JPS60105148A - 液体金属イオン源 - Google Patents

液体金属イオン源

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JPS60105148A
JPS60105148A JP58210854A JP21085483A JPS60105148A JP S60105148 A JPS60105148 A JP S60105148A JP 58210854 A JP58210854 A JP 58210854A JP 21085483 A JP21085483 A JP 21085483A JP S60105148 A JPS60105148 A JP S60105148A
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JP
Japan
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ionized
reservoir
tip
liquid metal
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JP58210854A
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English (en)
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Kaoru Umemura
馨 梅村
Toru Ishitani
亨 石谷
Hifumi Tamura
田村 一二三
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/26Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field effect ion sources, thermionic ion sources
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/08Ion sources; Ion guns

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、固体または粉末状のイオン化物質の貯蔵部を
設けた液体金属イオン源の構造に関するものであり、特
に、イオンマイクロビーム打込みの長時間連続運転に好
適な液体金属イオン源に関する。
〔発明の背景〕
第1図および第2図は、従来の液体金属イオン源の代表
的基本構成を示している。これらの2つの構成例は、イ
オン化すべき物質を保持する構造および加熱方法が異な
るが、現在、一般的に採用されているイオン源である。
まず、第1図は、イオン化すべき物質2を加熱部である
ヒーター4に直接接触させ、通電による抵抗加熱をする
方式を示した概略図である。絶縁性の支持体6に取付け
られた2本の電流導入端子8によって保持されたヒータ
ー4の中央部には円孔工0が設けられている。針状エミ
ッターチップ12は、この円孔10の中心に位置し、突
き出している。円孔10の周辺にヒーター4と針状エミ
ッターチップ12に接するようにイオン化物質2を置く
。ヒーター電源14からの電流による抵抗加熱によって
イオン化物質2を溶融させ、針状エミッターチップ12
に瀧れさぜる。この状態で、針状エミッターチップ12
イオン加速電源16によって正の高電圧を印加するとと
もに、イオン引出し電源18によって引出し電極2o側
に針状エミッターチップ12に対して負の高電圧を印加
してい舎ことにより、針状エミッターチップ12の先端
で儒れている溶融状態のイオン化物質2は、電解電離に
よってイオン化し、イオンビーム22として引出される
これに対し、第2図は、イオン化すべき物質2をルツボ
等の容器24に入れ、この容器24の底部に設けられた
円孔26から針状エミッターチッグ12を突出させてい
る。イオンfヒすべき物質2の加熱はヒーター4からの
電子線価ネによシ行なわれ、円孔26付近にあるイオン
化すべき物質2は加熱溶融させる。制御電極28a、2
8bは、制御電源30によって溶融状態のイオン化すべ
き物質20針状工ミツターチツプ12表面での流れを制
御するだめのものである。その他、イオンビーム22を
引出す原理は第1図に示す構成例の場合と同じである。
この例のようにルツボ等の容器24を用いると、加熱し
たときにイオン化すべき物質2が蒸発して飛散するのを
防ぐことができる。
これらの従来のイオン源には、以下のような問題がある
。すなわち、 (1) イオン源に搭載されたイオン化物質の全量を常
に溶融状態に保つ必要があるために、イオン化物質が固
体または粉末状であったり高融点物質である場合、加熱
するための消費電力は大きい。
(2) ヒーター電流が一定の場合、イオン化物質の減
少に伴いイオン化物質の温度は上列し、全イオン電流値
が増加するなどのイオン放出特性が変化してくる。
(3) イオン化物質が蒸気圧の大きく異なる金属同士
の合金である場合、長時間加熱による選択蒸発によって
合金組成の割合が変化する。
(4) イオン化物質の搭載量は溜め部またはルツボの
大きさや加熱電気容量によって制限されるために、イオ
ン源寿命を決める一因となっている。
(5) イオン化物質の消費によりイオン放出が望めな
くなった場合には、一度真空を破り、イオン化物質を外
部から補給しなければならない。イオン放出を一度中断
し、イオン化物質の補給を行ない、イオン放出を再開す
