JPS6011474A - 置換４，５−ジメトキシピリダゾン、その製法及び該化合物を含有する除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、置換４．５−ジメトキシピリダゾン、その製
法、該ピリダゾンを有効物質として含有する除草剤、並
びに該有効物質又は除草剤を用いて好ましからぬ植物生
長を防除する方法に関する。

従来の技術 １−フェニル−４，５−ジメトキシ−ピリダゾン−（６
）が広範な除草作用を有しかつ総合除草剤として使用す
ることカζできることは公知である（米国特許第３．３
２６．６６０号明細書〕。該有効物質は４１ハ物の柚刊
は削に使用するか又は巣を処理すると植物駆除特性を有
する。更に、同様な除草特性を有する４、５−二置換１
−（ｍ−）リフルオルーフェニル）−ｔｌＬｍ６−ピリ
ダゾン並びに４．５−二置換１−フェノキシフェニル置
換６−ピリダゾンも公知である（米国特許第３．６９７
．５２２号四細曹；米国特許第４，３６０，６７２号明
細書ノ。

ところで、式： 〔式中、 Ｘ及びＹは夫々相互に無関係に酸素原子、硫黄原子、ス
ルフィニル基又はスルホ基を表わし、Ｈｌ及びＲ２は夫
々相互に無関係に水素原子又はＣ１〜じアルキル基′を
表わし、 ｚｌ　、　ｚｌ及びｚ３　は夫々相互に無関係に水素原
子、ハロゲン原子、ニド四基、シアノ基、　Ｃ１〜４−
アルキル基、Ｃ１〜４−ハロゲンアルキルＭｉ、ＣＩ−
４−アルコキシ＆、”１，４−ハロゲンアルコキシ基、
Ｃ１〜４−アルキルメルカプト基、Ｃ１〜４−ハロゲン
アルキルメルカプト基、０１〜４−アルキルスルフィニ
ル基又はＣＩ、４−アルキルスルホニル基を表わしかつ
ｎ及びｐは０又は１の数字を表わし、 ｍ及びｑは０〜８の数字を表わす〕で示される１１ｉ４
．５−ジメトキシピリダゾンが良好な除草作用を有しか
つしかも栽培植物に対する驚異的相容性並びに栽培植物
栽培で使用すると選択的除草作用を有することが判明し
た。

式■中のｔ侯基は以下のものを表わすことかでさる二Ｒ
１及びＲ２は夫々相互に無関係に水素原子又はＣ，〜４
−アルキル基例えはメチル、エチル、ｎ　−プロピル、
ｌ−プロピル、ｎ−ブチル又はｔ−ブチルを表わすこと
かでさる。

ｚｌ、ｚｌ及びｚ３は夫々相互に無関係に例えば水素原
子、ハロゲン原子例えば弗素、塩素、臭素、ニトロ、シ
アノ、Ｃ１〜４−アルキル基例えはメチル、エチル、ｎ
−７’ロビル、ｘ−プロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル
、Ｃ１〜４−ハロゲンアルキル基例えハトリフルオルメ
チル、クロルオルメチル、フルオルメチル、トリクロル
メチル、ジクロルメチル、クロルメチル、クロルオルク
ロルメチル、１−り目ルエチル、２−クロルエテル、１
−フルオルエチル、２−フルオルエチル、２，２．２−
トリクロルエチル、２．２，２−トリフルオルエチル、
１．１，２．２−テトラフルオルエチル、１，１゜−ト
リフルオル−２−クロルエチル、１　、１．２゜２．２
−ペンタフルオルエチル、Ｃ１〜４−アルコキシ例えば
メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、１−プロピルオ
キシ、ｔ−ブチルオキシ、Ｃ１〜４−ハロゲンアルコキ
シ基例えばトリクロルメトキシ、トリフルオルメトキシ
、１−り白ルエトキシ、２−クロルエトキシ、１−フル
オルエトキシ、２−フルオルエトキシ、２，２．２−）
ジクロルエトキシ、２，２＋２−）リフルオルエトキ７
．１゜１．２．２−テトラフルオルエトキシ、鳳１゜２
．２．２−ペンタフルオルエトキシ、Ｃ１〜４−アルキ
ルメルカプト基例えはメチルスルホニル、エチルメルカ
プト、Ｃ１〜４−ハロゲンアルキルメルカプト基例えば
トリクロルメチルメルカプト、トリフルオルメチルメル
カプト、Ｃ１〜４−アルキルスルフィニル基例えはメチ
ルスルフィニル、エチルスルホニル　、又に’Ｊ−Ｃｓ
〜４−アルキルスルホニル基例えはメチルスルホニル又
はエチルスルホニルな表わすことかできる。

式■で示される有利な化合物は、Ｘ及びＹが夫夫相互に
無関係に酸素原子又は硫黄原子を懺わし、Ｒ１及びＲ２
が夫々相互に無関係に水素原子又はＣｉ〜４−アルキル
基を表わし、ｚｌ　、　ｚｌ及びｚ３が夫々相互に無関
係に水素原子、ハロゲン原子、Ｃ，〜４−アルキル基、
”１〜４−ハロゲンアルキル２Ｍ’％　Ｃ１〜４−アル
コキシ基又はＣ五〜４−ハロゲン、アルコキシ基を表わ
し、かつｎ及びｐが０又は１の数字を表わしかつｍ及び
ｐが０〜８の数字を表わすものである。

更に有利である式■の化合物は　１１及びＲ２が水素原
子、ｚｌが水素原子　ｚｌ及びｚ３がハロゲン原子、ｎ
が０、ｍが１、ｐが１及びｑか０を表わすものである。

式Ｉの４，５−ジメトキシピリダゾンは、式：）１ａｌ 〔式中、Ｘ　ｈ　Ｙ　ｈ　Ｒ”、Ｒ’、Ｚ’、Ｚ”、Ｚ
”、　ｎ　、　ｍ　ｊｐ及びｑは前記のものを表わしか
つＭａｌはハロゲン原子、特に塩素又は臭素を表わす〕
で示さｎる４、５−ジハロゲンピリダゾンをほぼ化学量
論酌量のアルカリ金属メタノラードと不活性有機溶剤の
存在下に一般に１００℃までの温度で反応させることに
より得られる。この場合、反応は常圧又は加圧（１〜１
０バール）下に連続的に又は不連続的に実施することが
できる（方法ａ）。

出発物質として１−〔３”−（４″−クロルベンジルオ
キシノ−フェニル〕−４ａ　５−　シクロルヒリダゾン
−（６）及びナトリウムメチラートを使用する場合には
、該反応工程は以下の反応式で表わすことができる： Ｉ （Ｉ） 有利にはジハロゲンピリダゾン■をまず有ｍ浴剤、例え
ばトルエン中に浴かすか又は懸濁させかつ次いで相応す
る量のアルコラードと反応させる。

