or the monomolecular layer stack 3 and the reflective film or the monomolecular film or the monomolecular layer stack 3 and the waste heat element (for example, the heating resistance wire 30 therein). By interposing a silicon film or a silicon nitride film, reaction corrosion between the monomolecular film or the monomolecular layer stack and the monomolecular layer can be appropriately prevented.

このようなマトリックス駆動型の表示素子は第6図及び
第7図に示したライトバルブ式投写装置にも適用できる
Such a matrix drive type display element can also be applied to the light valve type projection device shown in FIGS. 6 and 7.

本発明はこの外にも感光性分子、強誘電性物質、錯体等
の機能性分子と表面活性物質との結合によって、光、電
気、イオン等によって制御することができる単分子膜又
は単分子層累積膜を有する光学素子を得ることもできる
In addition to this, the present invention also covers monomolecular films or monomolecular layers that can be controlled by light, electricity, ions, etc. by combining functional molecules such as photosensitive molecules, ferroelectric substances, and complexes with surface-active substances. It is also possible to obtain optical elements with cumulative films.

本発明の主要な効果はまとめると以下の通りである。The main effects of the present invention are summarized as follows.

(1)微少な単分子膜又は単分子層累積膜の加熱部の1
個を表示画素単位として高密度に配列することが可能で
あるから、高解像度の画像表示ができる。
(1) 1 of the heating part of a minute monomolecular film or a monomolecular layer cumulative film
Since these pixels can be arranged in high density as display pixel units, high resolution images can be displayed.

(2)表示画素としての単分子膜又は単分子層累積膜の
加熱部の存続時間を調節することによって、静止画、又
は、スローモーションを含む動画の表示が容易にできる
(2) Still images or moving images including slow motion can be easily displayed by adjusting the duration of the heating portion of the monomolecular film or the monomolecular layer stack as display pixels.

(3)多色表示、並びに、フルカラー表示を容易に実施
することができる。
(3) Multicolor display and full color display can be easily implemented.

(4)素子の構造が比較的、簡略であるから、その生産
性に優れているし、素子の耐久性が高く信頼性に優れて
いる。
(4) Since the structure of the device is relatively simple, productivity is excellent, and the device has high durability and reliability.

(5)広範囲な駆動方式に適応できる。(5) Applicable to a wide range of drive systems.

(6)ラングミュア・プロジェット法を用いて単分子膜
又は単分子層累積膜を作製できるので、大面積化が極め
て容易に図れる。
(6) Since a monomolecular film or a monomolecular layer cumulative film can be produced using the Langmuir-Prodgett method, it is extremely easy to increase the area.

(7)液晶のような液体を用いないので、製作が容易で
あり、かつ安全である。
(7) Since no liquid such as liquid crystal is used, manufacturing is easy and safe.

(8)相転移温度はそれ程高くないので、表示素子等に
用いる電力が少なくて済み、それだけ電源部、即ち光変
調整置や表示装置を小型化できる。
(8) Since the phase transition temperature is not so high, less power is required for the display element, etc., and the power supply unit, that is, the light modulation device and the display device can be made smaller.

(8)本発明に係る光学素子は、表示装置への応用に限
らず、電子写真等に用いられる光変調製置への応用も可
能である。
(8) The optical element according to the present invention can be applied not only to display devices but also to light modulation equipment used in electrophotography and the like.

(10)単分子膜又は単分子層累積膜の相転移を利用す
る場合において累積膜構成分子の構造によっては、相転
移した状態を長く保持するものもあるやこのような場合
には、本発明に係る光学素子は記録装置(材料)、記憶
装置(材料)として利用することもできる。
(10) When utilizing the phase transition of a monomolecular film or a monomolecular layer stack, depending on the structure of the molecules constituting the stack, some may maintain the phase transition state for a long time. The optical element according to the above can also be used as a recording device (material) or a storage device (material).

本発明を更に具体的に説明するために、以下に実施例を
あげる。
In order to explain the present invention more specifically, Examples are given below.

