JPS6011419B2 - シヤドウマスクの製造方法 - Google Patents
シヤドウマスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS6011419B2 JPS6011419B2 JP4426978A JP4426978A JPS6011419B2 JP S6011419 B2 JPS6011419 B2 JP S6011419B2 JP 4426978 A JP4426978 A JP 4426978A JP 4426978 A JP4426978 A JP 4426978A JP S6011419 B2 JPS6011419 B2 JP S6011419B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shadow mask
- dots
- dot
- film
- transparent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はシャドウマスクの製造方法、特にその電子ビー
ム通過孔の形成方法の改良に関する。
ム通過孔の形成方法の改良に関する。
一般にシャドウマスク形カラー受像管は外園器の前面を
なすパネルの内面に緑、青および赤にそれぞれ発光する
３種のストライプ状けし、光膜からなるけし、光面を形
成し、その後方にシャドウマスクを酌議して電子ビーム
の色選別を行なう。このようなシャドウマスクを得るに
は対をなす大ドットネガパターンフィルム（以下大ドッ
トフィルムと略称する。）と小ドットネガパターンフイ
ルム（以下小ドットフィルムと略称する。）とを用意し
、表裏両面に感光性樹脂膜を形成した厚さ０．１５脚の
鉄板などの金属板の表裏両面にそれぞれ上記大ドットお
よび小ドットの両フィルムがそれぞれ対応するように密
着させ、露光して写真焼付けし、ついで現像して、上記
金属板の表裏両面に上記フィルムのパターンに対応する
ポジパターンをなす保護被膜をそれぞれ形成し、ついで
化学エッチングを施して、金属板に電子ビーム通過孔を
穿設する。ついで、この金属板をシャドウマスクに成形
して受像管に組込むのである。従来、このようなシャド
ウマスクの製造に用いるフィルムは、第１図ａに大ドッ
トフィルムを、同図ｂに小ドットフィルムをそれぞれ示
すように、透明素地ｌａ，ｌｂに矩形をなす非透光性ド
ット２ａ，２ｂを透明なブリッジ部３ａ，３ｂを介して
長手方向に蓮設してなり、大ドット２ａは小ドット２ｂ
に比べて長さも幅も大きく形成されているが、両ドット
２ａ，２ｂとも位相は完全に一致している。
なすパネルの内面に緑、青および赤にそれぞれ発光する
３種のストライプ状けし、光膜からなるけし、光面を形
成し、その後方にシャドウマスクを酌議して電子ビーム
の色選別を行なう。このようなシャドウマスクを得るに
は対をなす大ドットネガパターンフィルム（以下大ドッ
トフィルムと略称する。）と小ドットネガパターンフイ
ルム（以下小ドットフィルムと略称する。）とを用意し
、表裏両面に感光性樹脂膜を形成した厚さ０．１５脚の
鉄板などの金属板の表裏両面にそれぞれ上記大ドットお
よび小ドットの両フィルムがそれぞれ対応するように密
着させ、露光して写真焼付けし、ついで現像して、上記
金属板の表裏両面に上記フィルムのパターンに対応する
ポジパターンをなす保護被膜をそれぞれ形成し、ついで
化学エッチングを施して、金属板に電子ビーム通過孔を
穿設する。ついで、この金属板をシャドウマスクに成形
して受像管に組込むのである。従来、このようなシャド
ウマスクの製造に用いるフィルムは、第１図ａに大ドッ
トフィルムを、同図ｂに小ドットフィルムをそれぞれ示
すように、透明素地ｌａ，ｌｂに矩形をなす非透光性ド
ット２ａ，２ｂを透明なブリッジ部３ａ，３ｂを介して
長手方向に蓮設してなり、大ドット２ａは小ドット２ｂ
に比べて長さも幅も大きく形成されているが、両ドット
２ａ，２ｂとも位相は完全に一致している。
このような従来のドットフィルムを用いて製造されたシ
ャドウマスクは、第２図に示すように、金属板４に長形