反応は大気圧又は高めた圧力で、一般に１００℃までの
反応温度で、有利には４０〜８０℃の温肌で１２時間以
以内性させる。該反比、は不連続的に文は連続的に実施
することができる。反応混合物は常法で後処理すること
ができる。目的物質が固形で生成する場合には、例えば
該生成物を沈殿物の吸引１過によって単Ｍする。それに
対して、目的物質が溶剤中に浴解されている場合には、
該溶剤を減圧下に留去し、残留分を水と共に攪拌しかつ
吸引ｆ遇する。Ｎ裂のためには、生成物を例えは再結鵡
させるか又はり四マドグラフィー処理することができる
。

式■のジハロゲンピリダゾンとしては、例えば式Ｖ： 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ”ＪＲ”、Ｚ”、Ｚ”＊Ｚ”＋ｎｓ
ｍｊｐ及びｑは前記のものを表わす〕で示さｎる７エ二
ルヒドラジンと式： 〔式中、Ｍａｌは塩素原子又は臭素原子を表わす」で示
される３−ホルミル−２ａ　３−　シバｏ　））’　７
−アクリル酸とを反応させかっこうして得られたジハロ
ゲンアクリル酸セミカルバゾンを環化することにより得
られた化合物を使用することができる。

相応するジハロゲンアクリル酸セミカルバゾンを得る反
応は、室温で例えば私酸性水浴液中、又は水を含有する
か又はしない有機浴剤例えばエタノール（これは反応の
終了後に留去されるン中で実施すること力上できる。次
いで、このセミカルバゾンを好ましくは予め単離せすに
、氷計酸又は無水酢酸中で煮沸するか、又は水性繁ｅＲ
例えは塩酸中で１００℃までの温度で加熱するか、又は
濃鉱酸例えは硫酸中で室温゛で攪拌することにより式■
のジハロゲンピリダゾンに環化する（ドイツ遅邦共和国
特許出願公囲第１６９５８４０号、同第２５２６６４３
号、同第１５４５５９５号明梢曹ン。この反応は不連続
的に又は連続的に実施することができる。反応生成物は
一般に慣用の方法に丞づき後処理することができる。

式中のＸがば索原子文は倣ｉＲ原子を表わしかつｎが１
を表わす式■の４，５−ジメトキシピリダゾンは、式： 〔式中、Ｘは酸系原子又は健黄原子を表わす〕で示され
る４、５−ジメトキシピリダゾンをほぼ化学量論的量り
式： 〔式中、Ｒ”、　Ｒ”、　Ｙ　、　Ｚ”、Ｚ”、Ｚ３．
　ｍ　、　ｐ及びｑは前記のものを表わしかつＨａｌは
ハロゲン原子、特に塩素又は臭素を表わす〕で示される
アルキルノ・ロゲン化物と不活性有機溶剤及び場合によ
り酸容容体の存在下に０〜１５０℃の温度で反応させる
ことにより製造することができる。該反応は常圧又は加
圧下に連続的に又は不遅続的に実施することができる（
方法ｂ）◇ 出発物質として１−（３−ヒドロキシフェニルノー４，
５−ジメトキシピリダゾン−（６）及びベンジルクロリ
ドを使用する場合には、該反応工程は以出発物質はほぼ
化学量論的割合、すなわち出発物質■に対して出発物質
■を１０％までの不足量又は過剰量で使用する。反応を
完全にするために場合により酸受容体を添加することも
できる。更に、反応の際に生成するハロゲン化水素は不
活性ガス例えば窒素を導入することによっても追出する
ことかできる。この方法は、不法性有機浴剤中の塩化ベ
ンジル■の溶液な０〜３０℃で場合により１当量の酸受
容体と同時に、不活性有機溶剤例えばジメチルホルムア
ミド中の出発物質Ｈの溶液又は懸濁液に供給する形式で
実施するのが有利である。

反応を終了させるには、３０〜１５０　Ｃで０．５〜４
８時間、有利には２〜１２時間後攪拌する。反応混会物
は常法で後処理する。目的物質が固形で沈殿する場合に
は、例えば沈殿物の吸引濾過により単離する。それに対
して、目的物質か浴剤中に俗解されている場合には、該
答剤を減圧下に留去し、残留分を水と共に攪拌しかつ吸
引Ｐａした。Ｍ＃のためには、生成物を例えは８ｍ晶さ
せるか又はクロマトグラフィー処理することができる。

両方法り及びｂ）のためには、その都度の反応条件下で
不活性溶剤を使用することができる。適当なものは、例
えはハロゲン化炭化水素、特にクロル炭化水素例えはテ
トラクロルエチレン、ｉ、ｉ。

２．２−又はｉ、Ｉ、ｌ、２−テトラクロルエタン、ジ
クロルプロパン、塩化メチレン、ジクロルエタン、クロ
ロホルム、クロルナフタリン、ジクロルナフタリン、四
塩化炭素、１，１，１−又はＩｊｌｔ２−１１クロルエ
タン、トリクロルエチレン、ペンタクロルエタン、ｏ　
＋、　ｍ　−、ｐ　Ｊフルオルベンゼン、１．２−ジク
ロルエタン、■。

１−ジクロルエタン、１．２−シス−ジクロルエチレン
、クロルベンゼン、フルオルベンゼン、ブロムベンゼン
、ヨードベンゼン、ｏ　−、ｐ−、ｍ−ジクロルベンゼ
ン、ｏ＋、ｐ＋、ｍ−ジブロムベンゼン、０−１ｍ−１
ｐ−クロルトルエン、工。

２．４−１リクロルベンゼン；エーテル例、ｔ　バーｃ
チルグロビルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、
ｎ　−ブチルエテルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテル
、ジイソブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、アニソ−／ｌ／、７　ｘ　、１．
　トール、シクロヘキシルメチルエーテル、ジエチルエ
ーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、テ、ｔ７二ソール、β、β
１−シノロルジエチルエーテル；ニトロ炭化水素例えば
ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロベンゼン、０−１
ｍ−１ｐ−クロルニトロベンゼン、０−二１１０トルエ
ン；ニトリル例えばアセトニトリル、ブチロニトリル、
インブチロニトリル、ベンゾニトリル、ｍ−クロルベン
ゾニトリル；脂肪族もしくは脂項式旋化水素例えはへブ
タン、ヒナン、ノナン、ｏ−１ｐ−７ナモール、沸点範
囲７０〜１９０℃円のベンジン留分、シクロヘキサン、
メチルシクロヘキサン、デカリン、石油エーテル、ヘキ
サン、リグロイン、２゜２．４−）リメチルベンタン、
２，２．３−トリメチルペンタン、２，３．３−トリメ
チルペンタン、オクタン；エステル例えは酢酸エチル、
アセト酢酸エステル、酢酸イソブチル；アミド例えばホ
ルムアミド、メチルホルムアミド、ジメチルホルムアミ
ド；ケトン例えはアセトン、メチルエチルケトン；及び
相応する混合物である。溶剤は出発物質に対して１００
〜２０００重量％、有利には２００〜７００重量％の量
で使用するのが有利である。