実施例1 発熱要素として輻射線吸収層を有するカラー表示素子を
以下のようにして製造した。
Example 1 A color display element having a radiation absorbing layer as a heat generating element was manufactured as follows.

50m+o角のガラス基板表面上にスパッタリング法に
より膜厚1500AのGd−Tb−Fe(ガドリニウム
・テルビウム・鉄)層を付着して、輻射線吸収層9を形
成した。このGdeTbsFe層の酸化を防止するため
、その上に5i02保護膜DE被覆した。
A Gd-Tb-Fe (gadolinium-terbium-iron) layer having a thickness of 1500 Å was deposited on the surface of a 50 m+o glass substrate by sputtering to form a radiation absorbing layer 9. In order to prevent this GdeTbsFe layer from being oxidized, a 5i02 protective film DE was coated thereon.

色分離フィルターとして赤色着色領域(R)、緑色着色
領域(G)および青色着色領域CB)をそれぞれ有する
モザイクフィルターを下記の方法に従って作成した。配
置は、第14図に示される様なベイヤ一方式として、1
つのモザイクのサイズは50ル鵬角とした。
A mosaic filter having a red colored area (R), a green colored area (G), and a blue colored area CB) as a color separation filter was created according to the following method. The arrangement is as a Bayer one-way system as shown in Fig. 14.
The size of each mosaic was 50 lu Pengjiao.

それぞれの着色ポリマー層に用いるポリマー物質として
、溶剤可溶型ポリエステル樹脂(/へイロン−200;
東洋動部)を使用した。また、着色剤は、赤色着色剤と
してスカミロンレッド5−GG(住人化学製)、緑色着
色剤としてチバセットグリーン5G’(チバ・ガイギー
製)および青色着色剤としてミケトンファストブルーエ
クストラ(三井東圧化学製)をそれぞれ使用した。
As the polymer material used for each colored polymer layer, a solvent-soluble polyester resin (/Heiron-200;
Toyo Dobu) was used. In addition, the coloring agents are Sukamilon Red 5-GG (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) as a red coloring agent, Cibaset Green 5G' (manufactured by Ciba Geigy) as a green coloring agent, and Miketon Fast Blue Extra (Mitsui Higashi) as a blue coloring agent. (manufactured by Tenkagaku) were used.

先ず、バイロン−200(40部)、ニトロセルロース
(10部)とメチルエチルケトン(80部)を撹拌しな
がら均一に溶解することによって着色ポリマーの母液を
調製した。
First, a mother liquor of a colored polymer was prepared by uniformly dissolving Vylon-200 (40 parts), nitrocellulose (10 parts), and methyl ethyl ketone (80 parts) while stirring.

上記母液50ccと前記赤色着色剤1mgをステンレス
製のボールミルにて充分(約2時11JI)i和して赤
色着色ポリマーを調製した。同様にして緑色着色ポリマ
ーと青色着色ポリマーを調製した。
50 cc of the above mother liquor and 1 mg of the red coloring agent were sufficiently mixed together (about 2:11 JI) in a stainless steel ball mill to prepare a red colored polymer. A green colored polymer and a blue colored polymer were prepared in the same manner.

次いで、ガラス板上に赤色着色ポリマーをスピンナー(
ミカサ製、 1)1−5型)を使って、その厚みが0.
8川taの一様な被膜となる様に塗布した。被膜が充分
硬化した後、この上に同じくスピンナーでエツチングマ
スクとなるホトレジストOMR−81(東京応化製)を
塗布した。その後、所定のパターニングマスクで露光し
、現像することによってエツチングマスクを形成させた
Next, apply the red colored polymer onto the glass plate using a spinner (
Made by Mikasa, 1) 1-5 type), the thickness is 0.
It was applied to form a uniform coating of 8 rivers. After the film had sufficiently hardened, a photoresist OMR-81 (manufactured by Tokyo Ohka), which would serve as an etching mask, was applied thereon using a spinner as well. Thereafter, an etching mask was formed by exposing with a predetermined patterning mask and developing.

