JPS60101722A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記
録媒体の製造方法に関し、その目的とするところは、耐
久性および耐食性に優れた前記の磁気記録媒体の製造方
法を提供することにある。

強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記録媒体は、
通常、金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着等によ
って基体フィルム上に被着してつくられ、高密度記録に
適した特性を有するが、反面磁気ヘッドとの摩擦係数が
大きくて摩耗や損傷を受け易く、また空気中で徐々に酸
化を受けて最大磁束密度などの磁気特性が劣化するなど
の難点がある。

このため、従来から強磁性金属薄膜層上に種々の保護膜
層を設けるなどして耐久性および耐食性を改善すること
が行われており、近年、有機化合物のモノマーガスをプ
ラズマ重合して、有機化合物のプラズマ重合保護膜１偕
を強磁性金属薄膜層上に設けることが提案されている。

ところが、この従来の方法によって得られる有機化合物
のプラズマ重合保護膜層は架橋密度が未だ充分でないた
め、耐久性および耐食性の改善がいまひとつ充分でなく
、特にプラズマ重合時のガス圧を高くしたりして被着速
度を速くすると、比較的低分子量でプラズマ重合され、
架橋密度が低下して硬い保護膜層がｌ？られす、良好な
耐閑耗性が得られないというケ１［点があった。

この発明者らは、かかる現状に鑑み種々検討を行った結
果、まず、強磁、性金属薄膜屓の表面に有機化合物のプ
ラズマ重合保護膜層を形成したのち、このプラズマ重合
保護膜層に放射線を照射すると、プラズマ重合保護膜層
の架橋密度が向上し、比較的硬いプラズマ重合保護膜層
が形成されて耐摩耗性が充分に向上され、耐久性および
耐食性に優れた磁気記録媒体が得られることを見いだし
、この発明をなすに至った。

この発明において、強磁性金属薄膜層上へのプラズマ重
合保護膜層の形成は、処理槽内で、炭化水素系化合物、
フッ素系有機化合物およびケイ素系有機化合物等のモノ
マーガスを、高周波によりプラズマ重合させて、強磁性
金属薄膜層上に被着することによって形成される。この
プラズマ重合保護膜槽を形成するのに使用するモノマー
ガスとしては、たとえば、プロパン、エチレン、プロピ
レンなどの炭化水素系化合物のモノマーガス、Ｃ２Ｆ　
４　＋　Ｃ３Ｆ　６などのフッ素系有機化合物のモノマ
ーガスおよびテトラメチルシラン、オクタメチルシクロ
テトラシロキサン、ヘキサメチルジシラザンなどのケイ
素系有機化合物のモノマーガス等が好ましく使用され、
これらの有機化合物のモノマーガスは、高周波によりラ
ジカルが生成され、この生成されたラジカルが反応し重
合して被膜となる。このラジカルはこれらの有機化合物
が二重結合または三重結合を有しているほど生成しやす
いため、これら不飽和結合を有するものがより好ましく
使用される。またこれらのモノマーガスをプラズマ重合
する際、アルゴンガス、ヘリウムガスおよび酸素ガス等
のキャリアガスを併存させると七ツマーガスを単独でプ
ラズマ重合する場合に比べて３〜５倍の速度で被着され
るため、これらのキャリアガスを併存させて行うのが好
ましい。これらのキャリアガスと併存させる際、その組
成割合はキャリアガス対前記有機化合物のモノマーガス
の比にしてｌ対１〜２０対１の範囲内で併存させるのが
好ましく、キャリアガスが少なずぎると被着速度が低下
し、多すぎるとモノマーガスが少なくなってプラズマ重
合反応に支障をきたす。なお、炭化水素系化合物の七ツ
マーガスを使用するときは、酸素ガスをキャリアガスと
して使用すると酸化反応が生じるため、酸素ガスをキャ
リアガスとして使用するのは好ましくない。