方法−のための酸受容体としては、全ての常用の酸結合
剤を使用することができる。このためには有利には第三
級アミン、アルカリ土類金属化合物、アンモニウム化合
物及びアルカリ金属化合物並びに相応する混合物が該当
する。例えば以下の化合物か挙げら牡る：水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム
、水酸化リチウム、炭酸リチウム、重炭酸ナトリウム、
重炭酸カリウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、
酸化バリウム、水酸化マグネシウム、酸化マグネシウム
、水酸化バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム
、重炭酸マグネシウム、酢酸マグネシウム、水酸化亜鉛
、酸化亜鉛、炭酸亜鉛、炭酸水素亜鉛、酢酸亜鉛、蟻酸
ナトリウム、ｐ酸化バリウム、トリメチ・ルアイン、ト
リエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソグロビ
ノトアミン、トリブチルアミン、トリインブチルアミン
、トリー５ｅｃ−ブチルアミン、トリーｔ−ブチルアミ
ン、トウベンジルアミン、トリシクロヘキ／ルアミン、
トリアミルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ
ヘキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−
ジエチルアニリ７、Ｎ、Ｎ−シクロピルアニリン、Ｎ、
Ｎ−ジメチルトルイジン、Ｎ、Ｎ−ジエチルトルイジン
、Ｎ、Ｎ−ジエチルトルイジン、Ｎ、Ｎ−ジメチル−ｐ
−アミンピリジン、Ｎ、Ｎ−ジエチル−ｐ−アミノピリ
ジン、ＮｊＮ−ジプロピル−ｐ−アミノピリジン、Ｎ−
メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン、Ｎ−メチル
ピペリジン、Ｎ−エチルピペリジン、Ｎ−メチルビロー
ル／、Ｎ−エチルピロリジン、Ｎ−メチルイミダゾール
、Ｎ−エチルイミダゾール、Ｎ−メチルビロール、Ｎ−
エテルヒロール、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−エチルモ
ルホリン、Ｎ−メチルへキサメチレンイミン、Ｎ−エチ
ルへキサメチレンイミン、ピリジン、キノリン、α−ピ
コリン、γ−ピコリン、インキノリン、ピリミジン、ア
クリジン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラメチルエチレン
ジアミン、Ｎ、ＮｊＮｌ、Ｎ１−テトラエチルエチレン
ジアミン、キノキサリン、キナゾリン、Ｎ−プロビルジ
イソグロビルアミン、Ｎ。

Ｎ′−ジメチルシクロヘキシルアミン、２，６−ルチジ
ン、２，４−ルチジン、トリフリルアミン、トリエチレ
ンジアミン。

出発化合物は文献から公知方法に基づいて製造される。

例えば式Ｖのフェニルヒドラジンは一般に公知方法に基
づいて相応するアニリンからジアゾ化及び還元により得
られる〔“Ｈｏｕｂｅｎ　−Ｗｅｙｌ　。

Ｍｅｔｈｏｄｅｎ　ｄｅｒ　ｏｒｇａｎｌｓｃｈｅｎ　
Ｃｈｅ＋ｎｌｅ　″第１０１２巻、１８０負、ゲオルグ
ーチーメ出版社、シュトツツガルト在、１９６７年〕。

相応するヒラシンにする反応はヒドラジンな単離せずと
も実施することができるが、先にフェニルヒドラジンを
塩酸塩として単離した方が純粋な生成物が得られる。

アニリンもまた一部は文献から公知であり（ドイツ浬邦
共和国特許出願公開第２８４６７２３号明細書ン又は一
般に文献から公知方法に基づき製造することができる。

チオエーテルを酸化して相応するスルホキシ又はスルホ
ンにすることは一般に公知でありかつ常法で実施するこ
とかできる。

実施例 次に実施例により式Ｉの化合物の製法を説明する。実施
例中の重量部と容量部はｋｇとｔの関係にある。

実施例１ ａ）　氷酢酸４００答量都及び製塩ｌＲ７０容童部中の
３−フェノキシメチルアニリン４９．８重量％の滞濁液
を水４５答量郡中の鼠化ナトリウム１７．２５重倉都の
浴液とｌθ〜２０　Ｃで反応させた。仄いで、Ｓ塩酸８
０容量部中のＳｎＣ／４　・２ＨｚＯＬ１８重ｊｋ都の
溶成を加え、ＯＬに冷却しかつ相比、１−るヒドラジン
垣敵塩を吸引１過によって単離する。

りこうして得らオｔたヒドラジン塩酸塩４３．２皇ｋｍ
及びムコクロル葭３３．４厘蓋地の酢酸２００容倉都中
の患陶ａを沸騰直置に１０分間加熱し、引枕き反応混合
物を乍却しかつ水■０００容１部に専大する。次いで、
沈殿物を吸引′ｅ：Ｉ過しかつエタノールから再結晶さ
せる。融点９２〜９４℃の１−＜　ａ＋　−フェノキシ
メチル−フェニル）−４，５−ジクロルピリダゾン−（
６）５３３ｉ童部が得られる。

Ｃノ　無水トルエン１５０容ｉｓ中の１−　（１’−フ
ェノキシメチル−フェニル）−４，５−ジクロルピリダ
ゾン−（６）１５７（蓋部、ナトリウムメチラ−ト２．
３崖量部及びＮ−メチルヒロリドンＯ，■重重部の懸濁
液を攪拌しながら６０℃で２時間保持する。生成した浴
液をエーテル２００容童部で希釈し、水火々１００容麓
部で２回処椎し、乾燥し、１遇しかつ減圧下に濃縮する
。油状残部分をジイングロビルエーテルで摩砕する。吸
引ｆ廟により、融点８２〜８５℃の１−（３−フェノキ
７メチルーフエニル）−４，５−ジメトキシピラゾン−
（６）（化会物＊１）ｉ３３童地が得られるＯ 上記実施例の操作床により、以下の第１表に記載の式Ｉ
の化会物を製造することができる：０　０　１Ｑ 。　′　。