次いで、これを酵素ガスを流したプラズマエツチング装
置(PLA3MOD”:Tegal ’corp、製)
で不必要な部分(非マスク部)を灰化エツチング液去し
て赤色フ゛イルター素子を得た。同様に、緑色および青
色の各着色ポリマーをそれぞれスピンナーによる塗布、
ホトレジストによるエツチングマスクの作成およびプラ
ズマエツチングを順に施こすことによって、それぞれ所
定のパターンをもつ緑色フィルター素子およびh色フィ
ルター素子を前記ガラス基板上に設けた。この結果、所
定のパターンをもつ赤色、緑色および青色着色領域から
なる3色のモザイクフィルターが作成された。
Next, this was subjected to a plasma etching device (PLA3MOD": manufactured by Tegal'corp) in which an enzyme gas was passed.
The unnecessary portions (non-mask portions) were ashed and the etching solution was removed to obtain a red filter element. Similarly, green and blue colored polymers were applied using a spinner, respectively.
A green filter element and a h color filter element each having a predetermined pattern were provided on the glass substrate by creating an etching mask using photoresist and performing plasma etching in this order. As a result, a three-color mosaic filter consisting of red, green, and blue colored areas with a predetermined pattern was created.

次に、LB膜膜製製装置水面上に7ラキジン酸力ドミウ
ム単分子膜を形成し垂直浸せき法により、5i02膜の
表面上に膜厚10#LmのY型累積膜を付着形成しその
上に保護用基板lとしてガラス基板を被せた。
Next, a 7-rachidic acid hydrodomium monomolecular film was formed on the water surface of the LB film production equipment, and a Y-shaped cumulative film with a thickness of 10#Lm was deposited on the surface of the 5i02 film by vertical dipping. A glass substrate was covered as a protective substrate l.

輻射線熱源として、波長830nmを発光する半導体レ
ーザーを使用した。適当なシュリーレン光学系と組み合
わせて駆動させると、所定の表示効果があることを確認
した。
A semiconductor laser that emits light at a wavelength of 830 nm was used as a radiant heat source. It has been confirmed that when driven in combination with an appropriate Schlieren optical system, a certain display effect can be achieved.

実施例2 発熱要素として発熱抵抗線を有するカラー表示素子を以
下のようにして製造した。
Example 2 A color display element having a heating resistance wire as a heating element was manufactured as follows.

50mm角のガラス基板表面に、膜厚l500へのイン
ジウム・ティン・オキサイド(■・T・0)をスパッタ
リング法によりつけた。次にフォトエツチング法により
、 10本/+amの線状パターンを形成して、透明発
熱抵抗線31を得た。なお、I−T・0のエツチング液
としては、塩化第二鉄水溶液と塩酸の混合液を用いた。
Indium tin oxide (■.T.0) was applied to the surface of a 50 mm square glass substrate to a film thickness of 1500 by sputtering. Next, a linear pattern of 10 wires/+am was formed by photo-etching to obtain a transparent heating resistance wire 31. As the etching solution for I-T.0, a mixed solution of ferric chloride aqueous solution and hydrochloric acid was used.

次に、透明発熱抵抗線31が設置されたガラス基板表面
に、1!厚2000Aの5i02膜をスパッタリング法
により刺着して絶縁層29を形成した。さらに、その上
に、膜厚1500Aの工・T−0を付け、フォトエツチ
ング法により透明発熱抵抗線30を前記透明発熱抵抗線
31と直行するように形成した。
Next, 1! An insulating layer 29 was formed by depositing a 2000 Å thick 5i02 film by sputtering. Furthermore, a 1500A film thickness T-0 was applied thereon, and a transparent heat generating resistor wire 30 was formed perpendicularly to the transparent heat generating resistor wire 31 by photo-etching.