をなす多数の電子ビーム通過孔５，５がブリッジ６，６
を介して長手方向に蓮設されている。
ャドウマスクは、第２図に示すように、金属板４に長形
をなす多数の電子ビーム通過孔５，５がブリッジ６，６
を介して長手方向に蓮設されている。
しかして、この電子ビームの通過孔６の幅方向の断面を
第３図ａに、ブリッジ６の断面を同図ｂに示す。ａ図の
ように、孔５の幅方向においては大ドット側の開口部５
ａは大きく、小ドット側の関口部５ａと両者の合致線す
なわちスリット合致線５ｃとはその位置が接近し、その
大きさは近似している。これに対し、ブリッジ６は大ド
ット側表面６ａと４・ドット側表面６ｂとの大きさは近
似し、両者の合致線すなわちブリッジ合致線６ｃはほぼ
ブリッジ６の厚さの中央にあり、その幅ｄは著しく大き
くなっている。このためブリッジ６の縁すなわちその合
致線６ｃは正面から見ると第２図示のように丸みを帯び
、かつその幅ｄのばらつきは大きい。
第３図ａに、ブリッジ６の断面を同図ｂに示す。ａ図の
ように、孔５の幅方向においては大ドット側の開口部５
ａは大きく、小ドット側の関口部５ａと両者の合致線す
なわちスリット合致線５ｃとはその位置が接近し、その
大きさは近似している。これに対し、ブリッジ６は大ド
ット側表面６ａと４・ドット側表面６ｂとの大きさは近
似し、両者の合致線すなわちブリッジ合致線６ｃはほぼ
ブリッジ６の厚さの中央にあり、その幅ｄは著しく大き
くなっている。このためブリッジ６の縁すなわちその合
致線６ｃは正面から見ると第２図示のように丸みを帯び
、かつその幅ｄのばらつきは大きい。
このことはシャドウマスクの視感検査の精度を低下し、
製品の品位むらを大きくする。さらに、このようなシャ
ドウマスクを組込んだ受像管は電子ビーム通過孔５のブ
リッジ６近傍の部分へ斜めに入射した電子ビームをしや
へし、するので、ビームスポットが小さくかつ形が非対
称になり、この結果画面が暗くなり、かつホワイトュニ
ホミテイを害する。この解決法はブリッジ合致線６ｃを
スリット合致線５ｃと同じ深さ‘こすることで解決でき
るが、シャドウマスク形カラー受像管ではブリッジ６の
寸法がたとえば０．１物吻あるいは０．１５肋などのよ
うに規定されているので、この規定を守りながら上述の
ようにエッチングを行なうと、金属板が保護被膜の下ま
でえぐり込まれるために発生するサイドエッチ量、すな
わちある寸法部における｛〔原版のドットサイズ〕−〔
マスクの孔サイズ〕｝Ｘ裏のためにブリッジ６の大ドッ
ト側表面６ａが幅広くなり、シャドウマスクのプレス成
形における機械的強度を弱くする。本発明はこのような
従来技術の欠点を除くためになされたもので、かどを鋭
角的に突出させたドットを配設したドットフィルムを用
いてホトェツチングすることによって、矩形孔に近似し
た電子ビーム通過孔を容易に形成できるようにしたこと
である。
製品の品位むらを大きくする。さらに、このようなシャ
ドウマスクを組込んだ受像管は電子ビーム通過孔５のブ
リッジ６近傍の部分へ斜めに入射した電子ビームをしや
へし、するので、ビームスポットが小さくかつ形が非対
称になり、この結果画面が暗くなり、かつホワイトュニ
ホミテイを害する。この解決法はブリッジ合致線６ｃを
スリット合致線５ｃと同じ深さ‘こすることで解決でき
るが、シャドウマスク形カラー受像管ではブリッジ６の
寸法がたとえば０．１物吻あるいは０．１５肋などのよ
うに規定されているので、この規定を守りながら上述の
ようにエッチングを行なうと、金属板が保護被膜の下ま
でえぐり込まれるために発生するサイドエッチ量、すな
わちある寸法部における｛〔原版のドットサイズ〕−〔
マスクの孔サイズ〕｝Ｘ裏のためにブリッジ６の大ドッ
ト側表面６ａが幅広くなり、シャドウマスクのプレス成
形における機械的強度を弱くする。本発明はこのような
従来技術の欠点を除くためになされたもので、かどを鋭
角的に突出させたドットを配設したドットフィルムを用
いてホトェツチングすることによって、矩形孔に近似し
た電子ビーム通過孔を容易に形成できるようにしたこと
である。
以下、本発明の詳細を図によって説明する。
