JPS5988302A - 一体式の塩酸溶液合成装置 - Google Patents
一体式の塩酸溶液合成装置Info
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- JPS5988302A JPS5988302A JP15090183A JP15090183A JPS5988302A JP S5988302 A JPS5988302 A JP S5988302A JP 15090183 A JP15090183 A JP 15090183A JP 15090183 A JP15090183 A JP 15090183A JP S5988302 A JPS5988302 A JP S5988302A
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- JP
- Japan
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- separator
- tail
- acid solution
- gas
- synthesis
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
- C01B7/01—Chlorine; Hydrogen chloride
- C01B7/012—Preparation of hydrogen chloride from the elements
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Sorption Type Refrigeration Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一体型の、塩酸溶液の合成装置に関する。
塩素と水素とから塩酸給液？：製造するためには一水累
並びに塩素を炉内で燃焼させ、 −生成する塩化水素ガス乞水中に吸収させ、−該吸収が
発熱性であるので浴液を冷却し、−吸収されなかったガ
スを処理 ７なけ几ば１求らない。
並びに塩素を炉内で燃焼させ、 −生成する塩化水素ガス乞水中に吸収させ、−該吸収が
発熱性であるので浴液を冷却し、−吸収されなかったガ
スを処理 ７なけ几ば１求らない。
こｎら操作を行うために、複数の設備が必畏とされる。
即ち、
一バーナー
−反応炉
−吸収装置−冷却器
一尾部塔
を必要とする。
不出願人は、既に第１図に模式的に示した羊−の装置と
じてこｎらいくつかの要素？再編成している。
じてこｎらいくつかの要素？再編成している。
該合成装置は別々の二つの部分な谷んでいる。
第／の部分は
一バーナー１、
一炉一文換器一吸収装置の集合２、
−セパレータ３
乞再編成している。
第２の部分は
一尾部塔４
かりなっている。
該バーナー１は塩素用入口および水素用入口な舊してい
る。
る。
該炉−交換器−吸収装置２は燃焼室５を含んでいる。炉
６は同様に吸収溶液用入口を備えた分配要素７を含む。
６は同様に吸収溶液用入口を備えた分配要素７を含む。
交換器−吸収装置８は垂直導昔もしくは垂直チューブの
交換用ブロックの積層体で構成キ九ている。
交換用ブロックの積層体で構成キ九ている。
セノぐレータ３は管理を確実化するように重ねろｎた、
２つの出口即ち生成酸用の出口と吸収さ几なかったガス
用の出口とを有゛する侠素である。安全板９は飛散防止
用バスケット１０を備え底部を構成している。排気ガス
捕集器１１は安全板の破壊の際の酸の外部への噴出を回
避することを可能とする。
２つの出口即ち生成酸用の出口と吸収さ几なかったガス
用の出口とを有゛する侠素である。安全板９は飛散防止
用バスケット１０を備え底部を構成している。排気ガス
捕集器１１は安全板の破壊の際の酸の外部への噴出を回
避することを可能とする。
尾部塔ヰは要素の積層体から構成されている。
吸収装置内で吸収されなかった塩化水素ガスは尾部壱４
の底部に達する。水または稀薄酸浴液は尾部塔４の上方
に達する。不活性ガスは大気中て放出される（塩酸の含
有率はｊ Ｏｐｐｍ以下でなけ九ばならない）。
の底部に達する。水または稀薄酸浴液は尾部塔４の上方
に達する。不活性ガスは大気中て放出される（塩酸の含
有率はｊ Ｏｐｐｍ以下でなけ九ばならない）。
この半導体装置はいくつかの利点を有する。