次に、LB膜膜製製装置水面上に7ラキジン酸カドミウ
ムの単分子膜を形成し、垂直浸せき法により、5i02
の表面上に膜厚10pmのY型累積膜を形成しその上に
、保護用基板4を被せた。
Next, a monomolecular film of cadmium 7-rachidate was formed on the water surface of the LB membrane manufacturing equipment, and 5i02
A Y-shaped cumulative film having a film thickness of 10 pm was formed on the surface of the substrate, and the protective substrate 4 was placed thereon.

上述の透過照明光学系の下で動作させると、所定の表示
効果を得た。
When operated under the above-mentioned transmitted illumination optical system, a predetermined display effect was obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(A)は、本発明に係る透過型の表示素子の断面
図、第1図(B)は、本発明に係る反射型の表示素子の
断面図、第2図は、本発明に係る表示素子の作像原理の
説明図であり、第2図(A)は、透過型表示素子の場合
、第2図(B)は、反射型表示素子の場合である。第3
図は9本発明に係るカラー表示素子の断面図、第4図は
、単分子層累積膜の模式図、第5図は、単分子層累積膜
における相転移現象の模式図、第6図、第7図は本発明
に係る表示素子を組み込んだライト/<ルブ式投写装置
の概略構成図である。第8図は本発明に係る表示装置と
してのライト/曳ルブ式投写装置のブロック図である。 第9図は、本発明に係るマド1)ツクス駆動型の表示素
子の構成例を示す断面図であり、第9図(A)は、透過
型表示素子、第9図(B)は、反射型表示素子である。 第10図は、未発明に係る作像方式の模式的説明図、第
11図、第12図tま発熱素子の各構成例を説明するた
めの外観部分斜視図、第13図は、本発明に係るマトリ
ックス駆動表示装置のブロック図である。第14図は、
ベイヤ一方式のモザイクフィルターの模式図である。 DE二表示素子 l二基板 2二発熱要素 3:単分子膜又は単分子層累積膜 4:保護用基板 5:単分子膜又は単分子層累積膜の加熱部6:発熱要素
の加熱部 7:照明光 8−に親水基 8−2=疎水基 9:輻射線吸収層 lO:輻射線 ll:反射膜 12:発熱体層 13:格子 13a :第1格子 13b=第2格子 14:シュリーレンレンズ 15ニスクリーン 16:入射光 17:結像レンズ 18:水平スキャナー 19:垂直スキャナー 20:レンズ 21:コールドフィルタ 22:映像発生回路 23:制御回路 24:映像増幅回路 25:水平駆動回路、垂直駆動回路 26:レーザ光源 27:光変調器 28:カラーモザイクフィルタ 28:絶縁層 30.31:発熱抵抗線 32、32a、32b、33.c、・= :発熱抵抗層
9発熱抵抗体33.33a、33b、33cm :列導
線34.34a、34b、34cm :行導線35:・
・・・・・交叉部 36:・・・・・・行動選択回路 37.3?a、3?b−:杆軸駆動回路38:列軸選択
回路 39.39a、39b・−・:外軸駆動回路40:画像
制御回路 41:赤色着色領域 42:緑色着色領域 43:青色着色領域 ′図面の浄曇(内容に変更なし) (A) (B) 弗2図 口面の浮糸内容に変更なし) 第3図 第 41 第 5 図 口面の浄書(内容に変更な、L9 第6図 第7図 、:面の;ン乙l ’]容に変更なしノ第9図 一二;iのン了1δ−〔内容(二変更なし)第10図 ′コメつ1び;(内−ドに一゛ニー゛なし)第 13 
図 手続補正書Cj5カ 昭和59年 3月28日 特許庁長官 殿 ■、小事件表示 昭和58年特許願 第2214.3λ
号2、発明の名称 光学素子 3、補正をする者 事件との関係 出願人 (1oo) キャノン株式会社 4、代理人 5、補正命令の日付 発送日:昭和59年2月28日 6、補正の対象 明細書全文及び図面 7、補正の内容
FIG. 1(A) is a cross-sectional view of a transmissive display element according to the present invention, FIG. 1(B) is a cross-sectional view of a reflective display element according to the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of a reflective display element according to the present invention. FIG. 2(A) is an explanatory diagram of the image forming principle of such a display element, and FIG. 2(A) is for a transmissive display element, and FIG. 2(B) is for a reflective display element. Third
9 is a cross-sectional view of a color display element according to the present invention, FIG. 4 is a schematic diagram of a monomolecular layer cumulative film, FIG. 5 is a schematic diagram of a phase transition phenomenon in a monomolecular layer cumulative film, and FIG. FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a light/<Lube type projection device incorporating a display element according to the present invention. FIG. 8 is a block diagram of a light/pulling type projection device as a display device according to the present invention. FIG. 9 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of a multi-drive type display element according to the present invention, in which FIG. 9(A) is a transmissive display element and FIG. 9(B) is a reflective display element. It is a type display element. FIG. 10 is a schematic explanatory diagram of an image forming method according to the invention, FIGS. 1 is a block diagram of a matrix drive display device according to the present invention. Figure 14 shows
