JPS60100582A - 3,9−ジメチレン−1,5,7,11−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカンの製造方法 - Google Patents

3,9−ジメチレン−1,5,7,11−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカンの製造方法

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JPS60100582A
JPS60100582A JP58208401A JP20840183A JPS60100582A JP S60100582 A JPS60100582 A JP S60100582A JP 58208401 A JP58208401 A JP 58208401A JP 20840183 A JP20840183 A JP 20840183A JP S60100582 A JPS60100582 A JP S60100582A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
reaction
formula
methylene
tetraoxaspiro
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58208401A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirokane Taguchi
裕務 田口
Kiyokazu Mizutani
水谷 清和
Hitoshi Kato
仁 加藤
Yoshihisa Ogasawara
小笠原 誉久
Takeshi Endo
剛 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toagosei Co Ltd
Original Assignee
Toagosei Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toagosei Co Ltd filed Critical Toagosei Co Ltd
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Publication of JPS60100582A publication Critical patent/JPS60100582A/ja
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、上記の式〔1〕で示されるオルト炭酸エステ
ル(以下化合物〔1〕と称する)と、上記の式(2)で
示される2−メチレン−1,3−7”ロパンジオールC
以下化合物〔2〕と称する)とのエステル交換反応を利
用して、上記の式〔6〕で示される3、9−ジメチレン
−1,5,7,11−テトラオキサスピロ(5,5)ウ
ンデカン(以下化合物〔3〕と称する)を製造する方法
に関するものである。化合物〔3〕は既知であるが、そ
の製造方法としては、 Journal of polymer 19cien
ce、 polymer C11emiC11e函1t
ion、 13. 2525(1975)に記載されて
いるように、モロ−ブチルスズ環状2−メチレン−1,
3−プロパンジオキシドを二硫化炭素と反応させる方法
が知られているにすぎない。この製法を反応式で示すと
以下のようである。
この従来法は上記のとおり、一般的工朶製品としては非
常に高価な有機スズ化合物と、毒性が高く取扱いが困難
な二硫化炭素を原料としており、反応工程が複雑である
ことに加えて、目的物の分離取得も非常に困難であるた
めに、種々の問題点を有しており、化合物〔3〕の工業
的製法としては現実性に乏しいものである。
本発明者らは化合物〔5〕のより有利な製法にっいて種
々検討した結果、取扱いが容易なオルソ炭酸エステルと
化合物〔2〕を反応させることによって、一段反応で極
めて容易に化合物〔6〕を製造できることを見出し、本
発明に到達した。
本発明方法な反応式で示せば次のごとくであり。
オルソ炭酸エステルと化合物〔2〕との反応では各種の
化合物を生成する可能性があるにもかかわらず、実際に
は化合物〔3〕を非常に効率良く形成することが明らか
になったのである。
+4I(、OH この反応式において、Rは直鎖のまたは分校状の低級ア
ルキル基好ましくは炭素数1〜5の低級アルキル基であ
る。
本発明方法において原料とされる化合物〔1〕(C+O
R)、) としては、そのアルキル基Rが大きくなるに
伴ない、反応により生成するアルコール(R−OH)の
沸点が高くなり、反応系外への除去がより困難になるた
め、アルキル基几が炭素数1〜5のオルソ炭酸エステル
を用いるのカ最モ適切である。その具体例としてはテト
ラメチルオルツカ−ボネート、テトラエチルオルソカー
ボネート、テトラ−n−プロピルオルソカーボネート、
テトラ−n−ブチルオルソカーボネート、テトラ−1s