＋１１１１１１１１１１１１１＋１ ０ロロロ０００ロロＯＯ００ｅ）　Ｏ０寸のＯトの（Ｆ
）０−囚の寸の。トωの−５−−１−１−＋ｌ　Ｃ’Ｊ
へへへへへへへへへ１１１１１１　１　１１１１１１１
１ ０　０　０　０　０　０　ロ　０　０　ＣＩ　０　０　
０　０　０１１１１１１　１　１１１１１１１１ ０＋ｌ〜ｃＱ寸の　０　トω■Ｏ−ｓ　（’Ｊω寸ｃＱ
）　の　の　の　の　の　の　の　■　寸　寸　寸　寸
　寸Ｑ　ＯＯＯＯＯＯＯＯＯＯ００００００＋１１１　
１１１１１１１１１１１１１りｏＴ−＋■　ＯＱ−への
寸叩Φトω■〇−寸　寸　寸　寸　寸　の　唖　Ｖｓ　
１７’）　の　の　リ　り　唖　膿　Φ　Ｑｌｌｌｌｌ
ｌｌｌｌｌｌｌｌｌｌｌｌ ｌｌｌｌｌｌｌｌｌｌｌｌｌｌｌｌｌ ｏ　０　０　０　０　０　０　０　０　０　０　０　０
　０　０　Ｃ）　００％）ｃＱ寸唖Ｃｏ　ｌ’−００■
０−へ０寸０■トωＣｏ　（０１０ｇ）■（０’Ｏ（Ｑ
　トＬ−トドｌ’−トトトｈの　へ ＱｌｌＩ　Ｑ １　１１１１１１１１　１１１１１１１ロ　ｏ　ｏ　ロ
　ロ　ｏ　ｏ　ｏ　ｏ　ｏ　ｏ　ｏ　ｏ　ｏ　ｏ　Ｏｏ
　ｏ−ＩへＣＱ寸りＱ　ト■■０−への寸ｔ−Ｃｏ　ω
　０Ｏａｏ　ω　■　■　ω　ω　ω　■　ｏ　Ｃ）　
ｃｒ＋　■０　０　０　ロ　０　０　０　０　０　０　
（１）　ＣＱ　Ｃ／ｌ　（／ｌ　Ｃ／ｌ　’／）　ＣＱ
ｏ　００００口ＣＩ　Ｉ　Ｉ　ｌ　ｌ　Ｉ　ｌ　ｌ　ｌ
　ｌ　ｌ■■１１自−１１１１１ ω　ψ　〃　〃　ω　０　〃　０　ω　Ｏ】　ω　ω　
ω　〃　１閃 １　■　１　■　■　■　Ｉｔ　ＩＩｃ／）１１１１１
１１１１１１１１１１　１ １１１１１１１１１１１１１１＋　１ ω　ω　Ｉ／Ｉｃａ　ｃａ　ｃｏ　ψ　〃〃〃　Φ　ω
　００　ω　〃１　ξ　１１１１１１１１１１１１１１
１１１＋１１１１１１１１１０００００ ０す〃〃ω〃り〃ωののη〃０りωω １１１１１１１１１１１１１１１１１ 一般式■のジメトキシピリダゾンは、例えば直接的に噴
霧可能な溶液、粉末、懸濁液、更にまた高濃度の水性、
油性又はその他の懸濁液又は分散液、エマルジョン、油
性分散液、ペースト、ダスト剤、散布剤又は顆粒の形で
ｕＸ霧、ミスト法、ダスト法、散布法又は注入法によっ
て適用することができる。適用形式は、完全に使用目的
に基いて決定される；いずれの場合にも、本発明の有効
物質の可能な限りの微細分が保証されるべきである。

直接飛散可能の溶液、乳濁液、ペースト又は油分散液を
製造するために、中位乃至高位の沸点の鉱油留分例えば
溶油又はディーゼル油、更にコールタール油等、並びに
植物性又は動物性腫出源の油、脂肪族、譲状及び芳香族
炭化水素例えはペンゾール、ドルオール、キジロール、
パラフィン、テトラヒドロナフタリン、アルギル随換ナ
フタリン又はその誘導体、例えはメタノール、エタノー
ル、グロバノール、メタノール、クロロフォルム、四塩
化炭素、シフ四ヘキサノール、シクロヘキサノン、クロ
ルベンゾール、イン７オロン等、強極２性溶剤例えばジ
メチルフォルムアミド、ジメチルスルフオキシド、Ｎ−
メチルピロリドン及び水が使用される。

水性使用形は乳濁液濃縮物、ペースト又は湿潤可能の粉
末（噴射粉末）、油分散液より水の添加により製造され
ることができる。乳濁液、ペースト又は油分散液を製造
するためには、物質はそのまま又は油又は溶剤中に浴膚
して、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化剤により水中に
均質に混合されることができる。しかも有効物質、湿潤
剤、接漕剤、分散剤又は乳化剤及び場合により溶剤又は
油よりなる濃縮物を製造することもでき、こ扛は水にて
希釈するのに適する。

表面活性物質としては次のものが挙げられる：リグニン
スル７オン酸、ナフタリンスルフォン酸、フェノールス
ルフォン酸のアルカリ塩、アルカリ土ａ塩、アンモニウ
ム塩、アルキルアリールスルフオナート、アルキルスル
７アート、アルキルスル７ア−ト、ジブチルナフタリン
スルフォン酸のアルカリ塩及びアルカリ土類塩、ラウリ
ルエーテルスルフアート、脂肪アルコールスルフアート
、脂肪酸アルカリ塩及びアルカリ土類塩、ＷｃｆＩＪｉ
化ヘキサデカノール、ヘプタデカノール、オクタデカノ
ールの塩、硫酸化脂肪アルコールグリコールエーテルの
塩、スルフォン化ナフタリン又はナフタリン誘導体とフ
ォルムアルデヒドとの縮合生成物、ナフタリン或はナフ
タリンスルフォン酸とフェノール及びフォルムアルデヒ
ドとの縮合生成物、ポリオキシエチレン−オクチルフェ
ノールエーテル、エトキシル化インオクチルフェノール
、オクチルフェノール、ノニルフェノール、アルキルフ
ェノールホリクリコールエーテル、トリブチルフェニル
ホリクリコールエーテル、アルキルアリールポリエーテ
ルアルコール、イントリデシルアルコール、脂肪アルコ
ールエゐレンオキシドー縮合物、エトキシル化とマシ油
、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、エトキシル化
ポリオキシグロビレン、２ウリルアルコールホリグリコ
ールエーテルアセタール、ソルビットエステル、リクニ
ン、亜硫酸８液及びメチル繊維素。

粉末、散布剤及び振りかけ剤は有効物質と固状担体物質
とを混合又は−緒に磨砕することにより製造されること
ができる。

粒状体例えは被覆−１透浸−及び均質粒状体は、有効物
質を周状担体物質に納会することにより製造されること
ができる。固状担体物質は例えば鉱物上例えはシリカゲ
ル、珪酸、珪酸ゲル、珪酸塩、滑石、カオリン、アタク
レ、石灰石、石灰、白亜、膠塊粒土、石灰質黄色粘土、
粘土、白雲石、珪藻土、硫酸カルシウム、６１［マグネ
シウム、酸化マグネシウム、磨砕合成樹脂、肥料例えば
硫酸アンモニウム、燐酸アンモニウム、硝酸アンモニウ
ム、尿素及び植物性生成物例えば穀物粉、樹皮、木材及
びクルミ穀粉、繊ｍ素粉末及び他の固状担体物質である
。

本除草剤は一般にｏ、１〜９５重量％、好−ＪＬ＜は０
．５〜９０重量％の有効物質を含有する。

製剤倒は以下の通りである。

■、９０重′ｊＩＬｓの化合物ｌをＮ−メチル−α−ピ
ロリドンｌθ重址都と混合する時は、極めて小さい滴の
形にて使用するのに逸する溶液が得られる。

■、１０重ｉ部の化合物３を、キジロール９０１量部、
エチレンオキシド８乃至１０モルをオレイン酸−Ｎ−モ
ノエタノールアミド１モルに附加した附加生成物６　崖
ｆ都、ドデシルペンゾールスルフォン酸のカルシウム塩
２重量部及びエチレンオキシド４０モルをヒマシ油１モ
ルに附加した附加生成物２重量部よりなる混合物中に溶
解する。