合成用炉の主な特性の１つはバーナーの配置である。従
来の他の炉とは逆に、該バーナーは燃焼室の上方部分に
設げら几ていて、炎は下方に向けられている。このよう
な着想により夫々の工程の活Ｍ蚤素を配置することがで
き、かつ連続的な一塩化水素ガスの合成、 一吸収溶液の導入、 一塩化水素ガスの吸収、および 一浪厚溶液の冷却 の各工程を確英なものとする袈ｉｔ ？：構成すること
ができる。
来の他の炉とは逆に、該バーナーは燃焼室の上方部分に
設げら几ていて、炎は下方に向けられている。このよう
な着想により夫々の工程の活Ｍ蚤素を配置することがで
き、かつ連続的な一塩化水素ガスの合成、 一吸収溶液の導入、 一塩化水素ガスの吸収、および 一浪厚溶液の冷却 の各工程を確英なものとする袈ｉｔ ？：構成すること
ができる。
この浴液は該装置の内部に１カによって流入する。該溶
液はセ・千レータ３の側部口から出ていく前Ｖｒ、塩酸
濃度が高められ、かつ十分に冷却されつつ燃焼室の内壁
上を覆って流れ、次いでブロックの垂直導管内もしくは
チューブ内で断続的に流れおち℃、濃厚化されかつ冷却
さｎ１ガスは同じ路に＆って塩酸濃度を減じつつ移動し
、セパレータ３の他の側部口から装置な出ていく。この
ような構想により、バーナー上での混流並びに飛散の危
険性がま−７たく排除される。
液はセ・千レータ３の側部口から出ていく前Ｖｒ、塩酸
濃度が高められ、かつ十分に冷却されつつ燃焼室の内壁
上を覆って流れ、次いでブロックの垂直導管内もしくは
チューブ内で断続的に流れおち℃、濃厚化されかつ冷却
さｎ１ガスは同じ路に＆って塩酸濃度を減じつつ移動し
、セパレータ３の他の側部口から装置な出ていく。この
ような構想により、バーナー上での混流並びに飛散の危
険性がま−７たく排除される。
塩化水素ガス並びにその浴液は、従って並行にかつ同一
方向に流れる。逆に冷却水は向流式で循環する。金属製
囲い体により外部から遮断さｎｌその内部では熱交換用
ブロックもしくはチューブが積層さ几ており、水は下方
の側部管路により装置内に侵入する。吸収装置管路に対
し垂直な管の介在により、チューブが燃焼室π回がう場
合にはブロックからブロックへもしくはじゃま板からじ
ゃま板へと上昇し、円筒外表面の回りを循環しつつ冷却
し、壁が穴をあけらｎている頂部内１ＩｌｌＩ′Ｌ移動
する。最後に、水は囲い体上方の側部管から放出される
。同様に、極めて純粋な塩素ガスと水素ガスとを使用す
る場合、水素過剰の条件下で装置を運転することを推奨
する。この過剰量の水素は不活性ガスを構成する。また
、濃厚な（例えば３３％）酸を生成する場合には、かつ
−１：た核酸が冷却さ几る場合には、極めてＨαに富む
浴液の上方においてＨαガスの分圧が常に掛かつている
ことになる。従って、セパレータ３を出ていくガスはあ
る童の塩化水素ガスを含んでいる（普通の条件下ではわ
ずかである）。
方向に流れる。逆に冷却水は向流式で循環する。金属製
囲い体により外部から遮断さｎｌその内部では熱交換用
ブロックもしくはチューブが積層さ几ており、水は下方
の側部管路により装置内に侵入する。吸収装置管路に対
し垂直な管の介在により、チューブが燃焼室π回がう場
合にはブロックからブロックへもしくはじゃま板からじ
ゃま板へと上昇し、円筒外表面の回りを循環しつつ冷却
し、壁が穴をあけらｎている頂部内１ＩｌｌＩ′Ｌ移動
する。最後に、水は囲い体上方の側部管から放出される
。同様に、極めて純粋な塩素ガスと水素ガスとを使用す
る場合、水素過剰の条件下で装置を運転することを推奨
する。この過剰量の水素は不活性ガスを構成する。また
、濃厚な（例えば３３％）酸を生成する場合には、かつ
−１：た核酸が冷却さ几る場合には、極めてＨαに富む
浴液の上方においてＨαガスの分圧が常に掛かつている
ことになる。従って、セパレータ３を出ていくガスはあ
る童の塩化水素ガスを含んでいる（普通の条件下ではわ
ずかである）。
該塩化水素ガスを大気中に放出できないので、本発明の
設備は尾部塔４を備えている。該塔は底部でセパレーク
３かうでていく浄化すべきガスを受は取り、その頂部で
はＰ９ｒ足の濃厚酸の生成に必要とされろ一定霊の水も
しくは稀薄酸浴液が受は取られる。
設備は尾部塔４を備えている。該塔は底部でセパレーク
３かうでていく浄化すべきガスを受は取り、その頂部で
はＰ９ｒ足の濃厚酸の生成に必要とされろ一定霊の水も
