JPS5990627A - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置Info
- Publication number
- JPS5990627A JPS5990627A JP19769482A JP19769482A JPS5990627A JP S5990627 A JPS5990627 A JP S5990627A JP 19769482 A JP19769482 A JP 19769482A JP 19769482 A JP19769482 A JP 19769482A JP S5990627 A JPS5990627 A JP S5990627A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- drum
- electrode
- plasma
- cylindrical electrode
- plasma treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプラズマ処理装置、さらに詳細に言えば、低温
プラズマ処理装置に関するものである。
プラズマ処理装置に関するものである。
近年、プラズマを利用しての、プラスチック。
あるいは繊維の表面改質の研究が盛んに行なわれている
。そして「低温プラズマ化学」 （穂積啓一部編、南江
堂出版、１９７６年発行）には、プラズマの物理的、化
学的な現象、処理方法、装置などとともに、これらの現
実的な応用の可能性についても示唆されている。
。そして「低温プラズマ化学」 （穂積啓一部編、南江
堂出版、１９７６年発行）には、プラズマの物理的、化
学的な現象、処理方法、装置などとともに、これらの現
実的な応用の可能性についても示唆されている。
しかし、かかる従来のプラズマ処理装置は、処理効率が
悪く、処理に長時間を要し、まだ、処理費用がかかるな
どの欠点があった。
悪く、処理に長時間を要し、まだ、処理費用がかかるな
どの欠点があった。
本発明の目的は、上記欠点を解消したもの、すなわち、
プラスチックフィルムや繊維布なとの長尺で、かつ広い
幅の基材を効率よく連続的にプラズマ処理する装置を提
供するものである。
プラスチックフィルムや繊維布なとの長尺で、かつ広い
幅の基材を効率よく連続的にプラズマ処理する装置を提
供するものである。
本発明は、上記目的を達成するン穎め次の構成。
すなわちドラムと、該ドラムの外側に設けた棒壕だは円
筒状電極と、磁石とを具備し、該磁石を磁石によって作
られる磁力線が棒１／ζは円筒状電極とドラムの間を通
る位置で、かつ該磁力線が棒または円筒状電極（以下、
単に円筒状電極という）とドラムの雨中心線を含む面に
対し４５°〜９０’となる位置に配（６″、したプラズ
マ処理装置を特徴とするものである。
筒状電極と、磁石とを具備し、該磁石を磁石によって作
られる磁力線が棒１／ζは円筒状電極とドラムの間を通
る位置で、かつ該磁力線が棒または円筒状電極（以下、
単に円筒状電極という）とドラムの雨中心線を含む面に
対し４５°〜９０’となる位置に配（６″、したプラズ
マ処理装置を特徴とするものである。
以下１図面に基づいて本発明の一実施態様を説明する。
第１図は本発明のプラズマ処理装置の概略の断面図、第
２〜第４図は本発明のプラズマ処理装置の要部を示す断
面図である。
２〜第４図は本発明のプラズマ処理装置の要部を示す断
面図である。
図において、１はプラズマ処Ｊｆｕ装置、２け外箱。
６は被処理基材、４，５は気密Ｉｆツク部、６ｉｌ″ｉ
円筒状電極、７は被処理基材を移送し、かつ円筒状円筒
状電極の中心線、１２は磁石８によって作られる磁力線
である。
円筒状電極、７は被処理基材を移送し、かつ円筒状円筒
状電極の中心線、１２は磁石８によって作られる磁力線
である。
第１図について説明すると、プラズマ処理装置１内は、
真空系、処理ガス供給系に接続されて。
真空系、処理ガス供給系に接続されて。
その装置１内はプラズマ処理に必要な条件に＆（ｎ持さ
れている。′！ｆ、た。プラスチックフィルｌ５．繊維
布などの被処理基材３は、気密Ｉ］ツク部４から気密を
保持した状態で導入され、“、さらにトラｌ、７によっ
て移送されながら１円筒状電極６とドラム７との間に印
加された高電圧によって開始、持続し磁石８によってさ
らに活成化された放電、いわゆるプラズマ９０群によっ
て次々と連続的に処理され、気密ロック部５から装置１
の外へ取り出される。なお、第１図において真空系、処
理ガス供給系１円筒状電極６およびドラム７に電圧を印
加するだめの配線と電源装置１円筒状電極６やドラム７
や磁石８などの冷却系ならびにドラム７の駆動系に１図
示省略した。
れている。′！ｆ、た。プラスチックフィルｌ５．繊維
布などの被処理基材３は、気密Ｉ］ツク部４から気密を
保持した状態で導入され、“、さらにトラｌ、７によっ
て移送されながら１円筒状電極６とドラム７との間に印
加された高電圧によって開始、持続し磁石８によってさ
らに活成化された放電、いわゆるプラズマ９０群によっ
て次々と連続的に処理され、気密ロック部５から装置１
