JPS599501B2 - ガラスの潜傷除去方法 - Google Patents

ガラスの潜傷除去方法

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JPS599501B2
JPS599501B2 JP15926378A JP15926378A JPS599501B2 JP S599501 B2 JPS599501 B2 JP S599501B2 JP 15926378 A JP15926378 A JP 15926378A JP 15926378 A JP15926378 A JP 15926378A JP S599501 B2 JPS599501 B2 JP S599501B2
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JP
Japan
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glass
scratches
latent
treatment
inert gas
Prior art date
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Expired
Application number
JP15926378A
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English (en)
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JPS5590439A (en
Inventor
啓二 小林
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
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  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はガラスの6陽を除去する方法に関する。
周知のようにガラス製品の表面には、肉眼で確認し得な
いグリフイスの陽が多数存在している。
しかしてこの微細な陽はガラス製品にエッチング処理を
施すことにより除去しうるがグリフイス傷の先端に内在
する潜傷までは除去し得ない。
ところで上記潜陽と云う極めて微細な陽はガラスの疲労
現象に悪影響を与える。
例えば眼鏡レンズ、時計カバーガラス、キセノンランプ
のバルブガラスガラスビンなどにおいて、弗硫酸液など
を用いエッチング処理を施し、表面の島を除去乃至低減
して初期強度の向上を図っている。
しかしながらこれらガラス製品を放置しておくと静的疲
労によって強度劣化がみられる。
特に耐水性が充分でない光学ガラスや屋外電球用バルブ
などにおいては上記静的疲労が大きく、所要の機械的強
度を保持し得す、結局製品の寿命低下をもたらす。
尚このガラス疲労現象は詳しく解明されていないがガラ
ス中のアルカリイオンと空気中の水分のプロトン(H)
とのイオン交換が進み上気微細な傷の先端がさらに伸び
ることによるものと考えられる。
本発明者はこのような点に対処して検討を進めた結果、
ガラスについてエッチング処理を施しグリフイスの傷を
除去した後、加熱しその加熱状態のままもしくは冷却し
てからキヤノン(Xe)、窒素(N2)、クリプトン(
Kr)などの不活性ガスを接触させる前もしくは後の少
なくともいすれかの段階で排気処理を施すと、上気静的
疲労現象を更に容易に防止しうろことを見出した。
本発明は上記、知見に基づき、簡単な操作でガラス製品
の表面潜傷を除去乃至低減しうる方法を提供するもので
ある。
即ち本発明はガラスをエッチング処理した後、加熱しそ
のままもしくは冷却後不活性ガスに接触させる前もしく
は後の少なくともいずれかの段階で排気処理を施すこと
を特徴とするガラスの潜陽除去方法であり一般に次の如
く行なわれる。
先ず所定のガラス製品を用意し、そのガラス製品につい
てエッチング処理を施す。
この場合用いつるエッチング液としては例えば10%弗
化水素−10%硫酸水溶液、10%弗化アンモン水溶液
、10%弗化アンモン−10%りん酸水溶液などが挙げ
られる。
上記エッチング処理後ガラス製品を加熱しその加熱時乃
至加熱に引続きもしくは冷却してから不活性ガスに接触
させる前もしくは後に排気処理を施す。
この場合の加熱温度および加熱時間はガラスの種類など
によって適宜選択することは勿論である。
また上記加熱したガラス製品に接触させる不活性ガスと
しては例えばキセノン(Xe)アルゴン(Ar )クリ
プトン(Kr)、窒素(N2)などが挙げられ、これら
不活性ガスの接触時間は一般に0.5〜24時間程度で
よい。
尚この不活性ガスの接触はガラス品が加熱されている状
態、高温を末だ維持されている状態程潜陽除去(低減)
効果が太きい。
また高温に於で排気すると更にa傷除去−5 効果が大きくこの排気処理時の真空度は約10m711
Hgでよい。
しかしてこの排気処理によって被処理ガラス品の疲労は
容易に防止されるが、その理由は排気処理によりガラス
中に化学結合していたOH基が除去されa傷の伸びが抑
制されるためと考えられる。
次に本発明の具体例を記載する。
先ず表一1に示すガラス組成のソーダ石灰ガラスホウケ
イ酸ガラスおよび石英ガラスからなる直径3m1nのガ
ラス俸をそれぞれ用意した。
次いで直径1間のオリフイスロを介して高さ50mmの
位置から100メッシュ通過の炭化けい素粉末10gを
それぞれ前記ガラス棒に落下させて表面に深さ約10数
μの傷を生ぜしめた。
かくして潜傷を生ぜしめたガラス棒のうち一部について
、表−2、表−3、表−4にそれぞれ示す条件でエッチ
ング処理、加熱、1.5気圧の不活性ガスとの接触、排
気処理もしくは排気処理後、不活性ガスとの接触を順次
行なった。
尚表2〜4中傷の太きさは潜陽除去処理後顕微鏡で陽の
大きさを見た場合である。
上記a隅除去処理を施したガラス棒および処理を施さな
かったガラス棒に対し水中で10ky/iの応力をそれ
ぞれ加え破壊に至るまでの期間(月または日)をそれぞ
れ求めた(静的疲労試験)。
上記潜陽除去処理を施したガラス棒の場合には表一2〜
4に示した如<1.5月乃至5ケ月の静的疲労特性を示
したのに潜傷除去処理を施さなかった場合はいすれも静
的疲労は1週間以内であった。
また処理後のガラスの傷の大きさは1〜5μであった。
上記具体例から明らかなように本発明方法によればグリ
フイスの陽など容易に除去あるいは減少させることがで
き、もってこれら潜傷に起因するガラス製品の破損、機
械的劣化などを防止しうる。
このガラス製品の長寿命化は上記処理方法の簡易さと相
俟って多くの利点をもたらすものと云える。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ガラスをエッチング処理した後、加熱しそのままも
    しくは冷却後不活性ガスに接触させる前もしくは後の少
    なくともいすれかの段階で排気処理を施すことを特徴と
    するガラスのa傷除去方法。
JP15926378A 1978-12-26 1978-12-26 ガラスの潜傷除去方法 Expired JPS599501B2 (ja)

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JPS5590439A JPS5590439A (en) 1980-07-09
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JP2004091291A (ja) * 2002-09-03 2004-03-25 Seiko Epson Corp ガラス板、電気光学パネル用のガラス基板、電気光学パネル、ガラス板の製造方法、電気光学パネル用のガラス基板の製造方法、電気光学パネルの製造方法及び電子機器
JP2011170092A (ja) * 2010-02-18 2011-09-01 Fujifilm Corp 光学素子及び光学素子製造方法
US9034442B2 (en) 2012-11-30 2015-05-19 Corning Incorporated Strengthened borosilicate glass containers with improved damage tolerance
MX2017002898A (es) 2014-09-05 2017-10-11 Corning Inc Artículos de vidrio y métodos para mejorar la confiabilidad de artículos de vidrio.

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