JPS60102630A - レジスト画像の形成法 - Google Patents

レジスト画像の形成法

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Publication number
JPS60102630A
JPS60102630A JP58209831A JP20983183A JPS60102630A JP S60102630 A JPS60102630 A JP S60102630A JP 58209831 A JP58209831 A JP 58209831A JP 20983183 A JP20983183 A JP 20983183A JP S60102630 A JPS60102630 A JP S60102630A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
film
photosensitive resin
base material
exposed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58209831A
Other languages
English (en)
Inventor
Susumu Ishikawa
進 石川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Somar Corp
Original Assignee
Somar Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Somar Corp filed Critical Somar Corp
Priority to JP58209831A priority Critical patent/JPS60102630A/ja
Publication of JPS60102630A publication Critical patent/JPS60102630A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、レジスト画像の形成法に関し、詳しくは、基
材に感光性樹脂を重布し、直ちに、尚い迅明フィルムを
塗布m】に密湘積層し、しがる後栃脂が乾燥しない状態
で画像マスクを介して露光し、透明フィルム剥離後未似
化析B’zを除去すること如より基旧」二にレジストi
1L+;jζ、をルlノ>させる方法に関する。
本発明は、感光性樹脂を9ノ、塙1で塗布してC4ちに
露光させる、いわゆる液体タイプのレジスト画像形成法
に、にする。液体タイプに対するものは、いわゆる固体
タイプであり、固体タイプでは感光性樹脂が予めシート
状部林の形で製作されている。両刀のタイプのものは、
それぞれに長所、短所を4するが、液体タイプの場合、
1111明な、高い解像性のパターンか有られるほか、
未露光仙月りの除去処理が右、易であり、し力・も、7
価な感光性極脂の回収、4L)使ハjか川船であるシど
の長りかある。しかし、画像マスクを粒、鹿Q布面に直
接接触させることかできない組ノ欠か、ilノるーこの
短所を飴消させるブζめに、匝昏、マスクと柄月ト塗布
面の山]に号気キャソフをffVけて蕗Tするも・術か
抜糸されている(栂Ljl’i昭57−164595号
公も・)。しかし、このも術では、空シ(キャノプの間
隔D4恥の操作が煩雑で、筒い解像性を壱するパターン
km易に有ることができない。
本発明名らは、液体タイプにおけるil」記のような欠
点を克服すべく仙究した結果、感光性樹脂を氷相に塗布
後直ちに塗布面に拠い透明フィルムを名木、核層し、し
かる後栃&が乾燥しない状態で画像マスクを介して露光
する方法を開発した。すなわち、本発明は下記を特徴と
するレジスト画像の形成法である。
活性光で硬化する液状の感光性樹脂をレジストII!+
1.像展欣用左材の表面に系布し、直ちに、体化保合・
九性枚りと剥離容易な薄い活性光透過性透明フィルムを
4布m1にvJ着枳鳩し、しかるtな、樹脂が乾燥しな
い状態において画像マスクを介して活性光を照射し、透
明フィルムを氷相から剥魁し、非照射部分の未硬化物B
’+、を除去することにより、画像マスクに対応したレ
ジストii!II像を基ね上に形成させる。
本発明にあっては、感光性樹脂の暴利への託漸伯−が良
好でエツチング、メッキ彎に対する面]性か高く、埃負
、か名品でパターンのエツジかル明であり、また、ノ、
・羽の必振剖分にたけ(鉢用蒼−蚕布することができる
ほか、未飯化柾肛の回+17.、再使用も可能で似コス
ト化を遅りメすることかできる。さらに、柾)拍4布後
1らちに透明フィルムを核層するため乾燥工程か不安で
ゴミのiK人も防止でき、壕だ、柄胎φmTffjiに
若干の募布ムラがあってもフィルレム積Rぢ]二枚で」
り一化されるほか、透明フィルムが介在するだめ画像マ
スクを汚すことがない。牛」に、本気間Vこおいて透明
フィルムとして5〜15μInの極めてhいものをイシ
用した場合には、解像性が製膜に向上したパターンを得
ることかてきる。
本発明では感光性& Jibをレジスト画像Jヒ成月J
基栃の表面に塗布する。感光性樹脂は液状のもので粘性
光により化年反応を起し硬化するものである。活惰光は
、t」」視光か・、紫夕)糾、礼子九・。
X線、rffH等であり、一般的に一県外組、電子紐が
工業上適用しやすい。本発明で用いるイタ状の感光性樹
脂は辿′帛10〜400.000 cp、釣ましくは1
00−100.000 cp (g温)の粘#を有する
ものである。
かかる拉」脂全塗布する丞相は、例えはプリント配線基
板の製造を目的とした銅張り積鳥板、導電性の回路形成
を目的とした配線基板等である。導電部分は銅その他の
4亀性金属である。
本発明では、感光性栃脂′th基拐表面に塗布し、向ち
に汽・い活性光透過性透明フィルムを塗布面に鴨湛積島
する。この透勇フィルムは、硬化後の感光性樹脂と剥離
容易なものでなけれはならない。
透明フィルムの相賀は、例えはポリエステルポリエチレ
ン、ポリプロピレン、アセテート、ポリスチレン、ポリ
カーボネート等である。そしてフィルムの厚さは、通常
5〜100 、好ましくは5〜50μm1特に高解像性
の点から5〜15μmであり、表面平滑なもので、場合
によっては易剥離性等の機能を付与した表面処理層を肩
するフィルムであってもよい。
本発明において膜45〜15μmと極めて薄い迅鴫フィ