の外へ取り出される。なお、第１図において真空系、処
理ガス供給系１円筒状電極６およびドラム７に電圧を印
加するだめの配線と電源装置１円筒状電極６やドラム７
や磁石８などの冷却系ならびにドラム７の駆動系に１図
示省略した。
円筒状電極６は金属の棒状才たは円筒状（多角１１ニ状
のものを含む）のものであれはよい。また。
のものを含む）のものであれはよい。また。
その電極は、外側が誘電体１例えばガラス、ホーロー、
セラミックなどで被覆されたもの、さらには、電極内部
に水、空気、フレオンなどの冷媒を流通せしめ、該電極
がプラズマ発生時に温度上昇するのを防ぐ構造であって
もよい。また９円筒状電極６の径は対向するドラム７の
径にくらべ小さいことが望ましく、このように両電極の
径が異なり、非対称であることが放電を効率よく、かつ
均一に開始、持続させ、放電を効率的に行なわせしめる
うえで好ましい。
セラミックなどで被覆されたもの、さらには、電極内部
に水、空気、フレオンなどの冷媒を流通せしめ、該電極
がプラズマ発生時に温度上昇するのを防ぐ構造であって
もよい。また９円筒状電極６の径は対向するドラム７の
径にくらべ小さいことが望ましく、このように両電極の
径が異なり、非対称であることが放電を効率よく、かつ
均一に開始、持続させ、放電を効率的に行なわせしめる
うえで好ましい。
ドラム７は１通常、金属であることが好ましいが、その
一部あるいは全ての表面を誘電体などで被覆したもので
あってもよい。丑だ、プラズマ発生時に温度」二昇する
ことを防ぐため、内部に冷媒を通す構造であるのが留置
（７い。このドラム７は。
一部あるいは全ての表面を誘電体などで被覆したもので
あってもよい。丑だ、プラズマ発生時に温度」二昇する
ことを防ぐため、内部に冷媒を通す構造であるのが留置
（７い。このドラム７は。
被処理基材３を移送する役割を果たすととも・に。
円間状電極乙の対向電極となっており、該両電極間（６
および７の間）に印加された高電ｊ正によって、該両電
極間にプラズマを発生せしめる。
および７の間）に印加された高電ｊ正によって、該両電
極間にプラズマを発生せしめる。
円筒状電極６とドラム７はほぼ平行に配置されており１
両電極間の間隔は可変できるのが望寸しい。
両電極間の間隔は可変できるのが望寸しい。
円筒状電極６とドラム７との電源との接続方法は特に限
定されるものではないが、ドラム７を接地電極とする方
が望寸しい。
定されるものではないが、ドラム７を接地電極とする方
が望寸しい。
磁石８は、永久磁石あるいは電磁石のいずれであっても
よく、その磁石全体が包まれ、キュリ一点以下に冷却さ
れるのが望ましい。また、形状はラム７の両表面の中間
において磁場の強さが一定となる形状であればよい。な
お、この中間の磁場の強さ、すなわち磁束密度は、１０
０〜５０００ガウス、好ましくは２００〜６０００ガウ
スが望ましい。
よく、その磁石全体が包まれ、キュリ一点以下に冷却さ
れるのが望ましい。また、形状はラム７の両表面の中間
において磁場の強さが一定となる形状であればよい。な
お、この中間の磁場の強さ、すなわち磁束密度は、１０
０〜５０００ガウス、好ましくは２００〜６０００ガウ
スが望ましい。
磁石８を設ける個所は１円筒状電極６の近傍１極６とド
ラノ、７の雨中心線を含む面内で、かつ円筒状電極６と
ドラム７の両表面の中間において。
ラノ、７の雨中心線を含む面内で、かつ円筒状電極６と
ドラム７の両表面の中間において。
その面に対し４５°〜９０°、好ましくば７０’〜９０
゜となる位置が留置しい。
゜となる位置が留置しい。
第１図では凹形の磁石を例示しているが、前述の構成配
置条件を満たすものであれば第２図のごとく、複数の棒
磁石８の組合せによる磁石配列を具備してもよく、丑だ
第６図のごとくドラムＺ内に磁石を設けてもよい。
置条件を満たすものであれば第２図のごとく、複数の棒
磁石８の組合せによる磁石配列を具備してもよく、丑だ
第６図のごとくドラムＺ内に磁石を設けてもよい。
々お９本発明のプラズマ処理装置は１図示した装置に限
定されるもので（寸ない。
定されるもので（寸ない。
以下実施例にて本発明の一実施態様を説明する。
実施例
第１図のごとき装置において内部を水冷した直径６１冊
の銅製の円筒状電極６とステンレス製のドラム７の表面
間の距離を５ｍに設定した。磁石８を第１図のとどく２
円筒状電極６とドラム７の両中心７む面内で、かつ円筒
状電極６とドラム７の両表面の中間における磁束密度が
６００ガウスになるよう配置した。該装置でポリエチレ
ンテ１／フタレート繊維布をプラズマによる減量加工処
理［７）乙ところ、同一の減量を行なうに９本発明のご
とく磁石をイ・］加した装置では、磁石を伺加しない装
置にくらべ４倍の処理速度で処理することができた。な
お磁石８を円筒状電極６の中心線を軸にして回転し９円
筒状電極６とドラム７０両中心線を含む面に対する磁力
線の交わる角度を９０°から５０ に変更した。この装
置による処理は、処理の速度が極端に低下した。
の銅製の円筒状電極６とステンレス製のドラム７の表面
間の距離を５ｍに設定した。磁石８を第１図のとどく２