■、２０重量部の化合物５を、シクロヘキサノン６０重
量部、インブタノール３０重量部、エチレンオキシド７
モルをインオクチルフェノール１七ルニ附加した附加生
成物５Ｎ量部及びエチレンオキシド４０モルをヒマシ油
１モルに附〃口し定附加生成９：Ｊ５重蓋部よりなる混
合物中に浴屏する。

ＩＶ、２０Ｘ量部の化合物３３乞、シクロヘキサノン２
５重黛部、沸点２１０乃至２８０℃の鉱油留分６５重賞
部及ヒエチレンオキシド４０モルをヒマシ油１モルに附
加した附加生成ｑｉ！１Ｊ１０ｆｉ童郁よりなる振付物
中に溶解する。この溶液を水１０００００ｍ菫郡中に注
入し且つ側分布することにより有効動員０．０２厘員饅
を含有する水性分散液が得られる。

■、８０重量部の化合物１２６を、ジイソブチル−ナフ
タリン−α−スルフォン酸のナトリウム塩３重量部、亜
硫酸−廃液よりのりゲニンスルフォン酸のナトリウム塩
１０重量部及び粉末状珪酸ゲル７重量部と充分に混相し
、且つハンマーミル中に於て磨砕する。

Ｖｌ、５重量部の化合物１３０　ヲ、ａ′Ｅ１．状カオ
リン９５重量部と密に混和する。か（して有効物質５東
量チを含有する噴霧剤が得ら７する。

ｖｎ、３０！負部の化合物１０８を、粉末状珪酸ゲル９
２重ｉ部及びこの珪酸ゲルの表面土に吹きつけられたパ
ラフィン油８重量部よりなる混付物と密に混相する。か
（して良好な接層性を有する有効物質の製剤が得られる
。

１．２０重量部の化付物２８を、ドデシルペンゾールス
ル７オン醒のカルシウム塩２重ｆ都、脂肪アルコール−
ポリグリコールエーテル８重量部、フェノールスルフォ
ン酸−に索−フォルムアルデヒド−Ｍ付物のナトリウム
塩３重量部及びバッフイン系鉱油６８重量部と密に混相
する。安定な油状分散液が得られる。

施用は発芽前処理法又は発芽後処理法で行なうことがで
きる。有効物質が発芽後処理法において特定の栽培植物
に対して相容性が低い場合には、除草剤を噴霧器を用い
て、敏感な栽培植物にはできるだけ当らず、有効物質が
その下で生長した分ましからぬ植物叉は島田した土壌面
に達するように噴繕する散布技術を通用することもでき
る（ボスト−ダイレフテッド、レイ−パイ法ン。

有効物質の使用量はその都度の季節、目的植物及び生長
段階に基づいて（７，０５〜３　ｋｔｙ’ｈａ　、有利
には０．１〜１に？／ｈａである。

効果 式Ｉす４，５−ジメトキシピラゾンの除草作用を温度実
験にて示す。

栽培容器としては容積３００　ｃＩＩを有しかつ下層土
として腐植土約１．５％を有するロニムＶを入れたグラ
スチックＨ植木ばちを便ハｌｊる。試験植物の樵を品種
毎に分けて浅く播種する。その直後発芽前処理法では有
効物質を土壌面に散布する。このためには有効物質を分
配剤としての水中に懸濁させるか又は乳濁させかつ細分
ノズルを用いて噴霧する。この施用法では、使用量は３
．０ｋＶｈａである。薬剤の散布後、発芽及び生長を促
進するために容器に軽く水を散布する。次いで、植物が
発芽するまで容器に透明なプラスチック與フードをかぶ
せる。このおおいは試験植物が有効物質・にょって害さ
れない限り均等な発芽を保証する。

発芽後処理法のためには、試験植物を夫々の生長形に基
づき３〜１５薗の高さまで生長させかつ次いで処理する
。この場合には、直播しかつ同じ容器で生長した植物、
又はまず菌として生長させかつ処理り数日前に実験容器
に移植したものを使用する。使用量は有効物質０．２５
又は０　、５　Ａ１ｉ／ｈ　ａである。発芽後処理法で
はおおいは行なわない。

実験容器を温室に設置し、その際高い温度を好む品種の
ためには尚温範囲（２０〜３５℃）にかつ適阪の気候を
好む品種のためには１０〜２５℃に設置する。実験期間
は２〜４週間である。この期間中植物の世話をしかつそ
の個々の処理に対する反応を評価する。評価は０〜１０
ｏのスクールで行なう。この場合、１００は植物が発芽
しなかったか又は少なくとも地表部分の完全な枯死を表
わす。

温室実験で使用した植物は以下の種類から構成さ扛てい
た。

イチビ（Ａｂｔｌｌｏｎ　ｔｈｅｏｐｈｒａｍｔｌ）、
アオビユ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ　ｒｅｔｒｏｆｌｅｘ
ｕす、ナンキンマメ（Ａｒａｃｈｉｇ　ｂｙｐｏｇａｅ
す、エピスグサ（Ｃａｇｓｌａ　ｔｏｒす、アカザ（Ｃ
ｈｅｎｏｐｏｄｌｕｍ　ａｌｂｕｍ）、ヨウシュチョウ
センアサガオ（υａｔｕｒａ　ｓｔｒａｍｏ−ｎ　ｉ　
ｕｍ）、 ヌスビトハキ（Ｄｅｓｍｏｄｌｕｍ　ｔｏｒｔｕｏｓｕ
ｍ）、トクダイグサ（Ｅｕｐｂｏｒｂｌａ　ｇｅｎｌｃ
ｕｌａｔａ）、ヤエムグラ（Ｇａｌｆｕｍ　ａｐａ目ｎ
ｅ）、ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ　ａｎｎｕｕｓ
）、イモ属（Ｉｐｏｍｏｅａ　ｍｐｐ、）、ホトケノザ
属（Ｌａｍｉｕｍ　ｔ＊ｐｐ−）、ヤアアイ（Ｍｅｒａ
ｕｒｌａｌｌａ　ａｎｎｕす、ハルタデ（Ｐｏｌｙｇｏ
ｎｕｍ　ｐｅｒａｌｃａｒｌａ）、シナビス・アルｉ（
Ｓｌｎａｐｌ　ｎｌｂｍ）、コムギ（Ｔｒｊｔｉａｕｍ
　ａｅｓｔｌｖｕｍ）。

除草特性に対する試験において、例えば化合物Ａ　Ｉ　
、　３　、２８　、３３　、１０８及び１２６は有効物
質３、Ｏｋｔ／ｈａの発芽後処理法で白ガ２シに対して
極めて良好な作用を示す。

発芽後処理法では、例えば化合物４５，１２９゜１３０
及び１３７は例えは有効物質０　、２５１ｃｙ／ｈ　ａ
の使用量で一遅の好ましからぬ広粂知植物に対して顕著
な作用を示す。更に、化合物Ａ３３及び３は有効物質０
．２５ｋｆ又はＱ、５Ｖｂａで好ましからぬ植物を選択
的に駆除する、この場合栽培植物例えはナンキンマメか
つコムギは全（害されないか又は億く僅かに害されるに
すぎない。ヒマワリ栽培における広′Ｓ類の好ましから
ぬ植物は、化合物Ａ３，１４゜３３及び１２６によって
選択的に駆除される。