ルムを使用した場合、1而1づマスク(不カフイルム)
の微細パターンか極めて忠災に刊現され、パターンの解
体性か特級に向」ニする。
感光性樹脂を丞相の表面に像面するには、通常の方法が
逆用でψ多宇−ルコーター、カーテンコーター、ドクタ
ー痔が用いられ、壕だスクリーン印刷、グラビア印刷も
の方法が通用される。本発明にあってに、塗布後に透明
フィルムが靴・元私地されるため、塗布11シルに若干
のムラかあっても稙J九・時にルーみムラの1診正が行
われ、その絶味豚さを一定にすることができる。したか
って、ブラフコーターやティップコーター砧も適用可能
である3、 塗2+i iJ、’、氷相表11+io) 全M+ I
Cワfc −) テaj 批す・付与する仕方と、画1
水形成に必にな音1分にのみ松脂を付与する仕方の二辿
りかあるが、そのどちらでもよい。
冬AIi後、直ちに広間フィルムが槓ルへされる。
塗布と&加とを工程上液わ[させて行ってもよいが、融
龜を一体化してか布と私1=と金Pi−工札で行っても
よい。&hは、ロール状に巻いであるフィルムを引出し
、カットすることなくその壕ま連続的に基ねに&凧・し
てもよく、また、基拐のサイズに応じてフィルムを適当
にカットして核1−シてもよい。
fi hはフィルムをロールバーで押えなから、壕だ空
気等で加圧しながら行うことができる。
積ムに蟲ってはフィルムと樹脂層とのル]に空気か入ら
ないようにする。空気が入ると画像マスクに対応したレ
ジスト画像の形成か妨げられる。
極層後、aI−゛が乾燥しない状態において画体マスク
を介して活性光を照射する。活性光は先述したものか用
いられる。照躬俵・、透明フィルムを基栃から剥離し、
非照射部分の未硬化植刃りを除去する。
未幌化柄11i=の除去には、一般に輌脂を有板溶剤で
俗解除去する方法と、アルカリ性液体で俗解除去する方
法とがある。有板溶剤としては、+14 エは1.]、
 l −トリクロルエタン、キノレン痔、アルカリ性液
体としては炭酸ソーダ水溶液、ケイ酸ソーダ水溶液宿か
徐けられる。征にの防去は、除去液でtA筋か′yL/
i−,に止銅恣れなくても実質上除去されれはよい3.
除去液ね1、(G−ルしたte光性柄脂の種類により適
宜選択されるか、(1す化部分と未硬化部分に対する電
属性の差か大きいものほど有第1−1である。除去には
、水洗方式やθ化体(&体、気体)圧を使った方式を採
用してもよい。
以下、実施例によって本丸間を番明する。実施例中に部
とあるにル卦部を看味する。
実力Ll1秒1゜ カラスエホキシの片面銅貼り稙紛ル(板厚Q、3 mm
 、銅厚0.035關) の銅面に、感光性拉1脂とし
てオレスターXRA−1328(三井東圧化¥′)08
0部、モノサイサーTD −1537A (大[」本イ
ンキ化学工業製) 20 ft1+、九M!合垢感剤ペ
ンゾノエノン3部、熱1合禁止剤ハイドロキノンモノメ
チルエーテル0」部とからなる液状樹脂をロールコータ
−で厚さ40μmK塗イ1】シ、IDちにル・さ125
μmの透明なポリエステルフィルムをローラーを介して
押圧しながら液状樹脂上に密S8=融しラミネートとし
た。しかる後、樹脂が乾燥しない状態で回路パターンを
肩する画像マスク(ネガフィルム)を前記フ゛イルム上
に焼枠中で真空重着させ、3KWの超高圧水銀灯で1m
の距離から露光した。
その後、ポリエステルフィルムを剥離し、クロロセ/で
現像して未露光部の感光性樹脂を除去した。次いで塩化
第2銅溶液で露出した銅面をエツチングし、塩化メチレ
ンて無光硬化した樹脂を除いた。
このようにして作成された銅回路パターンは、使用した
ネガフィルムに極めて忠実なものであり、廟幅100μ
mの勝の拘現住も良好であった。
特許出願人 ンマール工業株式会社 代理人 弁理士 土 居 三 部

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (11活性光で硬化する液状の感光性樹脂をレジスト画
    像彫成用基材の表面に塗布し、直ちに、硬化後の感光性
    樹脂と剥離容易な薄い活性光透過性透明フィルムを塗布
    m+に密鳥積層し、しかる後、樹脂か乾燥しない状態に
    おいて画併マスクを介して活性光を照射し、透明フィル
    ムを基栃から剥離し、非照射部分の未硬化樹脂を除去す
    ることにより、画像マスクに対応したレジスト画像を基
    材上に形成させることを梠徴とするレジスト画像の形成
    法。 (2) 透明フィルムが膜厚5〜15μmである6訂6
    4.求の範囲(1)のレジスト画像の形成法0
JP58209831A 1983-11-10 1983-11-10 レジスト画像の形成法 Pending JPS60102630A (ja)

Priority Applications (1)

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JP58209831A JPS60102630A (ja) 1983-11-10 1983-11-10 レジスト画像の形成法

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JPS60102630A true JPS60102630A (ja) 1985-06-06

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ID=16579333

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7175736B2 (en) * 2000-04-20 2007-02-13 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Laminate for electronic circuit

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7175736B2 (en) * 2000-04-20 2007-02-13 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Laminate for electronic circuit

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