JPS6011103B2 - 電弧金属蒸発装置用の消耗性陰極 - Google Patents

電弧金属蒸発装置用の消耗性陰極

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JPS6011103B2
JPS6011103B2 JP81501238A JP50123881A JPS6011103B2 JP S6011103 B2 JPS6011103 B2 JP S6011103B2 JP 81501238 A JP81501238 A JP 81501238A JP 50123881 A JP50123881 A JP 50123881A JP S6011103 B2 JPS6011103 B2 JP S6011103B2
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    • H01J37/32532Electrodes
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    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 この発明は、多成分コーティングを得るための真空アー
クプラズマ装置に関し、特に、真空アークプラズマ装置
の亀弧金属蒸発装置に用いられる消耗性陰極に関する。
背景技術多成分コーティングを得るためには、従釆から
用いられている真空ア−ク装置に幾つかの蚤弧蒸発装置
が配置される。
しかして、それらの蒸発装置の各々は、1種の金属から
作られた消耗性陰極を備えるか、あるいは、幾つかの異
なる金属から成る数種の消耗性電極を有する亀弧蒸発装
置から成る。露弧蒸発装置の陰極の数が、得られる多成
分コーティングに含まれる成分の数に対応する。そして
、消耗性電極を構成する各金属の陰極電位降下の値は互
いに異なる。従来の真空アーク装置において均質な多成
分コーティングを得るためには、複数の金属から構成さ
れる消耗性陰極の数を増加させていた。
そのように、消耗性陰極の数を増すことは、電弧金属蒸
発装置の設計を複雑にする。多成分コーティングを得る
ための軍孤蒸発装置として、陽極、複数の消耗性陰極、
点火電極、磁気装置、および基質から成るものが当該技
術分野において知られている(ソ連邦発明者証第426
540号)。該複数の消耗性陰極は、幾つかの異なる金
属から構成され、亀弧蒸発装置本体の端部周辺に沿って
配置されている。
消耗性陰極の1つに陰極スポットが生じ、このスポット
が、アーチ形状の磁場により、前記複数の消耗性電極が
配置されている前記周辺に沿って移動する。
消耗性電極を構成する各金属が逐次蒸発して、金属プラ
ズマの流れが基体上に凝縮し、かくして、多成分コーテ
ィングが形成される。しかしながら、電弧蒸発装置にお
いて消耗性陰極が逐次的に蒸発するために、得られる多
成分コーティングは充分な均質性を有していない。ソ連
邦発明者証第368807号に開示されている亀弧金属
蒸発装置は、均質な多成分コーティングを得ることを可
能にしており、該蒸発装置は、陽極、複数の消耗性陰極
、点火電極(複数)、磁気装置、および基体から成る。
該複数の消耗性陰極は、互いに近接して配置されている
消耗性陰極と構成する各金属は、異なる陰極電位降下値
を有している。陰極の数が、得られる多成分コーティン
グの成分の数に対応している。
消耗性陰極の各々に「点火電極と供電装層が配備されて
いる。それらの点火電極を用い、各消耗性陰極の加工端
部上に同時に陰極スポットが得られる。
均一な磁場を与えることにより「消耗性陰極の各々から
、最大強度の金属プラズマの流れが同時に発生する。消
耗性陰極を構成する各金属は「同時に「蒸発して基体上
に凝縮し、かくしてL均質な多成分コーティングが形成
される。
しかしながら「上述の亀弧蒸発装贋は「配置された消耗
性陰極の数に応じた多数の供電装層を有しており、この
結果トその設計をかなり複雑にする。
発明の開示 本発明の目的は、複数の異なる金属から構成される単一
の複合消耗性電極であって、均質な多成分コーティング
を得ることができ且つ電弧金属蒸発装置の設計を簡単に
することができる電極を提供することにある。
該目的は、露弧金属蒸発装置の消耗性陰極を、異なる陰
極電位降下値を有する複数の金属層から構成し、その消
耗性陰極の幾何学的中心髄から該陰極の周囲に向かって
陰極電位降下の値が減少するような順序に前記複数の金
属層を配置することによって達成される。
そのような消耗性陰極によって、該消耗性陰極に設けら
れた金属層の数に応じた多数の成分のコーティングが得
られる。
該消耗性陰極は、単一の供電装層および単一の点火電極
によって駆動される。
【図面の簡単な説明】
本発明は、本発明の霧弧金属蒸発装置用消耗性陰極を図
示する添附図面を参照することによって更に詳細に説明
される。 第1図は本発明に係る消耗性陰極を備えた電弧金属蒸発
装置の概略構成図である。第2図は消耗性陰極の断面図
