JPS60114593A - 金属の電着方法及び装置 - Google Patents
金属の電着方法及び装置Info
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- JPS60114593A JPS60114593A JP59230513A JP23051384A JPS60114593A JP S60114593 A JPS60114593 A JP S60114593A JP 59230513 A JP59230513 A JP 59230513A JP 23051384 A JP23051384 A JP 23051384A JP S60114593 A JPS60114593 A JP S60114593A
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- Japan
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- electrolyte
- metal
- band
- strip
- metal band
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
- C25D7/0614—Strips or foils
- C25D7/0628—In vertical cells
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電解液と金属バンド及び陽極との間の高い相
対流動速度の適用下に、金属バンドが電解液中に垂直に
送入され、転向されかつ電解液から垂直に送出されるこ
とによって金属塩の水性溶液から金属、特に亜鉛を金属
バンド、特に鋼パンI:′上に電着する方法ならびに電
解槽の上方の金属バンド送入口及び送8−40に並置さ
れて、各1個の案内ロール及び/又は電流ロールが設け
られており、金属パン12が電解槽の下部では浸漬ロー
ルの周りを及び送入領域及び送出領域では陽極間を案内
されることより成る前記、方法を実施する装置に関する
。
対流動速度の適用下に、金属バンドが電解液中に垂直に
送入され、転向されかつ電解液から垂直に送出されるこ
とによって金属塩の水性溶液から金属、特に亜鉛を金属
バンド、特に鋼パンI:′上に電着する方法ならびに電
解槽の上方の金属バンド送入口及び送8−40に並置さ
れて、各1個の案内ロール及び/又は電流ロールが設け
られており、金属パン12が電解槽の下部では浸漬ロー
ルの周りを及び送入領域及び送出領域では陽極間を案内
されることより成る前記、方法を実施する装置に関する
。
従来の技術
金属パン12」−に金属を電着する方法は、仕上域にお
ける水平の、半径方向の又は垂直のバンド案内の場合に
は種々の実施形式て公知である。
ける水平の、半径方向の又は垂直のバンド案内の場合に
は種々の実施形式て公知である。
−4″なわtハ オーストリア共和国1”r 、lT出
願公告八へ3014−82−号からは、水平からtまず
れるノJ向に案内される金属バンドの片面又に1両面に
電解法−ご金属層を連続的に被覆する際、電解液が少な
くとも1個の板状陽極と陰極としての金属バンドとの間
を流動することから成る金属ノζンドの被覆方法は公知
であり、同方法は電解液が陽極の上部から自由に流入し
かつ重力の作用下に下方に流れつつ陽極と金属バンドの
間の空間に閉じられた流動容積を形成し、この際前記空
間に電解液が連続的に補充されることを特徴としている
。
願公告八へ3014−82−号からは、水平からtまず
れるノJ向に案内される金属バンドの片面又に1両面に
電解法−ご金属層を連続的に被覆する際、電解液が少な
くとも1個の板状陽極と陰極としての金属バンドとの間
を流動することから成る金属ノζンドの被覆方法は公知
であり、同方法は電解液が陽極の上部から自由に流入し
かつ重力の作用下に下方に流れつつ陽極と金属バンドの
間の空間に閉じられた流動容積を形成し、この際前記空
間に電解液が連続的に補充されることを特徴としている
。
陽極が電解浴中に浸漬される前記公知方法の場合雪解液
は、電解槽から送出される金属バンドに対向して導かれ
(対向流動ンかつ電解槽中に送入される金属バンドと同
伴される(同伴流動〕。同方法が陽極と陰極(つま多金
属ガントンとの間の距離が2〜20 mm以下、好まし
くは10I+II++以下である場合のみ有意に適用可
能である(それというのも他の場合には汲込むべき電解