プラズマ重合を行う場合のガス圧および高周波の電力は
、ガス圧が高くなるほど被着速度が速くなる反面モノマ
ーガスが比較的低分子量でプラズマ重合されて硬い保護
膜層が得られず、またガス圧を低くして高周波電力を高
くすると被着速度が遅くなる反面高分子化された比較的
硬い保護１％Ｊｔｊが得られるが、ガス圧を低くして高
周波電力を高くしすぎると、モノマーガスが粉末化して
しまいプラズマ重合保護膜層が形成されないため、ガス
圧を０．０３〜５トールの範囲内とし、平方センナあた
りの高周波電力を０．０３〜Ｉ　Ｗ／ａｆｌの範囲内と
するのが好ましく、ガス圧を０．０５〜１トールとし、
平方センチあたりの高周波電力を０．０５〜０．３　Ｗ
／−の範囲内とするのがより好ましい。このようにして
プラズマ重合によって被着形成される有機化合物のプラ
ズマ重合保護膜層は緻密で摩擦係数も小さく、従ってこ
の有機化合′物のプラズマ重合保護膜層が形成されると
耐摩耗性および耐食性が一段と向上する。このような有
機化合物のプラズマ重合保護膜層の膜１ｖは、２０〜１
０００人の範囲内であることが好ましく　、ＩＩＱ厚が
薄ずぎるとこの保護膜層による耐久性および耐食性の効
果が充分に発揮されず、厚ずぎるとスペーシングロスが
大きくなりすぎて電磁変換特性に悪影響を及ばず。

このようにして形成されたプラズマ重合保護１１Ｍ層の
架橋密度を向上させ、プラズマ重合保護膜層を硬化させ
るに際して使用される放射線としては、電子線、Ｘ線、
α線、β線、Ｔ線および中性子線などがいずれも好適に
使用される。このような放射線は吸収線量が１〜１０Ｍ
ｒａｄとなるように照射するのが好ましく、吸収線量が
少なすぎると前記プラズマ重合保護膜層の架橋結合が不
充分で充分に硬化されず、所期の効果が得られない。

強磁性金属薄膜ＩＨの形成材料としては、Ｃｏ、Ｆｅ、
Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｐ合金
、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ合金などの強磁性材が使用され、これ
らの強磁性材からなる強磁性金属薄膜層は、真空蒸着、
イオンブレーティング、スパフタリング、メッキ等の手
段によって基体上に被着形成される。

また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板およ
びガラス板等からなる円盤やドラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと摺接する構造の
種々の形態を包含する。

次に、この発明の実施例について説明する。

実施例１ 厚さ１０μのポリエステルフィルムを真空蒸着装置に装
填し、１×１０“５トールの真空下でコバルトを加熱蒸
発させてポリエステルフィルム上に厚さ１０００人のコ
バルトからなる強磁性金属薄膜層を形成した。次いで、
第１図に示すプラズマ処理装置を使用し、強磁性金属薄
膜層を形成したポリエステルフィルム１を処理槽２内の
上部に配設した基板３の下面にセットし、処理槽２に取
りつけたガス導入管４からテトラフルオロエチレンの七
ツマーガスを２５０ｓｅｃｍの流量で導入し、ガス圧を
０．１５トールとして電極５で１３．５６Ｍ１ｌＺの高
周波を１００Ｗで印加して３０秒間プラズマ重合を行い
プラズマ重合保護膜層を形成した。次いで、このプラズ
マ重合保護ＩＩ９層に電子線照射装置を用い、加速電圧
１５０ＫＶ、１．５　ＭｅＶ、　０．６ｍＡの電子線を
吸収線量が２〜３Ｍｒａｄとなるように２秒間照射して
硬化した。このときのプラズマ重合保護膜層の層厚は１
５０人であった。しかる後、所定の１１に裁断して第２
図に示すようなポリエステルフィルム１上に強磁性金属
薄膜層８、プラズマ重合保護膜層９を順次に積層形成し
た磁気テープＡをつくった。なお、図中６は処理槽２内
を減圧するだめの排気系であり、７は電極５に高周波を
印加するための高周波電源である。