である。第3図a及びbは他の消耗性陰極の断面図及び
正面図である第4図はソレノィドからの磁界を示す説明
図である。発明を実施するための最良の形態 電弧金属蒸発装置は、陽極として作用する真空室2内に
配置された消耗性陰極1、多成分コ−7ィングを施すべ
き基体3を含む。 消耗性陰極1は「異なる陰極電位降下値を有する2つの
金属層4と5から成る。 金属層4と5は互いに堅固に結合されており、消耗性陰
極1の幾何学的中心髄から該陰極の周囲に向かって陰極
電位降下値が減少するような順序に配置されている。 消耗性陰極1は、非磁性金属から作られた本体6内に配
備される。 該本体6上にソレノィド7が取付けられており、米国特
許第378323i号に示すように、陰極スポットを陰
極の加工端部に保持する助けとなる磁界を発生する。消
耗性陰極亀と真空室2はDC供電装層8に連結させてい
る。 ァーク放電を発生させるために、雷弧蒸発装置に点火電
極9が配備され、この電極は、消耗性陰極1の側面11
上に存するセラミックジャンパー10上に取付けられて
いる。 点火電極9と消耗性陰極1は、高電圧パルス発生装層1
2に連結され、該点火電極9と消耗性陰極との間にパル
ス放電を惹起させるようになっている。 参照番号量3は、消耗性陰極1の加工端部を表わす。 上述の複合陰極の加工性ついて次のような陰極を用いて
試験した。 実施例 1 ニオブで成る内側層とチタンで成る外側層とを備えた、
円筒状の二層構造の陰極が試験された。 これらの層は圧入により堅く結合された。燃焼アークの
陰極での電位降下は、ニオブ層で28ボルトでありチタ
ン層で20.5ボルトであった。実施例 2円筒状の四
層構造の陰極1が用いられた。 この陰極を第2図に示す。内側層15はジルコニウムで
あり、その次の層16はチタンであり、第3層17はク
ロムであり、外側層18はアルミニウムである。燃焼ア
ークの陰極での電位降下は、ジルコニウム層15で26
ボルト、チタン層16で20.5ボルト、クロム層17
で20.2ボルト、アルミニウム層18で20ボルトで
あった。実施例 3 矩形の平行パイプ形の三層状陰極が用いられた。 この陰極1′が第3図a及びbに示される。中央層19
はジルコニウムであり、一方の側の層20はチタンであ
り、他の側の層21はクロムである。燃焼アークの陰極
の電位降下は、実施例2に示される各材料層と同じ値を
示した。上記実施例から明らかなように、陰極の各成分
は、燃焼アークの電位降下がその陰極の周緑に向けて減
少するように、一体にされた陰極の幾何学的中心髄に対
して配置されている。 このような陰極を組込んだ霞弧金属蒸発装置(第1図)
は次のように作動する。 直流(DC)供電装層8のスイッチが投入されてアーク
放電を発生させる。 ソレノィド7が該ソレノィドの軸心から鍬対称に発散す
る磁界22(第4図)を発生し、その磁力線は、陰極1
の側面の非加工面に対して鋭角Qをなしている。 最初、陰極の加工端部13(第1図)は平坦な形状をし
ており、陰極スポットは、燃焼アークの最も少ない電位
降下を示す金属すなわち外側層4上に移動する。 従って、この外側層が最初に消費されて、内側層はまだ
消費されない。その結果、陰極の加工端部13に段部が
形成される。こられの段部になった様子を示すのが、第
2図であり、第3図aであり、第4図である。この段部
が形成されるので、2つの相反する要因が陰極スポット
に作用を及ぼすことになる。 (11 1つの要因は、陰極スポットが陰極の電位降下
の最少の値を有する金属層にとどまろうとする性質であ
る。■ もう1つの要因は、段部の側面に対して鋭角を
成す磁力線で成る磁界の影響により、陰極スポットが加
工端部において内側にずれようとする性質である。 上記した第2の要因により、陰極スポットは内側面に向
けて押されることになる。 そして、前記段部の高さ(この高さは組合される金属の
種類と磁界の強さに依存する)が一定になると、上記2
つの要因が同等となり、その後両部分での陰極スポット
の位置が安定する。従って、その後の蒸発においては、
毅部の高さは変らなくなる。陰極の形状はその後アーク
放電加工において一定のままに維持されるので、コーテ
ィングの成分の比は、消耗性陰極の各層の金属の厚さに
よってのみ決定されることになる。オ/凶 第2図 算3図 第4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 真空室内に配置され、この真空室のハウジングには
    前記室内に磁界を発生するソレノイドが設けられた、電
    弧金属蒸発発生装置用の消耗性陰極において、陰極電位
    降下値の異なる複数の金属層から構成され、消耗性陰極
    の幾何学的中心軸から該陰極の周囲に向かつて陰極電位
    降下の値が減少するような順序に前記金属層が配置され
    ていることを特徴とする消耗性電極。
JP81501238A 1981-02-23 1981-02-23 電弧金属蒸発装置用の消耗性陰極 Expired JPS6011103B2 (ja)