71Mが極めて大きくなり過ぎるからである)ことを別
にすれば、該公知方法は金属/ぐンドの送入及び送出の
際に様々な流動状態をもたらし、ひいて(吐゛まだ様々
な析出条件を生じさせる。
は、電解槽から送出される金属バンドに対向して導かれ
(対向流動ンかつ電解槽中に送入される金属バンドと同
伴される(同伴流動〕。同方法が陽極と陰極(つま多金
属ガントンとの間の距離が2〜20 mm以下、好まし
くは10I+II++以下である場合のみ有意に適用可
能である(それというのも他の場合には汲込むべき電解
71Mが極めて大きくなり過ぎるからである)ことを別
にすれば、該公知方法は金属/ぐンドの送入及び送出の
際に様々な流動状態をもたらし、ひいて(吐゛まだ様々
な析出条件を生じさせる。
本出願人の提案した他の方法(西独国特許出願紀1):
322864 +、41.つまり可及的に小さいエネル
ギー使用量で大きい電流密度を獲得高い相対流入速度を
適用して金属塩の水性溶液から鋼バンド−I−に金属を
電着する方法の場合には、薄い拡散層厚は、鋼バンドに
対して平行に向シ1られた電解液流が、バンド移動方向
に対して横方向の電解液部分流によって乱流状態に置か
れることによって達成される。寸だこの方法の揚台電解
液は送出される金属パンPに対向して移送されるが、電
解液槽中へのバンドの送入時には電解液は同一方向にバ
ンドと共に流れる。
322864 +、41.つまり可及的に小さいエネル
ギー使用量で大きい電流密度を獲得高い相対流入速度を
適用して金属塩の水性溶液から鋼バンド−I−に金属を
電着する方法の場合には、薄い拡散層厚は、鋼バンドに
対して平行に向シ1られた電解液流が、バンド移動方向
に対して横方向の電解液部分流によって乱流状態に置か
れることによって達成される。寸だこの方法の揚台電解
液は送出される金属パンPに対向して移送されるが、電
解液槽中へのバンドの送入時には電解液は同一方向にバ
ンドと共に流れる。
電着方法の前記公知実施形式のどの場合にも、?電解槽
の送入部及び送出部において金属バンドのF行しかつ」
二行する部分に応じて電流密iを様々な相対流動速度に
適合させることは高い費用をかけなければ不可能である
。従つ−C電解槽の1)0記両部における均等な析出系
f′1を得ることは、不) ’i’iJ能ではないにし
ても困ff1llである。
の送入部及び送出部において金属バンドのF行しかつ」
二行する部分に応じて電流密iを様々な相対流動速度に
適合させることは高い費用をかけなければ不可能である
。従つ−C電解槽の1)0記両部における均等な析出系
f′1を得ることは、不) ’i’iJ能ではないにし
ても困ff1llである。
本発明は、垂直形電解槽の場合にも電解液中を案内され
る金属・之ンド、特に鋼バンド」二の高い?lil密流
の垂直適用を可能にし、かつ金属、Sンドと電解液との
間の均等な相対流動、従って件をつくりつる冒頭記載の
種類の方法及び装置を創作するという課題を基礎にする
。
る金属・之ンド、特に鋼バンド」二の高い?lil密流
の垂直適用を可能にし、かつ金属、Sンドと電解液との
間の均等な相対流動、従って件をつくりつる冒頭記載の
種類の方法及び装置を創作するという課題を基礎にする
。
問題点を解決するだめの手段
前記課題d本発明により、電解液が陽極と金属バンドと
の間の全領域でバンド移動方向に対向して強制移送され
ることによって解決される。
の間の全領域でバンド移動方向に対向して強制移送され
ることによって解決される。
好ましくはこの手段は、電解液の流動が圧力上昇によっ
て増大され、この際有利【は圧力が送入部及び/又は送
出部で上昇されることによって達成される。本発明を実
施する他の可能性は、電解液が・ぐンド送出領域で下向
きの速度成分をもって供給され1電解液がバンド移動方
向に対向して汲込1れ、さらに正解4%IIJ内で局部
的に差圧が形成されることによって達成される。
て増大され、この際有利【は圧力が送入部及び/又は送
出部で上昇されることによって達成される。本発明を実
施する他の可能性は、電解液が・ぐンド送出領域で下向
きの速度成分をもって供給され1電解液がバンド移動方
向に対向して汲込1れ、さらに正解4%IIJ内で局部
的に差圧が形成されることによって達成される。
本発明による方法を実施するために好ましい装置は、電
解槽にバンド送入用及びバンド送出用シャフト状領域が
設けられており、該領域の内部に両陽極が公知のように