しくは稀薄酸浴液が受は取られる。
尾部塔４の使用は、塩素並びに水素ガスが大量の不活性
物質を含む場合、もしくは極めて濃厚な酸（例えば３７
％）を製造する場合Ｖｃ憔めて重要であることは明白で
ある。
物質を含む場合、もしくは極めて濃厚な酸（例えば３７
％）を製造する場合Ｖｃ憔めて重要であることは明白で
ある。
尾部梧４は、炉−交換器一吸収装置一セノ々レータ集合
体の下方に置かｎ、そこから放出され、かつ吸収用浴液
を含んでいる酸に富んだ発液は呈カＶｃＪ：つて該集合
体の分配要素に達するまで流動し得ろ。
体の下方に置かｎ、そこから放出され、かつ吸収用浴液
を含んでいる酸に富んだ発液は呈カＶｃＪ：つて該集合
体の分配要素に達するまで流動し得ろ。
しかしながら、この装置は更にいくつかの欠点を示す。
即ち、
一不完全なコンパクト化
一吸収装置と尾部塔との間の比較的太ぎた応答時間、
一装置と尾部塔との間、並びにその他の結合用管路の必
要性、 などの欠点がある。
要性、 などの欠点がある。
本発明の主な目的はこ几らの欠点乞克服１−ることであ
る。この目的は以下のような構成の本発明の装置により
達成さＪｔ１該塙酸浴液合成装置は一バーナー、 一炉一交換器一吸収装置、 一セパレータ、？よび 一尾部塔 を含んでいる。
る。この目的は以下のような構成の本発明の装置により
達成さＪｔ１該塙酸浴液合成装置は一バーナー、 一炉一交換器一吸収装置、 一セパレータ、？よび 一尾部塔 を含んでいる。
初めの３つり要素は同一の装を同に夫々この順序で上か
ら垂直に配置さｎてぃて、該尾部塔が該装置内のセパレ
ータの下方知設けろ几てぃて、かくして全体として一体
化さｎた装置を構成していることに特徴を有する。
ら垂直に配置さｎてぃて、該尾部塔が該装置内のセパレ
ータの下方知設けろ几てぃて、かくして全体として一体
化さｎた装置を構成していることに特徴を有する。
第２図は非限定的例とし１本発明を例示するものである
。
。
この一体化合成装置は
一バーナー１、
一炉一交換器一吸収装置２、
一セパレータ３′、および
一尾部塔ヰ
を含む。
バーナー１は塩素用人口と水素用入口とな含んでいる。
炉−父換器一吸収装置２は燃焼室５を含む。炉６はまた
、吸収用語液の入口を備えた分配要素７を含む。交換器
−吸収装置８は交換器またはチューブのブロックの積層
体を包含する。セパレータ３は液体保護体と２つの開口
とを有する囲いから構成され、該開口の一方は該セｌ？
レータの直下に位置する尾部塔に向けられる非吸収ガス
用の中心かつ軸方向の開口であり、他方は冷却さｎた酸
俗液を果めるための側部開口である。尾部塔４は一般に
耐腐食性物質でできた円筒で構成され（例えば含浸グラ
ファイト）、格子１６で支持されたライニングで覆わｎ
１予め分割さ几た水もしくは稀薄酸浴液が分配用装ｄ１
５によってライニングのあらゆる部分を榎って流れる。
、吸収用語液の入口を備えた分配要素７を含む。交換器
−吸収装置８は交換器またはチューブのブロックの積層
体を包含する。セパレータ３は液体保護体と２つの開口
とを有する囲いから構成され、該開口の一方は該セｌ？
レータの直下に位置する尾部塔に向けられる非吸収ガス
用の中心かつ軸方向の開口であり、他方は冷却さｎた酸
俗液を果めるための側部開口である。尾部塔４は一般に
耐腐食性物質でできた円筒で構成され（例えば含浸グラ
ファイト）、格子１６で支持されたライニングで覆わｎ
１予め分割さ几た水もしくは稀薄酸浴液が分配用装ｄ１
５によってライニングのあらゆる部分を榎って流れる。
吸収されないガスは中心部下方の開口によりセパレータ
３から放出され、かつ尾部塔４の底部に向かって、該塔
の軸内の中央部に位置した補助チューブにより移動する
。このガスは該塔の底部にぶつかり、吸収用溶液により
湿ったライニングを横切って移動する。この循環は向流
式である。不活性物質は尾部塔４の上方部分に配置され
た管に連結さｎているベンチレータ１３により尾部塔４
から取り出される。尾部塔４の底部は安全板９を備えて
いる。
３から放出され、かつ尾部塔４の底部に向かって、該塔
の軸内の中央部に位置した補助チューブにより移動する
。このガスは該塔の底部にぶつかり、吸収用溶液により
湿ったライニングを横切って移動する。この循環は向流
式である。不活性物質は尾部塔４の上方部分に配置され
た管に連結さｎているベンチレータ１３により尾部塔４