o−プチルオルンカーボネ−1・、テトラ−n−ベンチ
ルオルソカーボネートなどがあげられる。
また、もう一方の原料である化合物〔2〕は2一本発明
を行なうにあたり、原料である化合物r1)及び化合物
〔2〕は出来るだけ乾燥したものを使用するのが良く、
又化合物〔2〕は化合物(1)(1モル)に対し理論1
’J:(2モル)又は理論;11°よりやや少なめに用
いるのが好適である。反応系における溶媒の存否は本質
的なものではないが、溶媒を使用する方が反応を円滑に
行なうことが出来る場合がある。使用できる溶媒として
は、本反応に不活性であれば特に制限されず例えば、4
 トルエン、キシレン、ジ−n−ブチルフタレート、ジ
−n−オクチルフタレート等が用いられる。
反応は触媒たとえばP−トルエンスルホン酸あるいは硫
酸のごとき触媒の存在下に、また所望により上記のよう
な溶媒を使用して、加温状態で行なうことが望ましい。
触婬の使用量は原料化合物に対して一般に0.001〜
5wt%で足り、また反応温度は通常50〜180℃が
適当である。反応温度が低すぎると反応速度が遅く、一
方高温にすぎると生成物の分解が起こり好ましくない。
本発明方法は既述したように脱アルコール反応を利用す
るものであり、生成するアルコールは系外に留出させる
のが一般的である。反応の進行の。
程度は留出アルコール量を計測することによって知るこ
とができる他、反応液を例えば、液体クロマトグラフィ
で分析することによっても知ることができる。
生成した化合物〔3〕は、通常酸触媒を塩基性物質で中
和した後、昇華法あるいは再結晶法罠よって反応生成液
から分離すればよい。
本発明によれば、取扱いが極めて容易な原料かることが
可節である。
次に本発明方法を実施例によってさらに詳細に説明する
実施例 冷却器、攪拌機、及びチッ素吹込み口管付きの3つロフ
ラスコに、化合物[’1](テトラメチルオルンカーボ
ネート)1.899 (0,0139moe)、化合4
/+[2) (2−メチレン−1,6−プロパンジオ−
/’ ) 2.201 (0,025mor)、1)−
1−nyx ンスルホン酸0.013211 (6,9
5X 10−’ moe ’)及びキシレン10 m 
eを仕込み、チノ素ス流中で110℃で5時間反応させ
た。反応終了後、トリエチルアミン0.02511I 
lを添加し触媒を中和したのち、減圧下で脱醇剤を行フ
、【い固体の残渣をに’Jた。この残渣について【1−
ヘキサノを/[いて再結晶操作を行ない、収率56%(
化合物〔2〕を基牟として算出)で無色針状結晶を得た
1、この結晶は融点、NMFLC核磁気共鳴)スペクト
ル、■几(赤外線吸収)スペクトルにより、化合物〔3
〕(3,9−ジメチレン−1,5,7,11−テトラオ
キサスピロ(S、S)ウンデカン)と同定された。
0融 点 84.5〜86.0℃ (前出文献値82℃
) oNM几;(第1図参照) δ(ppm ) 4.50 (8H(S)、4−CH20−)4.95 
(4H(s)、2CH,、=)OIR;(第2図参照) 104W、 1225cm ’ (C−0−C)
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例で得た化合物(”5)(3,9−ジメチ
レン−1,5,7,11−テトラオキサスピロ(−5,
5)ウンデカン)のNMRスペクトル図であり、第2図
は同化合物のIRスペクトル図である。 特許出願人の名称 第1頁の続き [相]発明者 小笠原 誉久 0発 明 者 遠 藤 剛 黄浜市旭区さちが丘143−13

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 下式〔1〕で示されるオルト炭酸エステルと下式
    〔2〕で示される2−メチレン−1,3−プロパンジオ
    ールとを反応させることを特徴とする下式〔6〕で示さ
    れる3、9−ジメチレン−1,5,7,11−テトラオ
    キサスピロ(5,5)ウンデカンの製造方法。 C(−OR,)、 〔1) に\でRは低級アルキル基を示す。)
JP58208401A 1983-11-08 1983-11-08 3,9−ジメチレン−1,5,7,11−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカンの製造方法 Pending JPS60100582A (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5810582A (ja) * 1981-07-09 1983-01-21 Toagosei Chem Ind Co Ltd スピロオルトカ−ボネ−トの製造法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5810582A (ja) * 1981-07-09 1983-01-21 Toagosei Chem Ind Co Ltd スピロオルトカ−ボネ−トの製造法

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