相互に及び金属バンドに対して平行に配置されていて、
バンド送入領域と一!レド送出領域、が下部によって相
互に連通結合されており、なら゛びにノ々ンド送入領域
の上縁が高度差△11だけノ々ンド送出領域の上縁の一
トノjに配置されているように構成されている。
解槽にバンド送入用及びバンド送出用シャフト状領域が
設けられており、該領域の内部に両陽極が公知のように
相互に及び金属バンドに対して平行に配置されていて、
バンド送入領域と一!レド送出領域、が下部によって相
互に連通結合されており、なら゛びにノ々ンド送入領域
の上縁が高度差△11だけノ々ンド送出領域の上縁の一
トノjに配置されているように構成されている。
本発明しこよる装置の好寸しい他の実施態様は次下の記
載から明らかになる。
載から明らかになる。
本発明の利点は特に、電解槽の送入部ならびに送出部に
おける金属ノSンドの垂直案内の場合にも市解域におい
て電解液の非層流(nicl+I la−m i n
a +−+: S 1口)…圓g〕が得られ、これによ
って先づ陰極の拡散層が減少されかつ十分に大きな量の
析出性イオンが処理さil、さらに好1しくは6()△
/ +bu’を越える電流密度を用いて鋼バンドを亜鉛
化する際に、析出された金属(i]!’鉛)被覆のへ焼
きつき(Anl+rrnnrn ) 〃な′しに晶い電
流密度の1轟)11がiil’能Vこなり、つまり析出
速度も増大され;さらに同時に電解液中に存在する粒子
が、金属バンド−1−に沈着しかっ/又Vi電流伝達ロ
ールの領域に入るのが阻止さり、る点にあると思われる
。従って結局は公知技術よりもより迅速にかつより簡素
な手段をもって析W、金属層の申分ない表面が得られる
。
おける金属ノSンドの垂直案内の場合にも市解域におい
て電解液の非層流(nicl+I la−m i n
a +−+: S 1口)…圓g〕が得られ、これによ
って先づ陰極の拡散層が減少されかつ十分に大きな量の
析出性イオンが処理さil、さらに好1しくは6()△
/ +bu’を越える電流密度を用いて鋼バンドを亜鉛
化する際に、析出された金属(i]!’鉛)被覆のへ焼
きつき(Anl+rrnnrn ) 〃な′しに晶い電
流密度の1轟)11がiil’能Vこなり、つまり析出
速度も増大され;さらに同時に電解液中に存在する粒子
が、金属バンド−1−に沈着しかっ/又Vi電流伝達ロ
ールの領域に入るのが阻止さり、る点にあると思われる
。従って結局は公知技術よりもより迅速にかつより簡素
な手段をもって析W、金属層の申分ない表面が得られる
。
本発明による方法は全体として、0.5〜2.5m/へ
eC1好ましくは3−Om/secの相対流動速度で実
施される、ここで相対流動速度は金属バンド移動速度と
電、筋原流動速度との速度差である。
eC1好ましくは3−Om/secの相対流動速度で実
施される、ここで相対流動速度は金属バンド移動速度と
電、筋原流動速度との速度差である。
次に本発明による方法を、本発明による装置の有利な実
施例に関し、図面により説明する。
施例に関し、図面により説明する。
実施例
第1図乃至第5図から判るように、全体として1を付し
た電解槽の」一方には、電解槽1への金属バンドの送入
口又はそこからの送出口の上にそれぞれ1個の案内ロー
ル2.3ならびに電流伝達ロール4,5が設けられてい
る。仕」二げすべき、例えば亜鉛メッキすべき金属パン
1゛6は、矢7の方向に従って、案内ロール2と、電流
伝達が金属バンド6、例えば鋼バンド」二にそれによっ
て線状接触的に行われる電流ロール4との間を通り、送
入領域8の両陽極9間を下降し、浸漬ロール10を回り
、次いで送出領域の陽極11間を」―昇する。金属バン
ド6は電解槽1の送出領域12から出た後、案内ロール
3と間流ロール5との間を案内されて例えば次の電解槽
に送ら′iLる。陽極9,11としては可溶性又は不溶
性陽極が使用される。−また案内ロール2及び3の代り
に市5流ロールが使用されてもよく、これに」、ってτ
流ロール4及び5はなくてもよい。
た電解槽の」一方には、電解槽1への金属バンドの送入
口又はそこからの送出口の上にそれぞれ1個の案内ロー
ル2.3ならびに電流伝達ロール4,5が設けられてい
る。仕」二げすべき、例えば亜鉛メッキすべき金属パン
1゛6は、矢7の方向に従って、案内ロール2と、電流
伝達が金属バンド6、例えば鋼バンド」二にそれによっ
て線状接触的に行われる電流ロール4との間を通り、送
入領域8の両陽極9間を下降し、浸漬ロール10を回り