から取り出される。尾部塔４の底部は安全板９を備えて
いる。
この安全板はそれ自体、飛散防止用バスケット１０を備
えている。排気ガス捕集器１１は安全板−が破磯された
場合における酸の外部への噴出を回避することを可能と
する。
えている。排気ガス捕集器１１は安全板−が破磯された
場合における酸の外部への噴出を回避することを可能と
する。
吸収用浴液はボンダ１２により保証される一定の再循環
により塩酸で富化さ几、該発成は尾部塔４の下方で吸引
さｎ１吸収装置−冷却器システム２の上部で逆方向に流
れる。このために、尾部塔斗の頂部に達する水もしくは
稀薄酸浴液の量はセパレーク３の底部で回収さｎる濃厚
酸の量に等しく１゜ このような着想の主な利点は以下のように概括さコ′し
４ジ。
により塩酸で富化さ几、該発成は尾部塔４の下方で吸引
さｎ１吸収装置−冷却器システム２の上部で逆方向に流
れる。このために、尾部塔斗の頂部に達する水もしくは
稀薄酸浴液の量はセパレーク３の底部で回収さｎる濃厚
酸の量に等しく１゜ このような着想の主な利点は以下のように概括さコ′し
４ジ。
一般備のすべてが地上に設置さ１１得るニー集合体の大
きなコンパクト性てより種々の連結用管路、プリツノ、
継ぎ手並びに支持体を排除できる； 一骨組みの平線化並びに節減ニ ー吸収装置と尾部塔との間の応答時間の短鰯。
きなコンパクト性てより種々の連結用管路、プリツノ、
継ぎ手並びに支持体を排除できる； 一骨組みの平線化並びに節減ニ ー吸収装置と尾部塔との間の応答時間の短鰯。
更に、本発明は尾部塔を含めて単一の安全板により合成
装置を保護するという利点を有してい小。
装置を保護するという利点を有してい小。
これは従来の合成装置にはまったくみもれないことであ
る。
る。
第１図は、本出願人により前に開発さｎた塩酸合成玖を
２模式的に示す図であり、 第２図は、本発明の装置の一態様を１］七す図である。 図面の浄書（内容に変更なし） 第１図 不、＠ 、ｌ−１鵠簀 第２図 手続補正書（方式） 昭和 年 月 日 □゛３．３．補正者 事件との関係 出願人 ４、代理人 図面の浄書（内容に変更なし）。
２模式的に示す図であり、 第２図は、本発明の装置の一態様を１］七す図である。 図面の浄書（内容に変更なし） 第１図 不、＠ 、ｌ−１鵠簀 第２図 手続補正書（方式） 昭和 年 月 日 □゛３．３．補正者 事件との関係 出願人 ４、代理人 図面の浄書（内容に変更なし）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｖ）、バーナー、炉−交挨器一吸収装置、セ・ぐレータ
および尾部塔を含み、該初めの三つの要素が夫々該順序
で同一の装置内で上から垂直に配置されている塩酸溶液
の合成装置に？いて、該尾部塔が前記装置のセパレータ
の下方に設けられており、かくして全体として一体化さ
れた装置を構成することを特徴とする、上記塩酸溶液の
合成装置。 Ｇ２） 上記セパレータが液体保護体とλつの開口と
を包含する囲い体から構成さｎ、該２つの開口の一方が
該セパレータの直下に配置された尾部塔に向けて非吸収
ガスを移動させるための中心の軸に宿った開口で；ｂす
、他方が冷却された酸浴液を集める１こめの側部開口で
あることな特徴とする、特許請求の範囲第（１）項記載
の合成装置。 （３） 前記尾部塔が格子により支持されたライニン
グで覆われた耐腐食性物質の円筒体により構成され、該
円筒体上では、あらゆる該ライニング部分を覆って分配
用装置によって分割された水もしくは稀薄酸浴液が流れ
ており、前記円筒体がその中心部でかつ＠円に補助チュ
ーブを備えでＪ６す、その内部にはセパレータからの非
吸収ガスが導かれることを特徴とする特許請求の範囲第
Ｇ’）またはし）項記載の合成装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8215688A FR2533204B1 (fr) | 1982-09-17 | 1982-09-17 | Unite de synthese d'acide chlorhydrique en solution, du type integre |
| FR8215688 | 1982-09-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5988302A true JPS5988302A (ja) | 1984-05-22 |