実施例２ 実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、テトラフルオロエチレンのモノマーガスに代えて、ヘ
キサフルオロプロパンのモノマーガスを２３０ｓｅｃｍ
の流量で導入してガス圧を０．１３トールとし、印加す
る高周波を１００Ｗから８０Ｗに変更した以外は実施例
Ｉと同様にしてプラズマ重合保護膜層を形成し、磁気テ
ープをつくった。このときのプラズマ重合保護膜層の層
厚は１６０人であった。

実施例３ 実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、テトラフルオロエチレンのモノマーガスに代えて、テ
トラメチルシランのモノマーガスを２５０　ｓｅｃｍの
流量で導入してガス圧を０．１５　トールとし、印加す
る高周波をｉｏｏｗから１２０Ｗに変更した以外は実施
例１と同様にしてプラズマ重合保護膜層を形成し、磁気
テープをつくった。

このときのプラズマ重合保護膜層の層厚は１５０人であ
った。

実施例４ 実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、テトラフルオロエチレンの七ツマーガスに代えて、プ
ロパンのモノマーガスを２５０ｓｅｃｍの流量で導入し
てガス圧を０．１５）−ルとし、印加する高周波を１０
０Ｗから８０Ｗに変更した以外は実施例１と同様にして
プラズマ重合保護膜層を形成し、磁気テープをつくった
。このときのプラズマ重合保護膜層の層厚は１５０人で
あった。

比較例１ 実施例１において、プラズマ重合保護膜層の電子線照射
を省いた以外は実施例１と同様にして磁気テープをつく
った。

比較例２ 実施例２において、プラズマ重合保護ＮＱ層の電子線照
射を省いた以外は実施例２と同様にして磁気テープをつ
くった。

比較例３ 実施例３において、プラズマ重合保護膜層の電子線照射
を省いた以外は実施例３と同様にして磁気テープをつく
った。

比較例４ 実施例４において、プラズマ重合保護膜層の電子線照射
を省いた以外は実施例４と同様にして磁気テープをつく
った。

比較例５ 実施例１において、プラズマ重合保護膜層の形成および
プラズマ重合保護膜層の電子線照射を省いた以外は実施
例１と同様にして磁気テープをつ（った。

各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
摩擦係数を測定し、耐久性および耐食性を試験した。耐
久性試験は摺動試験機を用いて得られた磁気テープを摺
動試験し、強磁性金属薄膜層表面に傷がつくまでの摺動
回数を測定して行った。また耐食性試験は得られた磁気
テープを６０℃、９０％ＲＨの条件下に７日間放置して
最大磁束密度を測定し、放置前の磁気テープの最大磁束
密度を１００％とし、これと比較した値でその劣化率を
調べて行った。

下表はその結果である。

上表から明らかなように、この発明で得られた磁気テー
プ（実施例１ないし４）は、いずれも比較例１ないし５
で得られた磁気テープに比し、摩擦係数が小さく、また
摺動回数が多くて、劣化率が小さく、このことからこの
発明の製造方法によれば、プラズマ重合保護膜層が放射
線の照射によって硬化された結果、耐久性および耐食性
が一段と向上された磁気記録媒体が得られることがわか
る。

【図面の簡単な説明】

第１図はプラズマ重合保護膜層を形成する際に使用する
プラズマ処理装置の１例を示す概略断面図、第２図はこ
の発明の製造方法によって得られた磁気テープの部分拡
大断面図である。 ｌ・・・ポリエステルフィルム（基体）、８・・・強磁
性金属薄膜層、９・・・プラズマ重合保護膜層、Ａ・・
・磁気テープ（磁気記録媒体） 特許出願人　日立マクセル株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、基体上に金属もしくはそれらの合金からなる強磁性
   金属薄膜層を形成し、この強磁性金属薄膜層上に有機化
   合物のプラズマ重合保護膜層を形成したのち、このプラ
   ズマ重合保護膜層に放射線を照射することを特徴とする
   磁気記録媒体の製造方法