ると、放出再開直後、イオンが安定に放出されるように
なるまでに長時間を委し、引出し電圧の放出イオン電流
特性が中断前に比べて異なる1、また、補給の作業にも
時間を要する。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、放出されるイオン電流を安定して、長
時間動作させることができるイオン源を提供することに
ある。
〔発明の概要〕
本発明の特徴は、イオン化すべき物質を溶融状態で保持
するだめの溜め部と、該溜め部から供給される上記溶融
状態のイオン化すべき物質のイオンを先端から放出する
エミッターと、該エミッターの先端に高電界を印加する
ことによって上記エミッターの先端からイオンを引出す
だめの引出し電極と、イオン化すべき物質の貯蔵部と、
該貯蔵部から前記溜め部へイオン化すべき物質を移すだ
めの移送手段とを備えた液体金属イオン源にある。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の一実施例を第3図によシ説明する。第3
図は、本発明によるイオン化物質の貯蔵部と、溜め部ま
たは加熱部へイオン化物質を移すだめの手段を備えた液
体金属イオン源の基本構成を示したものである。同図に
おいて、2はイオン化物質、2はイオン化物質の溜め部
またはルツボ24.4け加熱部(ヒーター)、12は針
状エミッターチップ、22はイオンビーム、32は本発
明によるイオン化物質の貯蔵部、7は本発明によるイオ
ン化物質を移動させる手段としてのらせん状回転軸34
aおよび移動通路:14b、20はイオン引出し電極、
14,16.30は電源、8は電流導入端子、10は円
孔である。また、電源14.16.30および回転軸3
4aの端部を除いてすべて真空容器36内に入っている
この液体金属イオン源は通電加熱タイプであシ、イオン
化物質2の溜め部24は加熱部4と兼ねており、カーホ
ンからなる加熱部4に通電することにより抵抗加熱させ
、その熱で固体または粉末状のイオン化物質2を溶融す
る。上下可動機構を有する針状エミッターチップ12全
溶融したイオン化物質に浸けて十分濡らせ、溜め部24
の底部にある円孔10からの液体状イオン化物質2の流
れを針状チップ24の上下運動によって制御する。
そこで、イオン引出し電極20に負の高電圧を印加する
ことによって針状エミッターチップ14の先端に付着し
ているイオン化物質2は電界電離によシイオンとなりイ
オンビーム22が引出される。
本実施例では、イオン化物質2としてNiBにッケル・
ポロン合金)を用いた。また、ヒーター4の形状は、イ
オン化物質2の移動通路34bからのイオン化物質2の
ヒーター4上での散乱を避けるためにヒータ−4中央部
に四部24を設け、イオン化物質2の溜め部と兼ねた形
状である。との凹部24に溜められるNiBの搭載容量
は約5−3で、安定なイオン放出が望めなくなるまでの
時間(寿命)は、約100時間であった。もらろん、こ
の寿命は、イオン放出N(全イオン電流値)やイオン化
物質の加熱による蒸発量などに依存するため定まった数
値ではない。
本発明によるイオン化物質の貯蔵部32はヒーター4の
溜め部24に比べその容量が大きく、本実施例では、そ
の内部に直径が最大でもO15閣程度にまで砕かれた粒
状または粉末状のN r B、約1c1n3搭載されて
いる。
イオン化物質2の溜め部24への供給量と供給時期は、
予め測定を行なっておいた、らせん状回転軸34aの回
転量とイオン化物質の供給量の関係から、らせん状回転
軸34aを回転させることによって溜め部24へ約2t
m”ずつ約50時間おきに供給した。
以下の実施例においても、基本的思想としてはイオン化
物質の貯蔵部32と、イオン化物質2を貯蔵部32から
溜め部24または加熱部4へ移動させるだめの手段を設
けるという点で同じであるが、イオン化物質2の移動手
段を機構的に改良した実施例である。
第4図ないし第8図に示す名実施例においては、電源、
真空容器および配線は省略しである。
第4図の実施例では、移動通路38内にピストン40を
設け、この移動によって、イオン化物質2の貯蔵部32
からヒーター4への移動量を調節できるものである。こ
のピストン40は直線導入機によって真空容器外から#
調整可能である。この構造では、イオン化物質が粉末又
は粒径のそろった微粒子である場合のイオン化物質の移
動量制御に対して有効である。イオン化物質の移動量の
微調整が重要な意義について説、明する。新たにイオン
化物質2を溜め部24へ供給する場合に、ヒーター4上
ではイオン化物質2は溶融状態になっている。このとき
、イオン化物質2を一挙に多量に供給すると、第5図(
a)にボすように、ヒーター4上にあるイオン化物質の
温度が急激に低下する。
温度低下は、放出イオン電流値などのイオン放出特性が
変化するか、あるいは、極端な場合にはイオン放出が停
止する。このため、安定したイオン放出を長時間連続に
得ることが困難である。しかしながら、第5図(b)に
示すように、’1 m ’2 m’3 * ’4などの
短時間ごとに微量ずつイオン化物質を供給していくと、
温度降下は小さく、イオン放出特性に大きな変動がない
。従って、イオン化物質を微量ずつ供給することが重要
になる。そこで、第3図および次に説明する第6図の実
施例のように、回転軸の回転角と供給量がある程度相関
をもつ機構が有効である。ガリウムのように室温付近で
液状であるような物質については、供給口の開口量、開
口時間と供給量に相関を持つ第4図の実施例が有効であ
る。