Family
ID=9277519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15090183A Pending JPS5988302A (ja) | 1982-09-17 | 1983-08-18 | 一体式の塩酸溶液合成装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0103863B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5988302A (ja) |
| DE (1) | DE3363285D1 (ja) |
| FR (1) | FR2533204B1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2671607B1 (fr) * | 1991-01-14 | 1993-03-26 | Lorraine Carbone | Procede de depollution d'effluents gazeux riches en oxygene et contenant des derives chlores. |
| US6821189B1 (en) * | 2000-10-13 | 2004-11-23 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article comprising a structured diamond-like carbon coating and method of using same to mechanically treat a substrate |
| FR2973365B1 (fr) | 2011-03-31 | 2014-04-11 | Mersen France Py Sas | Installation et reacteur pour la synthese directe d'acide chlorhydrique a partir d'hydrogene et de chlore avec recuperation de chaleur |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5717403A (en) * | 1980-07-07 | 1982-01-29 | Tokai Carbon Co Ltd | Manufacturing apparatus for synthetic hydrochloric acid |
-
1982
- 1982-09-17 FR FR8215688A patent/FR2533204B1/fr not_active Expired
-
1983
- 1983-08-18 JP JP15090183A patent/JPS5988302A/ja active Pending
- 1983-09-16 EP EP19830109175 patent/EP0103863B1/de not_active Expired
- 1983-09-16 DE DE8383109175T patent/DE3363285D1/de not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5717403A (en) * | 1980-07-07 | 1982-01-29 | Tokai Carbon Co Ltd | Manufacturing apparatus for synthetic hydrochloric acid |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2533204A1 (fr) | 1984-03-23 |
| EP0103863A1 (de) | 1984-03-28 |
| FR2533204B1 (fr) | 1985-05-31 |
| DE3363285D1 (en) | 1986-06-05 |
| EP0103863B1 (de) | 1986-04-30 |
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