、次いで送出領域の陽極11間を」―昇する。金属バン
ド6は電解槽1の送出領域12から出た後、案内ロール
3と間流ロール5との間を案内されて例えば次の電解槽
に送ら′iLる。陽極9,11としては可溶性又は不溶
性陽極が使用される。−また案内ロール2及び3の代り
に市5流ロールが使用されてもよく、これに」、ってτ
流ロール4及び5はなくてもよい。
またF1図乃至卯5図から判るように、送入領域8及び
送出領域12は、シャフトせに形成されていて、この内
領域8.12は、浸漬ロール10がその中に配置された
下部13によって相互縁は差△1またけ送出領域12の
」−縁の下に配置さり、でいる。7F解液が例えば第3
図で図示した正解液入1コ14を介して送出領域I2に
導入さiLる場合には、金属ノ々ンドが電解槽1を通過
している間に・Sンド移動方向に対向して電解液流動が
行われる、つ1りこの流動d送出領域12では下方に向
けられており、送入領域8では上方に向けられている。
送出領域12は、シャフトせに形成されていて、この内
領域8.12は、浸漬ロール10がその中に配置された
下部13によって相互縁は差△1またけ送出領域12の
」−縁の下に配置さり、でいる。7F解液が例えば第3
図で図示した正解液入1コ14を介して送出領域I2に
導入さiLる場合には、金属ノ々ンドが電解槽1を通過
している間に・Sンド移動方向に対向して電解液流動が
行われる、つ1りこの流動d送出領域12では下方に向
けられており、送入領域8では上方に向けられている。
従って電解液は矢18によって図示しであるように送入
領域8の上縁から流出する。差△1]の値は送出領域1
2、下部13及び送入領域8における霜解液の所望の流
動速度及び流動損失から得られる。金属バンド6の被覆
又は仕上げに有効な陽極9.11の長さは第1図でaで
示しである。
領域8の上縁から流出する。差△1]の値は送出領域1
2、下部13及び送入領域8における霜解液の所望の流
動速度及び流動損失から得られる。金属バンド6の被覆
又は仕上げに有効な陽極9.11の長さは第1図でaで
示しである。
第2図による電解槽1の実施例の場合には、陽極9が△
11だけ短縮されている。従って送入領域8における陽
極9の下縁は送出領域における陽極11の高さと同じ高
さに依存する。
11だけ短縮されている。従って送入領域8における陽
極9の下縁は送出領域における陽極11の高さと同じ高
さに依存する。
特に送入領域8における陽極9の最適長さ、つ寸り可及
的に長い析出区間を得るために、第3図によれば金属バ
ンド6の送出領域12に電解液流入ポツプξ−14が設
けられている。陽極11の間に及ぶこの流入ホソノξ−
14に電解液が導入されると、送出領域12では、金属
ノミンド6と陽極11との間の電解液の、金属バンド6
の移動方向に対向せる流動速度が高められる。
的に長い析出区間を得るために、第3図によれば金属バ
ンド6の送出領域12に電解液流入ポツプξ−14が設
けられている。陽極11の間に及ぶこの流入ホソノξ−
14に電解液が導入されると、送出領域12では、金属
ノミンド6と陽極11との間の電解液の、金属バンド6
の移動方向に対向せる流動速度が高められる。
前記流動が電解液槽の各部でもバンド移動方向VCズ・
1面的に保たれていて、必要な高度差△11が小さく保
持されつるためには、陽極11の下、力にポツプ16を
有する吸引管15が設けらハていて、この管によって雪
解液が吸引され、陽極9の下方で供給管17によって送
入領域8に圧入される。これによって送入領域8で」=
向きの月別的流動成分が形成され、これによって流動損
失が殆と補償される。矢■8をもって溢流する電解液を
1ン1示しである。
1面的に保たれていて、必要な高度差△11が小さく保
持されつるためには、陽極11の下、力にポツプ16を
有する吸引管15が設けらハていて、この管によって雪
解液が吸引され、陽極9の下方で供給管17によって送
入領域8に圧入される。これによって送入領域8で」=
向きの月別的流動成分が形成され、これによって流動損
失が殆と補償される。矢■8をもって溢流する電解液を
1ン1示しである。
第4図による実施例の場合には、第丁3図の場合と同様
に、送入及び送出領域8,12の間に存在する領域がポ
ンプ2oがその中に配置された??&流容型容器19て
形成されている。送入領域8から4S流容器19に流入
するthM液(矢21によって図示〕は、ポンプ20に
よって金に4バンド6の送出領域12の開口部に再び汲