第４図は本発明の製造方法に用いる大ドットフィルムの
一例を示す。図中、１１は板状の透明素地、１２はこの
素地１１上に配設された非透光性ドットで、ほぼ矩形を
なし、透明なブリッジ部１３を介して長手方向に蓮設さ
れており、かつ各ドット１２の長辺が一直線をなして連
続し、かつそのかど１４が鋭角三角形をなすとともにそ
の頂点において互いに隣接したドット１２のかど１４の
頂点と接している。このためブリッジ部１３は細長い六
角形をなして周囲の透明素地の部分から切り離されてい
る。また、小ドットフィルムは第１図ｂで示した従来の
ものと同じであるので説明を略する。そして、これら大
小のドットフィルムを用い従来と同様な方法によって感
光性樹脂膜を形成した金属板にホトェッチングを施して
電子ビーム通過孔を形成し、ついで成形してシャドウマ
スクに構成する。
一例を示す。図中、１１は板状の透明素地、１２はこの
素地１１上に配設された非透光性ドットで、ほぼ矩形を
なし、透明なブリッジ部１３を介して長手方向に蓮設さ
れており、かつ各ドット１２の長辺が一直線をなして連
続し、かつそのかど１４が鋭角三角形をなすとともにそ
の頂点において互いに隣接したドット１２のかど１４の
頂点と接している。このためブリッジ部１３は細長い六
角形をなして周囲の透明素地の部分から切り離されてい
る。また、小ドットフィルムは第１図ｂで示した従来の
ものと同じであるので説明を略する。そして、これら大
小のドットフィルムを用い従来と同様な方法によって感
光性樹脂膜を形成した金属板にホトェッチングを施して
電子ビーム通過孔を形成し、ついで成形してシャドウマ
スクに構成する。
このようにして得られたシャドウマスクは、第５図にそ
の一部を拡大して示し、さらに第６図ないし第９図に要
部を断面して示すように、金属板４に長形をなす多数の
電子ビーム通過孔１５，１５がブリッジ１６，１６を介
して長手方向に蓮設されている。
の一部を拡大して示し、さらに第６図ないし第９図に要
部を断面して示すように、金属板４に長形をなす多数の
電子ビーム通過孔１５，１５がブリッジ１６，１６を介
して長手方向に蓮設されている。
しかして、本例マスクの特徴はブリッジ１６の両端に大
ドットフィルムのドット１２のかど１４に対応して溝１
７が形成されていること、そのため、ブリッジ合致線の
中央部１６ｃはこのブリッジ１６の大ドット側表面１６
ａと小ドット側表面１６ｂとの中間にあるが、ブリッジ
合致線のかど１６ｄは溝１７方向にえぐり込まれており
、このため、電子ビーム通過孔１５のかど部においてス
リット合致線１５ｃが見えるようになり、電子ビーム通
過孔１５は矩形孔に極めて近似したものになる。さらに
良いことは、電子ビーム通過孔１５のかど部の斜面が溝
１７方向にえぐり込まれているので、この孔１５のかど
部に斜めに入射した電子ビームがしやへいされないので
画面輝度が高い利点がある。さらに、このシャドウマス
クを用いてけし、光面を形成する場合、光吸状級条やけ
し、光体紬条の縁が直線になりやすいことである。本発
明者の実験によれば、ドット１２の幅が０．３５側、ブ
リッジ部１３の幅が０．１５脚とした第４図示の大ドッ
トフィルムと、ドット２ｂの幅が０．０８肋、ブリッジ
部３ｂの幅が０．１３側とした第１図ｂに示すづ・ドッ
トフィルムとを用い、厚さ０．１５肋の鉄板に写真蝕刻
してシャドウマスクに構成したところ、電子ビーム通過
孔１５の大ドット側の開□面１５ａの幅が０．４３側、
小ドット側の開口面１５ｂの幅が０．１６側、ブリッジ
１６の大ドット側表面１６ａの中心の幅が０．０６側、
小ドット側表面１６ｂの中心の幅が０．０５６肋、ブリ
ッジ端部の溝１７部分の厚さが０．１２肋のものが得ら
れた。
ドットフィルムのドット１２のかど１４に対応して溝１
７が形成されていること、そのため、ブリッジ合致線の
中央部１６ｃはこのブリッジ１６の大ドット側表面１６
ａと小ドット側表面１６ｂとの中間にあるが、ブリッジ
合致線のかど１６ｄは溝１７方向にえぐり込まれており
、このため、電子ビーム通過孔１５のかど部においてス