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GB (1) GB2106545B (ja)
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03106506A (ja) * 1989-09-19 1991-05-07 Nkk Corp 圧延機のロールカリバー中心とパスライン中心を一致させる調整方法

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4537794A (en) * 1981-02-24 1985-08-27 Wedtech Corp. Method of coating ceramics
US4351855A (en) * 1981-02-24 1982-09-28 Eduard Pinkhasov Noncrucible method of and apparatus for the vapor deposition of material upon a substrate using voltaic arc in vacuum
US4596719A (en) * 1981-02-24 1986-06-24 Wedtech Corp. Multilayer coating method and apparatus
US4609564C2 (en) * 1981-02-24 2001-10-09 Masco Vt Inc Method of and apparatus for the coating of a substrate with material electrically transformed into a vapor phase
GB2140040B (en) * 1983-05-09 1986-09-17 Vac Tec Syst Evaporation arc stabilization
US4448659A (en) * 1983-09-12 1984-05-15 Vac-Tec Systems, Inc. Method and apparatus for evaporation arc stabilization including initial target cleaning
GB2150947A (en) * 1983-12-07 1985-07-10 Vac Tec Syst Evaporation arc stabilization for non-permeable targets utilizing permeable stop ring
US5096558A (en) * 1984-04-12 1992-03-17 Plasco Dr. Ehrich Plasma - Coating Gmbh Method and apparatus for evaporating material in vacuum
IL74360A (en) * 1984-05-25 1989-01-31 Wedtech Corp Method of coating ceramics and quartz crucibles with material electrically transformed into a vapor phase
US4620913A (en) * 1985-11-15 1986-11-04 Multi-Arc Vacuum Systems, Inc. Electric arc vapor deposition method and apparatus
DE3789307T2 (de) * 1986-04-04 1994-06-09 Univ Minnesota Bogenbeschichtung von feuerfesten metallverbindungen.
GB2202237A (en) * 1987-03-12 1988-09-21 Vac Tec Syst Cathodic arc plasma deposition of hard coatings
US5298136A (en) * 1987-08-18 1994-03-29 Regents Of The University Of Minnesota Steered arc coating with thick targets
DE3901401C2 (de) * 1988-03-01 1996-12-19 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Steuerung einer Vakuum-Lichtbogenentladung
CS275226B2 (en) * 1989-09-13 1992-02-19 Fyzikalni Ustav Csav Method of arc discharge's cathode vaporization with cathode spots and macroparticles' reduced emission and device for realization of this method
DE4026494A1 (de) * 1990-08-22 1992-02-27 Ehrich Plasma Coating Vorrichtung zur materialverdampfung mittels vakuumlichtbogenentladung und verfahren
US5126030A (en) * 1990-12-10 1992-06-30 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Apparatus and method of cathodic arc deposition
DE4223592C2 (de) * 1992-06-24 2001-05-17 Leybold Ag Lichtbogen-Verdampfungsvorrichtung
DE4336680C2 (de) * 1993-10-27 1998-05-14 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Elektronenstrahlverdampfen
EP0658634B1 (en) * 1993-12-17 1999-03-10 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO also known as Kobe Steel Ltd. Vacuum arc deposition apparatus
US5518597A (en) * 1995-03-28 1996-05-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Cathodic arc coating apparatus and method
DE19924094C2 (de) * 1999-05-21 2003-04-30 Fraunhofer Ges Forschung Vakuumbogenverdampfer und Verfahren zu seinem Betrieb
DE60041951D1 (de) * 1999-12-20 2009-05-20 United Technologies Corp Verwendung einer Kathode zur Vakuumbogenverdampfung
CN100338255C (zh) * 2003-10-13 2007-09-19 沈阳黎明航空发动机(集团)有限责任公司 一种铝硅钇扩散合金化涂层的制备方法
CH696828A5 (de) * 2003-11-18 2007-12-14 Oerlikon Trading Ag Zündvorrichtung.
US9153422B2 (en) 2011-08-02 2015-10-06 Envaerospace, Inc. Arc PVD plasma source and method of deposition of nanoimplanted coatings
RU2510428C1 (ru) * 2013-03-15 2014-03-27 Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Научно-Производственное Объединение "Техномаш" Электродуговой испаритель металлов и сплавов
US10954594B2 (en) * 2015-09-30 2021-03-23 Applied Materials, Inc. High temperature vapor delivery system and method