通用法の多様性の見地において、式Ｉの４．５−ジメト
キシピリダゾンはなお多数の栽培植物において好！しか
らぬ植物生長、特に以東類の一年生品種を防除するため
に使用することができる。

例えば以下の栽培植物が該当する。

タマネギ（ＡＩ目ｕｍ　ａｅｐａ　） パイナツプル（Ａｎａｎａｓ　ｃｏｍｏａｕｓ　）ナン
キンマメ（Ａｒａｃｈｌｓ　ｈｙｐｏｇａａａ　）アス
パラガス（Ａｓｐａｒａｇｕｓ　ｏｆｆｉｃｉｎａｌｌ
ｇ　）オートムギ（Ａｖａｎａ　５ａｔｌｙａ　）フダ
ンソウ（Ｂｅｔａ　ｖｕｌｇａｒｌｓ　ｓｐｐ＋ａｌｔ
ｉｓｓｉｍａ　）サトウジシャ（Ｂｅｔａ　ｖｕｌｇａ
ｒｌｓ　ｓｐｐ、　ｒａｐａ　）アカテンサイ（Ｂｅｔ
ａ　ｖｕｌｇａｒｌｓ　ｓｐｐ、ａｓｃｕｌｅｎｔａ）
プラシーカ　ナパス（変種ナパス）　（Ｂｒａｓｓｉｃ
ａ　ｎａｐｕｓｗａｒ、ｎａｐｕｓ　） プラシーカ　ナバス（変種ナポプラシーカ）　（Ｂｒａ
ｓｓｌｃａｔ＋ａｐｕｓ　ｖａｒ、ｎａｐｏｂｒａｓｓ
ｌｃａ　）プラシーカ　ナパス（変種ラバ）　（Ｂｒａ
ｓ＋＋ｉｃａ　ｎａｐｕ＋＋ｖａｒ、ｒａｐａ　） プラシーカ　ナバス（変種シルベストリス）（Ｂｒａｓ
ａｌｃａｎａｐａｓ　ｖａｒ、ｓｉｌｙｓａｔｒｌｇ　
）トウツバキ（Ｃａｍｅｌｌｉａ　ｍ１ｎｅｎｓｊｓ　
）ベニバナ（Ｃａｒｔｈａｍｕｓ目ｎｃｔｏｒ１ｕａ）
キャリーヤイリノイネンシス（Ｃａｒｙａ　Ｉｌｌｌｎ
ｏｌｎｅｎｓｌｇ　）ツルプシュカン（Ｃ１ｔｒｕｓ　
１１ｍｏｎ　）グレープフルーツ（Ｃ１ｔｒｕｓ　ｍａ
ｘｉｍａ　）ダイダイ（Ｃｌｔｒｕｍ　ｒｅｔｉｃｕｌ
ａｔａ　）ナラミカン（Ｃ１ｔｒｕｓ　ｓｌｎｅｎａｌ
ｇ　）コーヒーツキ［Ｃｏｆｆｅａ　ａｒａｂｉｃａ　
（Ｃｏｆｆｓａｃａｎｅｐｂｏｒａ、　Ｃｏｆｆｅａ　
１ｉｂｅｒｉｃａ　）　Ｊアミメロン（Ｃｕａｕｍｉｓ
　ｒｎｅｌｏ　）キュウリ（Ｃｕｃｕｍｌｉ　５ａｔｌ
ｖｕａ　）ギョウギシバ（Ｃｙｎｏｄｏｎ　ｄａｃｔｙ
ｌｏｎ　）ニンジ７　（Ｄａｕｃｕｓ　ｏａｒｏｔａノ
アプラヤミ（Ｅｌａｅｌｓ　ｇｕｌｎｅｓｎｓｌｇ　）
イチゴ（Ｆｒａｇａｒｌａ　ｖｅｓｃａ　）大豆（Ｇｌ
ｙｃｉｎｅ　ｍａｘ　） 木棉（Ｇｏｓｓｙｐｌｕｍ　ｈｌｒＩＩｕｔｕｍ　（Ｇ
ｏ＋＋ｓｙｐ１ｕｍ　ａｒｂｏｒａｕｒａＧｏｓｓｙｐ
ｌｕｍ　ｈｅｒｂａｃｓｕｍ　Ｇｏｉｓｙｐｉｕｍｖｌ
ｔｌｆｏｌｌｕｍ　）　］ ヒマワリ（Ｈｓｌｌａｎｔｈｕｓ　ａｎｎｕｕｍ　）キ
クイモ（Ｈｅ１ｌａｎｔｈｕｓ　ｔｕｂａｒｏｓｕ１１
ノゴムノキ（Ｈａｖｅａｂｒａｓｆｌｌ＠ｎａｌｓ〕大
麦（Ｈｏｒｄｅｕｍ　ｖｕｌｇａｒｅ　）カラハナソウ
（Ｈｕｎ＋ｕｌｕｓ　１ｕｐｕｌｕｓ　）アメリカイモ
（Ｉｐｏｍｏｅａ　ｂａｔａｔａｓ　）オニグルミ（Ｊ
ｕｇｌａｎ＋　ｒｅｇｉａ　）ニガナ（Ｌａｃｔｕａ　
５ａｔｉｖａ　）レンズマメ（Ｌｅｎｓ　ｃｕ目ｎａｒ
ｉｓ　）ア−ｒ　（Ｌｌｎｕｍ　ｕｓｌｔａｔｌｓｓｌ
ｍｕｒｎ　）ト　マ　ト　（Ｌｙｃｏｐｅｒａｌｃｏｎ
　ｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｕｍ　）リンゴ属（Ｍａｌｕｓ