リット合致線１５ｃが見えるようになり、電子ビーム通
過孔１５は矩形孔に極めて近似したものになる。さらに
良いことは、電子ビーム通過孔１５のかど部の斜面が溝
１７方向にえぐり込まれているので、この孔１５のかど
部に斜めに入射した電子ビームがしやへいされないので
画面輝度が高い利点がある。さらに、このシャドウマス
クを用いてけし、光面を形成する場合、光吸状級条やけ
し、光体紬条の縁が直線になりやすいことである。本発
明者の実験によれば、ドット１２の幅が０．３５側、ブ
リッジ部１３の幅が０．１５脚とした第４図示の大ドッ
トフィルムと、ドット２ｂの幅が０．０８肋、ブリッジ
部３ｂの幅が０．１３側とした第１図ｂに示すづ・ドッ
トフィルムとを用い、厚さ０．１５肋の鉄板に写真蝕刻
してシャドウマスクに構成したところ、電子ビーム通過
孔１５の大ドット側の開□面１５ａの幅が０．４３側、
小ドット側の開口面１５ｂの幅が０．１６側、ブリッジ
１６の大ドット側表面１６ａの中心の幅が０．０６側、
小ドット側表面１６ｂの中心の幅が０．０５６肋、ブリ
ッジ端部の溝１７部分の厚さが０．１２肋のものが得ら
れた。
なお、前述の実施例は大ドットフィルムだけドットのか
どを鋭角的にしたが、本発明においては大ドットフィル
ムおよび小ドットフィルムの両方ともドットのかどを鋭
角的にしても良い。さらに、隣接するドットのかどは必
ずしも連続していなくともよく、また、かどを斜方向に
突出するとブリッジ織部に溝ができないのでマスクの強
度を低下させない利点がある。
どを鋭角的にしたが、本発明においては大ドットフィル
ムおよび小ドットフィルムの両方ともドットのかどを鋭
角的にしても良い。さらに、隣接するドットのかどは必
ずしも連続していなくともよく、また、かどを斜方向に
突出するとブリッジ織部に溝ができないのでマスクの強
度を低下させない利点がある。
このように、本発明のシャドウマスクの製造方法は、透
明素地に、ほぼ矩形をなし、かつそのかどが鋭角的に突
出した非透光性ドットを透明なブリッジを介して長手方
向に蓮設してなるドットフィルムを用い、写真蝕刻を施
して電子ビーム通過孔を形成するので、従来理想とされ
ていた矩形孔に極めて近似した電子ビーム通過孔を容易
に穿設することができるようになり、この結果画面輝度
が高く、ホワイトュニホミティも良好で、また機械的強
度の高いシャドウマスクを容易に製造できる。
明素地に、ほぼ矩形をなし、かつそのかどが鋭角的に突
出した非透光性ドットを透明なブリッジを介して長手方
向に蓮設してなるドットフィルムを用い、写真蝕刻を施
して電子ビーム通過孔を形成するので、従来理想とされ
ていた矩形孔に極めて近似した電子ビーム通過孔を容易
に穿設することができるようになり、この結果画面輝度
が高く、ホワイトュニホミティも良好で、また機械的強
度の高いシャドウマスクを容易に製造できる。
第１図ａ，ｂは従来のシャドウマスクの製造方法に用い
たドットフィルムの一例を示し、ａは大ドットフィルム
、ｂは４・ドットフィルム、第２図は第１図ａ，ｂに示
すフィルムによって得られたシャドウマスクの要部拡大
正面図、第３図ａ，ｂは同じく要部断面図で、ａは第２
図Ａ−Ａ線に沿った断面図、ｂは第２図Ｂ−Ｂ線に沿っ
た断面図、第４図は本発明のシャドウマスクの製造方法
の一実施例に用いる大ドットフィルムの一例の正面図、
第５図は第４図示のフィルムによって得られたシャドウ
マスクの要部拡大正面図、第６図は第５図Ｗ−の線に沿
った断面図、第７図は第５図血−脚線に沿った断面図、
第８図は第５図皿一肌線に沿った断面図、第９図は第５
図Ｋ−Ｋ線に沿った断面図である。 １，１１・・・・・・透明素地、２，１２・・・・・・
非透光性ドット、３，１３…・・・ブリッジ部、４……
金属板、１４・・・・・・ドットのかど部、５，１５・
・・・・・電子ビーム通過孔、６，１６・・・・・・ブ
リッジ。 第１図第２図 第３図 第４図 第５図 第６図 第７図 第８図 第９図
たドットフィルムの一例を示し、ａは大ドットフィルム
、ｂは４・ドットフィルム、第２図は第１図ａ，ｂに示
すフィルムによって得られたシャドウマスクの要部拡大