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1214851A (en) * 1967-12-05 1970-12-09 Rheinstahl Henschel Ag Method of producing materials from metal starting materials having different melting temperatures
FR1594667A (ja) * 1968-10-15 1970-06-08
US3836451A (en) * 1968-12-26 1974-09-17 A Snaper Arc deposition apparatus
SU284883A1 (ru) * 1969-01-10 1976-05-15 А. А. Романов, А. А. Андреев , В. Н. Козлов Электродуговой испаритель
US3725238A (en) * 1969-07-28 1973-04-03 Gillette Co Target element
SU368807A1 (ru) * 1970-10-19 1978-05-29 Stupak R I Электродуговой испаритель
SU426540A1 (ru) * 1971-09-20 1975-10-05 Электроразр дное устройство дл нанесени покрытий в вакууме
US3854984A (en) * 1971-12-17 1974-12-17 Gen Electric Vacuum deposition of multi-element coatings and films with a single source
US3783231A (en) * 1972-03-22 1974-01-01 V Gorbunov Apparatus for vacuum-evaporation of metals under the action of an electric arc
DE2307649B2 (de) * 1973-02-16 1980-07-31 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Anordnung zum Aufstäuben verschiedener Materialien auf einem Substrat
US4001461A (en) * 1973-03-30 1977-01-04 David Grigorievich Bykhovsky Method of producing electrode units for plasmatrons
US3974058A (en) * 1974-09-16 1976-08-10 Basf Wyandotte Corporation Ruthenium coated cathodes
JPS54110988A (en) * 1978-01-31 1979-08-30 Nii Chiefunorogii Afutomobirin Coating vacuum evaporation apparatus
JPS5732370A (en) * 1980-07-31 1982-02-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd Sputtering and vapor-depositing method and formation of magnetic gap by said method
ZA817441B (en) * 1980-11-21 1982-10-27 Imi Kynoch Ltd Anode
DE3149910A1 (de) * 1981-12-16 1983-06-23 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Vorrichtung zur kathodenzerstaeubung von mindestens zwei verschiedenen materialien
CA1193227A (en) * 1982-11-18 1985-09-10 Kovilvila Ramachandran Magnetron sputtering apparatus
US4417968A (en) * 1983-03-21 1983-11-29 Shatterproof Glass Corporation Magnetron cathode sputtering apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03106506A (ja) * 1989-09-19 1991-05-07 Nkk Corp 圧延機のロールカリバー中心とパスライン中心を一致させる調整方法

Also Published As

Publication number Publication date
CA1179972A (en) 1984-12-27
DE3152736T1 (de) 1983-02-24
DE3152736C2 (de) 1984-04-05
GB2106545A (en) 1983-04-13
FR2512270A1 (fr) 1983-03-04
JPS58500069A (ja) 1983-01-13
SE452030B (sv) 1987-11-09
FR2512270B1 (ja) 1984-01-06
GB2106545B (en) 1985-06-26
US4563262A (en) 1986-01-07
SE8205821D0 (sv) 1982-10-13
CH651072A5 (de) 1985-08-30
NL8201806A (nl) 1983-12-01
SE8205821L (sv) 1982-10-13
WO1982002906A1 (en) 1982-09-02

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