　５ｐｐ−） キャラサバ（Ｍａｎｉｈｏｔ　ｅｓｃｕｌｅｎｔａノム
ラサキウマゴヤシ（Ｍｅｄｉｃａｇｏ　５ａｔｌｖａ　
）ハツカ（Ｍｅｎｔｈａ　ｐｉｐｅｒｉｔａ　）バショ
ウ属（Ｍｕｓａ　５ｐｐ−ン タバコ［Ｎ１ｃｏｔ１ａｎａ　ｔａｂａｃｕｍ　（Ｎ、
　ｒｕｓｔｉ　ｃａ〕〕オリーブ（０１ｅａ　ｅｕｒｏ
ｐａｅａノイネ（０ｒｙｚａ　５ａｔｌｖａ　） キビ（Ｐａｎｌｅｕｍ　ｍｉｌｉａａｅｕｍノアズキ（
Ｐｂａｉｅｏｌｕｓ　１ｕｎａｔｕｓ　）ササゲ（Ｐｈ
ａａｅｏｌｕｓ　ｒｎｕｎｇｏノゴガツササゲ（Ｐｈａ
ｓｅｏｌｕｓ　ｖｕ１ｇａｒｉａツバセリ（Ｐｓｎｎ１
ｇｅｔｕｎ＋　ｇｌａｕｅｕｍ　）ベトロセリウム　ク
リスパム（変種チュベロサム）（Ｐｅｔｒｏｓｅｌｌｎ
ｕｍ　ａｒｌｓｐｕｍ　ｓｐｐ、　ｔｕｂｅｒｏｓｕｒ
ｎ　）トウヒ（Ｐｌｃｅａ　ａｂｌｅ’＋ノ モミ（Ａｂｌｅｓ　ａｌｈａ　） マツｊｆ４（ＰＩｒ＋ｕｓ　ｓｐｐ、　）シロエントウ
（Ｐｉｓｕｍ　ａａｔｌｖｕｍ　）サクラ（Ｐｒｕｎｕ
ｓ　ａｖｌｕｍ　）アンス（Ｐｒｕｎｕｉ　ｄｏｍｅｉ
ｔｊｃａノプルヌス　ダルシス（Ｐｒｕｎｕｓ　ｄｕｌ
ｃｉ８）モモ（Ｐｒｕｎｕｓ　ｐｅｒｓｌｃａ　）ナシ
（Ｐｙｒｕｓ　ｃｏｍｍｕ＋＋Ｉｇ　）サグリ（旧ｂｅ
ｓ　５ｙｌｖｅａｔｒｅ　）サンザシ（旧ｂｓ＋ｓ　ｕ
ｖａ−ｃｒｌａｐａ　）トウゴマ（Ｒｌｃｌｎｕｓ　ｃ
ｏｍｍｕｎｌａ　）サトウキビ（Ｓａｅｃｈａｒｕｍ　
ｏｆｆｌｃｉｎａｒｕｍ　）ライムギ（ｓ＠ｃａ１ｍ　
ｃｅｒｅａｌ＠）ゴマ（Ｓｅｓａｍｕｍ　Ｉｎｄ１ａｕ
＋ｎ　）ジャガイモ（８ｏ１ａｎｕｍ　ｔｕｂｅｒｏａ
ｕｍ　）モロコシ（８ｏｒｇｈｕｍ　ｂｌｃｏＪｏｒ　
（ｓ、　ｖｕｌｇａｒｅ　）　」モロコシガヤ（Ｓｏｒ
ｇｈｕｍ　ｄｏｅｂｎａ　）ホウレンソウ（５ｐｌｎａ
ａｉａ　ｏｌｅｒａｃｅａノカカオノキ（Ｔｈｅｏｂｒ
ｏｍａ　ｃａｃａｏ　）ムラサキツユクサ（Ｔｒｌｆｏ
ｌｌｕｍ　ｐｒａｔｅｎｓｅ　）小７　（Ｔｒｊｔｌｃ
ｕｍ　ａｅｓｔｉｖｕｍ　）イワツツジ（Ｖａｃｃｌｎ
ｌｕｍ　ｃａｒｙｍｂｏｓｕｒｎノコケモモ（Ｖａｃｃ
ｉｎｌｕｍ　ｖｉｔｌ＋＋−４ｄａｅａ　）ンラマメ（
Ｖｌｅｌａ　ｆａｂａノ ビグナ　シネンシス（変種ウングイキュラータ〕（Ｖｌ
ｇｎａ　ａｌｎｅｎｓｊｓ　（Ｖ、　ｕｎｇｕｉｃｕｌ
ａｔａ　）　］ブドウ（Ｖｉｔｌ＋＋　ｖｌｎｉｆｅｒ
ａ　）トウモロコシ（ｚｅａ　ｍａｙｓ　） 作用スペクトルの拡大及び相乗効果を達成するために、
式■の４，５−ジメトキシピリダゾン及び該化付物を含
有する薬剤は、別の除草もしくは生長調整有効物質群の
多数の代表的ｖＩＪ質と混合しかつ一緒に散布すること
ができる。混合成分としては例えはジアジン、４）１−
３．１−ベンゾオキサジン誘導体、ベンゾチアジアジノ
ン、２．６−シニトロアニリン、Ｎ−フェニルカルバメ
ート、チオールカルバメート、ハロゲンカルボン酸、ト
リアジン、アミド、尿素、ドリアジノン、ウラシル、ベ
ンゾフラン誘４体、シクロヘキサン−１，３一ジオン訪
導体及びその他が該当する。