正面図、第３図ａ，ｂは同じく要部断面図で、ａは第２
図Ａ−Ａ線に沿った断面図、ｂは第２図Ｂ−Ｂ線に沿っ
た断面図、第４図は本発明のシャドウマスクの製造方法
の一実施例に用いる大ドットフィルムの一例の正面図、
第５図は第４図示のフィルムによって得られたシャドウ
マスクの要部拡大正面図、第６図は第５図Ｗ−の線に沿
った断面図、第７図は第５図血−脚線に沿った断面図、
第８図は第５図皿一肌線に沿った断面図、第９図は第５
図Ｋ−Ｋ線に沿った断面図である。 １，１１・・・・・・透明素地、２，１２・・・・・・
非透光性ドット、３，１３…・・・ブリッジ部、４……
金属板、１４・・・・・・ドットのかど部、５，１５・
・・・・・電子ビーム通過孔、６，１６・・・・・・ブ
リッジ。 第１図第２図 第３図 第４図 第５図 第６図 第７図 第８図 第９図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 透明素地に、ほぼ矩形をなしかつそのかどが鋭角的
に突出した非透光性ドツトを透明なブリツジ部を介して
長手方向に連設してなるネガパターンフイルムを用い、
写真技術によって金属板面に上記ネガパターンに対応す
るポジパターンをなす保護被膜を形成し、そののちエツ
チングを施して上記金属板に電子ビーム通過孔を穿設す
ることを特徴とするシヤドウマスクの製造方法。 ２ ネガパターンフイルムは非透孔性ドツトのかどがそ
の長手方向に隣接した他のドツトのかどとそれぞれの先
端部において連続していることを特徴とする前記特許請
求の範囲第１項記載のシヤドウマスクの製造方法。 ３ 非透光性ドツトは長辺とこの長辺のかどの外側の辺
とがほぼ同一直線をなすことを特徴とする前記特許請求
の範囲第１項または第２項記載のシヤドウマスクの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4426978A JPS6011419B2 (ja) | 1978-04-17 | 1978-04-17 | シヤドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4426978A JPS6011419B2 (ja) | 1978-04-17 | 1978-04-17 | シヤドウマスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54137271A JPS54137271A (en) | 1979-10-24 |
| JPS6011419B2 true JPS6011419B2 (ja) | 1985-03-26 |
Family
ID=12686788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4426978A Expired JPS6011419B2 (ja) | 1978-04-17 | 1978-04-17 | シヤドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6011419B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4293792A (en) * | 1979-12-18 | 1981-10-06 | Rca Corporation | Color picture tube having improved slit type shadow mask |
| JP2741036B2 (ja) * | 1988-07-30 | 1998-04-15 | 大日本スクリーン製造株式会社 | カラー受像管用シャドウマスク |
-
1978
- 1978-04-17 JP JP4426978A patent/JPS6011419B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54137271A (en) | 1979-10-24 |
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