込まれる。(矢22によって図示)。これによって、バ
ンド移動方向に7・」向せる必要流動を形成するか又は
増大させるためには、ただ、供給容器(図示してない]
から来る少量の電解液が追加的に送出領域12に汲込ま
れればよい。
に、送入及び送出領域8,12の間に存在する領域がポ
ンプ2oがその中に配置された??&流容型容器19て
形成されている。送入領域8から4S流容器19に流入
するthM液(矢21によって図示〕は、ポンプ20に
よって金に4バンド6の送出領域12の開口部に再び汲
込まれる。(矢22によって図示)。これによって、バ
ンド移動方向に7・」向せる必要流動を形成するか又は
増大させるためには、ただ、供給容器(図示してない]
から来る少量の電解液が追加的に送出領域12に汲込ま
れればよい。
これに対して電解液量を大きな速度をもって汲込むこと
によって、流動を得るだめの必要高度差を低減すること
ができる。不要な電解液量は溢流容器19から供給容器
に直接復帰する(矢23)。
によって、流動を得るだめの必要高度差を低減すること
ができる。不要な電解液量は溢流容器19から供給容器
に直接復帰する(矢23)。
第5図は本発明による他の実施例を示す。この場合には
電解槽1の上方に流入ホッパー14への接続管25を有
する供給容器24が配置されている。この電解槽1の場
合には必要な流動エネルギーは、供給容器24から方向
づけられた電解液流が送出領域12の流入ホソ・ξ−1
・1に導入されることによって得られる。送出領域12
の一様の充満を達成するためには、該領域12から電解
液の一部が常に(益流する(矢26で示す)ことが必要
である。電解槽1の下部13の浸漬ロール10の下方に
配置されたポンプ27によって、シャフト12の下方で
は圧力降下が実現さfl、、シャフト8の下方には圧力
ー]二昇が実現され、その結果送入領域8及び送出領域
12の−11縁間の高1丁r差が極めて小さく保持され
うる。
電解槽1の上方に流入ホッパー14への接続管25を有
する供給容器24が配置されている。この電解槽1の場
合には必要な流動エネルギーは、供給容器24から方向
づけられた電解液流が送出領域12の流入ホソ・ξ−1
・1に導入されることによって得られる。送出領域12
の一様の充満を達成するためには、該領域12から電解
液の一部が常に(益流する(矢26で示す)ことが必要
である。電解槽1の下部13の浸漬ロール10の下方に
配置されたポンプ27によって、シャフト12の下方で
は圧力降下が実現さfl、、シャフト8の下方には圧力
ー]二昇が実現され、その結果送入領域8及び送出領域
12の−11縁間の高1丁r差が極めて小さく保持され
うる。
また全;jrンゾエネルギーを低減するために、第、1
1ン1で1ン1示し/こように乙V流容器19中のポン
プ20によって一定の電解質量を供給容器2・1に直接
復帰さぜることもできる。
1ン1で1ン1示し/こように乙V流容器19中のポン
プ20によって一定の電解質量を供給容器2・1に直接
復帰さぜることもできる。
・11ソ1而の簡144な説明
第1図に+発明(L′rcよる方法を実施するための左
置の略示断面図てあり、第21ネ1は陽極が△1またけ
6・;)縮された場合の該装部の略示断面てあり、第;
3図は電、解で夜流入ホン・ぐ−及び吸引貿ならびに供
給管をイ1する本発明による装置の他の実施例を小−4
−路示断面図であり、第1I lン;は溢流容器及びボ
゛ンヅをイ1する場合の本発明による装置の略小!IJ
i向図であり、第5図は流入ホノノミ゛−への1に、?
・ん9fH及び浸tI’iロールの下方に配置直された
ポンプを414−る本発明による装輪″の略示断面図で
ある: 1−乱前槽、2 金属バンド、8 ・金属パン1゛送入
領域、!l 、 l I・・陽極、10 浸漬ロール、
12 金L・バパンド送出領域、13 下部、14・・
・流入ホノノξ−115吸引管、16・ポンプ、17
供給管、19・・溢流容器 20ポンプ、22 管、2
4 供給容器、25・接続管、27 ・ポンプ eつ ■ + ム ソ 璧 ■ FIG、 、!。
置の略示断面図てあり、第21ネ1は陽極が△1またけ
6・;)縮された場合の該装部の略示断面てあり、第;
3図は電、解で夜流入ホン・ぐ−及び吸引貿ならびに供
給管をイ1する本発明による装置の他の実施例を小−4
−路示断面図であり、第1I lン;は溢流容器及びボ
゛ンヅをイ1する場合の本発明による装置の略小!IJ
i向図であり、第5図は流入ホノノミ゛−への1に、?