FIG. 2 is a schematic diagram of a Bayer one-type mosaic filter. DE Two display elements l Two substrates Two heat generating elements 3: Monomolecular film or monomolecular layer stack 4: Protective substrate 5: Heating section 6 of the monomolecular film or monomolecular layer stack: Heating section 7 of the heat generating element: Illumination light 8- includes hydrophilic group 8-2 = hydrophobic group 9: radiation absorption layer lO: radiation ll: reflective film 12: heating element layer 13: grating 13a: first grating 13b = second grating 14: Schlieren lens 15 Niscreen 16: Incident light 17: Imaging lens 18: Horizontal scanner 19: Vertical scanner 20: Lens 21: Cold filter 22: Image generation circuit 23: Control circuit 24: Image amplification circuit 25: Horizontal drive circuit, vertical drive circuit 26 : Laser light source 27: Light modulator 28: Color mosaic filter 28: Insulating layer 30.31: Heat generating resistance wires 32, 32a, 32b, 33. c, ・=: Heat generating resistor layer 9 heating resistor 33.33a, 33b, 33cm: Column conductor 34.34a, 34b, 34cm: Row conductor 35:・
...Cross section 36: ...Action selection circuit 37.3? a.3? b-: Rod shaft drive circuit 38: Column axis selection circuit 39, 39a, 39b...: Outer shaft drive circuit 40: Image control circuit 41: Red colored area 42: Green colored area 43: Blue colored area' Drawing cleaning Cloudy (no change in content) (A) (B) No change in float content on the front side of 弗2) Figure 3 No. 41 Engraving of the fifth drawing side (No change in content, L9 Figure 6 No. 7) Fig. 12; Contents (2 unchanged) Fig. 10' Comments 1; No knee) No. 13
Figure Procedure Amendment Cj 5 March 28, 1980 Commissioner of the Patent Office Mr. ■, Minor Case Indication 1988 Patent Application No. 2214.3λ
No. 2, Name of the invention Optical element 3, Person making the amendment Relationship to the case Applicant (1oo) Canon Co., Ltd. 4, Agent 5, Date of amendment order Sent date: February 28, 1980 6, Amendment Full text of the subject specification, drawing 7, and content of amendments

Claims (1)

【特許請求の範囲】 l)少なくとも疎水部分と親木部分とを有する有機化合
物分子からなる単分子膜又は単、分子層累積膜、該単分
子膜又は゛鎖車分子層累積膜を加熱するための発熱要素
および有色のフィルタ層を備えたことを特徴とする光学
素子。 2)前記フィルタ層が分割された複数の異色部の集合体
iり成ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
光学素子。
[Scope of Claims] l) A monomolecular film or a monomolecular layer accumulation film made of organic compound molecules having at least a hydrophobic part and a parent part, and for heating the monomolecular film or a chain wheel molecular layer accumulation film. An optical element comprising a heating element and a colored filter layer. 2) The optical element according to claim 1, wherein the filter layer is composed of an aggregate i of a plurality of divided different color parts.
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