更に、新規化合物だけ又は別の除草剤と組合せたものを
なお別の植物保護剤、例えは害虫又は植物原性真菌類も
しくは細菌を防除するための物質と混合して一緒に赦布
することができる。丈に、重要であるのは、栄養及び微
量元素不足を補充するために使用される鉱物塩浴剤との
混合可能性である。非植物毒性前及び油磯縮物を加える
こともできる。

特許出願人　パスフ　ァクチェンゲゼルシャフト代理人
弁理士田代盗治 ドイツ連邦共和国６７ｏ１オターシ ユタツト・リュディガーシュト ラーセ１３ −／’、Ｑ＋−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）式： 〔式中、 Ｘ及びＹはそれぞれ相互に無関係に＃２累原子、硫黄原
   子、ス・ルフイニル基又はスルホ基を表わし、Ｒ１及び
   Ｒ２はそれぞれ相互に無関係に水素原子又はＣ１〜４−
   アルキＡ／２！Ｉｉを表わし、ｚｌ　、　ｚｌ及びｚｌ
   はそれぞれ相互に無関係に水素原子、ハロゲン原子、ニ
   ド−基、シ′アノ基、Ｃ１〜４−７　”　キ”　＆　、
   ０１〜４−ハロゲンアルキル基、０１〜４−アルコキシ
   基、Ｃ１〜４−ハロゲンアルコキシ基、Ｃ五〜４−アル
   キルメルカプト基、Ｃ１〜４−ハ目ゲンアルキルメルカ
   ブト基、０里、４−アルキルスルフィニル基又はＣｔ〜
   ４−アルキルスルホニル基を表わしかつ ｎ及びｐは０又は１の数字を表わし、 ｍ及びｑは０〜８の数字を表わす〕で示される置換４．
   ５−ジメトキシピリダゾン。 （２）式Ｉ中、Ｘ及びＹがそれぞれ相互に無関係に＃Ｒ
   木原子又は硫黄原子を表わし、Ｒ１及びＲ２がそれぞれ
   相互に無関係に水素原子又は０１〜４−アルキル基を表
   わし、ｚｌ　、ｚｌ及びｚ３がそれぞれ相互に無関係に
   水素原子、ハロゲン原子、Ｃｋ４−アルキル基、Ｃ１〜
   ４−ハロゲンアルキル基、Ｃニ４−アルコキシ基又は０
   １〜４−ハロゲンアルコキシ基を表わしかつｎ及びｐが
   ０又は１の数字を表わし、ｍ及びｐが０〜８の数字を表
   わす、置針請求の範囲第１項記載の置換４，５−ジメト
   キシピリダゾン。 （３）式Ｉ中、Ｒ１及びＲ２が水素原子、ｚｌが水素原
   子、ｚｌ及びｚ３がハロゲン原子、ｎが０、ｍが１、ｐ
   が■及びｑが０を表わす、特許請求の範囲第１項記載の
   置換４．５−ジメトキシピリダゾン。 （４）式： 〔式中、 Ｘ及びＹはそれぞれ相互に無関係に酸素原子、硫黄原子
   、スルフィニル基又はスルホ基を表わし、Ｒ１及びＲ２
   はそれぞれ相互に無関係に水素原子又はＣ１〜４−アル
   キル基な表わし、 ｚｌ　、　ｚＺ及びｚ３はそれぞれ相互に無関係に水素
   原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ｃｌ〜４−
   アルキル基、Ｃ五〜４−　／’ｌ　Ｄ　）ｌンアルキル
   ２Ｉ、Ｃｌ−４−アルコキシ基、Ｃ１〜４−ハロゲンア
   ルコキシ基、自〜４−アルキルメルカプト基、０１〜４
   −ハロケンアルキルメルカプト基、Ｃ１２じアルキルス
   ルフィニル基又はｃｌ〜４−アルキルスルホニル基を表
   わしかつ ｎ及びｐは０又は１の数字を表わし、 ｍ及びｑは０〜８の数字を表わす〕で示される置換４　
   、５〜ジメトキシピリダゾンを製造する方法において、
   式： （式中、Ｘ＋Ｙ、Ｒ’＋Ｒ”、Ｚ’、Ｚ”、Ｚ”＋ｈ、
   ｍ。 ｐ及びｑは前記のものを表わしかつＨａｌは）１０ゲン
   原子、特に塩素原子又は臭素原子な表わす〕で示される
   ジハロゲンピリダゾンをほぼ化学量論的量のアルカリ金
   属メタノラードと不活性有機溶剤の存在下に１００℃ま
   での温度で反応させることを特徴とする、置換４，５−
   ジメトキシピリダゾンのＭ法。 〔式中、Ｘ　、　Ｙ　、　Ｒ”　ｒＲ”、Ｚ’、Ｚ”、
   Ｚ”　、　ｎ　、　ｍ　ａＰ及びｑは前記のものを表わ
   す〕で示さするフェニルヒドラゾンを式： 〔式中、Ｈａｌは塩素原子又は臭素原子を表わす〕で示
   される３−ホルミル−２＃３−ジハロゲン−アクリル酸
   と！ず室温で溶剤の存在下に反応させて相応するジハロ
   ゲンアクリル版セミカルバゾンとしかつ該セミカルバゾ
   ンを環化することにより製造される式■のジハロゲンピ
   リダゾンを特徴する特許請求の範囲第４項記載の製法。 （６）ｘが酸素原子又は硫黄原子を表わしかつわが１を
   表わ丁式Ｉの置換４，５−ジメトキシピリダゾンを製造
   する方法において、式： 〔式中、又は酸素原子又は硫黄原子を表わす〕で示され
   る４、５−ジメトキシピリダゾンを＆ｌぽ化学量論的量
   の式： 〔式中、Ｒ’　、　Ｒ”、Ｙ、　Ｚ’、Ｚ”、Ｚ３．　
   ｍ、　ｐ及ヒｑは前Ｇ己のものを表わしかつＨａｌ　ｆ
   ｌハロゲン原子、特に塩素原子叉は契撲原子を表わす〕
   で示されるアルキルハロゲン化物と不活性有機溶剤及び
   −合により１受容体の存在下に０〜１５０℃の温度で反
   １心させることを特徴とする特１ｌｆｄＩ７求の柁囲第
   ４項記載の製法。 （７）式： 〔式中、 Ｘ及びＹはそれぞれ相互に無関係に酸素原子、硫黄原子
   、スルフィニル基又はスルホ基を表わし、Ｒ１及びＲ２
   はそれぞれ相互に無関係に水素原子又はＣｌ−４−アル
   キル基を表わし、 ｚｌ、　ｚｌ及びｚｌｌはそれぞれ相互に無関係に水素
   原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ４、Ｃ，−１ア
   ルキル基、Ｃｌ−４−ハロゲンアルキル＆、ｃ、ヨーア
   ルコキシＭ、ｃ、−、−ハロゲンアルコキシ基、Ｃｌ４
   −アルキルメルカプトＭ、ｃ、−４−ハロゲンアルキル
   メルカプトＭ、Ｃｌ−４−アルキルスルフィニル基又は
   Ｃｌ−４−アルキルスルホニル基を表わしかつ ｎ及びｐはＯ又はｌの数字を表わし、 ｍ及びｑは０〜８の数字を表わす〕で示される置換４．
   ５−ジメトキシピリダゾンを含有する除草剤。 （８〕不活性添加物及び式： 〔式中、 Ｘ及びＹはそれぞれ相互に無関係に酸素原子、硫黄原子
   、スルフィニル基又はスルホ基を表わし、Ｒ１及びＲ２
   はそれぞれ相互に無関係に水素原子又はＣｌ−４−アル
   キル基を表わし、 ｚｌ、ｚｌｌ及びＺ３はそれぞれ相互に無関係に水素原
   子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ＆、Ｃ１−４−ア
   ルキル＆、Ｃ１−４−ハロゲンアルキル基、Ｃ，−、−
   アルコキシ基、Ｃ，−、−ハロゲンアルコキシ基、Ｃ１
   −４−アルキルメルカプト＆、Ｃ１−４−ハロゲンアル
   キルメルカプ）Ｊｉ、Ｃｌ−４−アルキルスルフィニル
   基又はｃ、−４−アルキルスルホニル基を衣わしかつ ｎ及びｐは０又は１の数字を表わし、 ｍ及びｑはＯ〜８の数字を表わす〕で示される置換４．
   ５−ジメトキシピリダゾンを含有する除草剤。 （９）不活性添加物及び式Ｉ中、Ｘ及びＹがそれぞれ相
   互に無関係に酸素原子又ｆ′ｉ硫黄原子を表わし、Ｒ１
   及びＲＩＸ５；それぞれ相互に無関係に水素原子又はＣ
   １−４−アルキル基を表わし　ｚｌ、ｚｌ及びｚＳがそ
   れぞれ相互に無関係に水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−
   ４−ア／Ｌ／　＃　／Ｉ／基、Ｃｌ−ａ　−／’　Ｏ’
   ｆ　ン７　／Ｉ／　ｄｒ　／Ｌ／　’Ｊｊｉ、Ｃ３−４
   −アルコキシ基又はｃｌ−４−ハロゲンアルコキシ基を
   表わしかりｎ及びｐが０又は１の数字を表わし１ｍ及び
   ｑが０〜８の数字を表わす、４．５−ジメトキシピリダ
   ゾンを含有する特許請求の範囲（８）記載の除草剤。 （１り不活性添加物及び式Ｊ中、Ｒ１及び８句；水素原
   子　ｚｌが水素原子　ｚｌ及びＺ３がハロゲン原子、ｎ
   が０、ｍが１、ｐがｌ及びｑがｏを表わす、４゜６−ジ
   メトキシピリダゾンを含有する特許請求の範囲（８）記
   載の除草剤。