第6図に示す実施例では、貯蔵部32内にらせん状回転
軸42を設け、この回転によりイオン化物質2の貯蔵部
32から移動通路44を経てヒーター4への移動量を調
節できる。この構造では、特に、イオン化物質が粉砕物
のように粒径の不均一である場合でもイオン化物質の移
動量制御に効果がある。
第7図は、電子衝撃加熱型液体金属イオン源に貯蔵部3
2およびイオン化物質2の移動手段を用いた実施例であ
る。第7図の実施例では、2個の回転軸46a、46b
の回転力によシ、ベルト48上にあるイオン化物質を貯
蔵部32から移動通路50を経て溜め部24へ移動でき
、回転軸46a、46bの回転量によシイオン化物質2
の移動量が調節できる。この構造では、特に、回転軸4
8a、48bを真壁容器外から手動によっても回転させ
ることができるので、イオン化物質2の移動量の微調整
が可能である。
第8図の実施例では、イオン化物質の貯蔵部32と移動
通路52の間に弁54を設け、これをベローズまたはバ
ネ56を介して開閉することによシイオン化物質2の移
動量を調節することができる。
以上のように、本発明の思想が開示された以上、その他
、本発明の改良例は数多く考えられ、まだ、例に挙げた
第4図から第8図の各実施例をいくつか組み合わせるこ
とも可能であシ、ここで挙げたものとは別の加熱方式を
用いた液体金属イオン源への適用も可能である。
さらに、上記実施例のエミッターは針状エミッターであ
るが、毛細管中に液体金属を貯める方式のキャピラリー
タイプのエミッタ〜や、毛細管中に針状チップを通して
、両者の間に液体金属を貯める方式のキャピラリーニー
ドルタイプのエミッターでも同様の効果を得ることがで
きる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、固体粉末状または液体状のイオン化物
質あ貯蔵部の容量を大きくすることによりイオン化物質
を多く貯蔵することができ、連続補給によって安定した
イオン放出を長時間連続してすることができる。しかも
、貯蔵部は加熱部および溜め部と独立しているので、イ
オン源に搭載されたイオン化物質の全量を常に溶融状態
に保つ必要がなく、消費電力は従来と同程度で済む。ま
た、イオン化物質の補給が真空容器内で行なえるので、
真空外からのイオン化物質の補給のだめのイオン放出中
断によって生じる補給前後でのイオン放出特性の変化が
避けられる。さらに、蒸気圧の大きく異なった金属同志
の合金がイオン化物質である場合、長時間加熱による選
択蒸発が、貯蔵部からのイオン化物質の連続補給により
避けることができるなどの効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の通電加熱型液体金属イオン源の縦断面図
、第2図は従来のルツボ型容器を有した電子衝撃加熱型
液体金属イオン源の縦断面図、第3図は本発明の一実施
例を示し、特に通電加熱型の場合の断面図、第4図およ
び第6図は同型の他の実施例を示す断面図、第5図(a
)および(b)はイオン化物質の供給毎と温度の関係を
説明するための図、第7図および第8図は電子衝撃加熱
型の他の実施例を示す断面図である。 2・・・イオン化物質、4・・・加熱部、1o・・・円
孔、12・・・針状エミッターチップ、2o・・・引出
し電極、22・・・イオンビーム、24・・・溜め部、
28・・・制御電極、32・・・貯蔵部、34a、42
・・・らせん状回転軸、34b、3B、44,50,5
2・・・移動通路、36・・・真空容器、4o・・・ピ
ストン、46・・・回第 1 図 a3 図 第4− 口 15 図 (ム) 渫 ′fJ t 図 M 7 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、イオン化すべき物質を溶融状態で保持するだめの溜
    め部と、該溜め部から供給される上記溶融状態のイオン
    化すべき物質のイオンを先端から放出するエミッターと
    、該エミッターの先端に高電界を印加することによって
    上記エミッターの先端からイオンを引出すだめの引出し
    電極と、イオン化すべき物質の貯蔵部と、該貯蔵部から
    前記溜め部へイオン化すべき物質を移すだめの移送手段
    とを備えたことを特徴とする液体金属イオン源。 2、前記移送手段がらせん状回転軸であることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の液体金属イオン源。 3、前記移送手段が前記貯蔵部と前記溜め部を結ぶ移動
    通路と、そこに設けられる弁手段であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項に記載の液体金属イオン源。 4、前記移送手段が複数個の回転軸とこれら回転軸の間
    を連結するベルトであることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の液体金属イオン源。
JP58210854A 1983-11-11 1983-11-11 液体金属イオン源 Pending JPS60105148A (ja)

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GB08428392A GB2151071B (en) 1983-11-11 1984-11-09 Liquid metal ion source
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