・ん9fH及び浸tI’iロールの下方に配置直された
ポンプを414−る本発明による装輪″の略示断面図で
ある: 1−乱前槽、2 金属バンド、8 ・金属パン1゛送入
領域、!l 、 l I・・陽極、10 浸漬ロール、
12 金L・バパンド送出領域、13 下部、14・・
・流入ホノノξ−115吸引管、16・ポンプ、17
供給管、19・・溢流容器 20ポンプ、22 管、2
4 供給容器、25・接続管、27 ・ポンプ eつ ■ + ム ソ 璧 ■ FIG、 、!。
■
FIG 5
第1頁の続き
0発 明 者 ディートリツヒ・ヴオ ドイルフハルト
7
7
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 電解液と金属バンド及び陽極との間の高い相対流
動速度の適用下に、金属パン15が電解液中に垂直に送
入され、転向されかつ電解液から垂直に送出されること
によって金属塩の水性溶液から金属を金属バンド」二に
電着するに当り、軍、解散が、陽極と金属バンドとの間
の全゛領域でバンド移動方向に対向し−ご強制移送され
ることを特徴上する金属の垢着力θミ。 2 電解液の流動か圧力増大によって達成される特i+
’l’ n?、請求の範囲第1項記載の方θ、。 ′、3 用力が送入)τ11の−1・妬1:て及び/又
は送出部で増大される特gr「請求の範囲7A1項又は
第2項記載の方θミ。 4 電解液が・ζンド送出領域で下向きの速度成分をも
って供給される特3′「請求の範囲第1項から8r+、
3−項までのいづれか1項に記載の方法。 5 電解液がバンド移動方向に対向して汲込まれる特許
請求の範囲第1項から第4項寸でのいづねか1項に記載
の方法。 6 電解液流動速度が、電解槽で局部的に低圧をつくる
ことによって増大される特許請求の範囲第1項から第5
項寸でのいづれか1項にw制、の方法。 7 電解液と金属バンド及び陽極との間の高い相対流動
速度の適用下に、金属ノζンドが電解液中に垂直に送入
され、転向されかつ電解液から垂直に送出され、この際
電解液が陽極と金属バンドとの一間の全領域てノクンド
移動方向−に一対向して強制移送されることによって金
属塩の水性溶液から金属を金属ノSンド上に電着する方
法を実施する場合、電解槽上方の金属バンド送入口及び
送出口に並置されて各1個の案内ロール及び/又は電流
ロールが設けられていて、金属バンドが電解槽の下部で
は浸漬ロールの周りを及び送入領域及び送出領域では陽
極間を案内される前記方法を実施するだめの装置におい
て、電解槽(1ンに)々ンド送入(8)及びバンド送出
(12ン用シヤフト状領域(8,12)が設けられてお
り、前記領域(8゜12ンの内部に陽極’(9、11)
が相互に及び金属、+ンド(6)に対して平行に配置さ
れていて、該領域(8,12)が下部(13)によって
相互に連通結合さオしておりかつバンド送入領域(8)
のに縁が高度差△1またけ、67ド送出領域(12)の
上縁の−F方に配置されていることを特徴とI−る前記
装置。 8 シャフト状領J・表(8i2)の間に、領域(12
)の下方に設けられた電解液吸引管(15)及び領域(
8)の下方の電解液供給管(17)に結合されたポンプ
(16)を有する溢流容器(19ンが配置されていて、
これによって高度差Δ11が零値寸で低減されうる特許
請求の範囲第7項記載の装置層。 0 溢流容器(19)内配置されたポンプ(20)が1
1已力側て管(22)によって送出領域(12)の開1
−11部と結合されている%許請求の範囲第7項又は第
8項に眉己載の装置。 10、下部(13)の浸漬ロール(10)の下方にポン
プ(27ンが配置されている特許請求の範囲第7項から
第9項寸でのいづれか1項に記載の装置。 11 送出領域(12)に、陽極(11)の間にその下
端が存在する電解液流入ホツノξ−(]I4が設けられ
ている特ご1″詞求の範囲第7項から第10項までのい
づれか1項に記載の装置。 I2 流人ホッパー(+4)の上方にこのものと管(2
5)によって結合された供給容器(24)が配置されて
いる特3′丁請求の範囲第11項記載の装置。
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Cited By (2)
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