円筒状電極６とドラム７の両中心７む面内で、かつ円筒
状電極６とドラム７の両表面の中間における磁束密度が
６００ガウスになるよう配置した。該装置でポリエチレ
ンテ１／フタレート繊維布をプラズマによる減量加工処
理［７）乙ところ、同一の減量を行なうに９本発明のご
とく磁石をイ・］加した装置では、磁石を伺加しない装
置にくらべ４倍の処理速度で処理することができた。な
お磁石８を円筒状電極６の中心線を軸にして回転し９円
筒状電極６とドラム７０両中心線を含む面に対する磁力
線の交わる角度を９０°から５０ に変更した。この装
置による処理は、処理の速度が極端に低下した。
第１図〜第６図は９本発明のプラズマ処理装置の要部断
面図である。 １：プラズマ処理装置 ２：夕（箱 ろ：被処理基材 ４，５：気密ロック部６：円筒
状電極 ７：ドラム ８：磁石 ９：生成プラズマ１０：Ｉ−ラ
ムの中心線 １′ｌ：円Ｔ：゛：）状電極の中心線 １２：磁力線 ！１γＴｈｌ出願人 東し株式会社 手 続 補 正 書 ５８．１ｔ２５ 昭和 イ［月 日 特許庁長官 若杉和夫殿 ′１．１仕事表示 昭和５７年’ｔＬｉＴ［＋第１９７６９４８２、発明の
名称 ブラズ７処理装置 ３、補正をする者 事（’ｌどの関係 特許出願人 住所 東京都中央区日本橋室町２’Ｊ−ｒ”１２番地
４、補正命令の日イ；１ 自ブと ５、補正により増加する発明の数 なし ６、補正の対象 明１銅の［発明の詳細な説明 ７、補正の内容 （１） 明細書 第４頁１４行〜１５行［ｌ［ことが放
電を効率よく・・・・・・・・・・・・行なわけし」を
［ことが放電を均一に開始、持続さ１！、かつ効率的に
｛１なわけし」ど補正づる。
面図である。 １：プラズマ処理装置 ２：夕（箱 ろ：被処理基材 ４，５：気密ロック部６：円筒
状電極 ７：ドラム ８：磁石 ９：生成プラズマ１０：Ｉ−ラ
ムの中心線 １′ｌ：円Ｔ：゛：）状電極の中心線 １２：磁力線 ！１γＴｈｌ出願人 東し株式会社 手 続 補 正 書 ５８．１ｔ２５ 昭和 イ［月 日 特許庁長官 若杉和夫殿 ′１．１仕事表示 昭和５７年’ｔＬｉＴ［＋第１９７６９４８２、発明の
名称 ブラズ７処理装置 ３、補正をする者 事（’ｌどの関係 特許出願人 住所 東京都中央区日本橋室町２’Ｊ−ｒ”１２番地
４、補正命令の日イ；１ 自ブと ５、補正により増加する発明の数 なし ６、補正の対象 明１銅の［発明の詳細な説明 ７、補正の内容 （１） 明細書 第４頁１４行〜１５行［ｌ［ことが放
電を効率よく・・・・・・・・・・・・行なわけし」を
［ことが放電を均一に開始、持続さ１！、かつ効率的に
｛１なわけし」ど補正づる。
Claims (1)
- （１） ドラムと、該ドラムの外側に設けた捧または
円筒状電極と、磁石とを具備し、該磁石を磁石によって
作られる磁力線が棒または円筒状電極とドラムの間を通
る位置で、かつ該磁力線が棒まだは円筒状電極とドラム
の雨中心線を含む面に対し４５°〜９０° となる位置
に配置したプラズマ処理装置０
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19769482A JPS5990627A (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19769482A JPS5990627A (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | プラズマ処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5990627A true JPS5990627A (ja) | 1984-05-25 |
Family
ID=16378795
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19769482A Pending JPS5990627A (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5990627A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2175047B1 (en) * | 2008-10-09 | 2017-02-08 | Bobst Manchester Ltd | Apparatus for plasma treating substrates and method |
-
1982
- 1982-11-12 JP JP19769482A patent/JPS5990627A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2175047B1 (en) * | 2008-10-09 | 2017-02-08 | Bobst Manchester Ltd | Apparatus for plasma treating substrates and method |
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