JPS598692A - 単結晶の育成装置 - Google Patents
単結晶の育成装置Info
- Publication number
- JPS598692A JPS598692A JP11601382A JP11601382A JPS598692A JP S598692 A JPS598692 A JP S598692A JP 11601382 A JP11601382 A JP 11601382A JP 11601382 A JP11601382 A JP 11601382A JP S598692 A JPS598692 A JP S598692A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- cooling
- growth
- crystal
- single crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/14—Heating of the melt or the crystallised materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は、例えばB I 12 S L 020、B1
1□GeO□0、GGG(ガFリニウムガリウムカ゛−
ネット)、LiNb2O3、L + T + 30 s
等の酸化物などの単結晶をチョクラIVヌキー法C以下
、CZ法と称す)により育成する装置に関するものであ
る。
1□GeO□0、GGG(ガFリニウムガリウムカ゛−
ネット)、LiNb2O3、L + T + 30 s
等の酸化物などの単結晶をチョクラIVヌキー法C以下
、CZ法と称す)により育成する装置に関するものであ
る。
(背景技術)
従来のC2甲結晶育成装置は、第1図に例を示すように
、加熱されたるつぼ2内の原料融液lの表面に種結晶3
を浸漬し、なじませた後、種結晶3を引■げて単結晶4
を引上げ、L部で冷却するものであった。しかしこの装
置では単結晶の育成と該単結晶の冷却を同一の炉で実施
しており、冷却期聞中育成炉を使用できないという欠点
があった。特に例えば酸化物単結晶は冷却速度が速いと
クラックや歪みが入り易く、冷却に長時間を要し、結晶
の量産を実施する場合、生産性が悪く、経済性が低くな
る欠点があった。
、加熱されたるつぼ2内の原料融液lの表面に種結晶3
を浸漬し、なじませた後、種結晶3を引■げて単結晶4
を引上げ、L部で冷却するものであった。しかしこの装
置では単結晶の育成と該単結晶の冷却を同一の炉で実施
しており、冷却期聞中育成炉を使用できないという欠点
があった。特に例えば酸化物単結晶は冷却速度が速いと
クラックや歪みが入り易く、冷却に長時間を要し、結晶
の量産を実施する場合、生産性が悪く、経済性が低くな
る欠点があった。
(発明の開示)
本発明は、北述の欠点を解消するため成されたもので、
単結晶種トげ後の冷却を、育成炉の1一部に移動可能に
設けた結晶冷却炉を育成炉より切り離して別個[実施す
るよう構成することにより、単結晶の冷却を育成炉中で
行なう必要がなく、中結晶育成炉の稼動率を向−1ニレ
、生産性を著しく向−1ニし得る単結晶育成装置を提供
せんとするものでめる0 不発1刀は、単結晶をチョクラルヌキー法により育成す
る装置において、単結晶育成炉の上部に、に下方向およ
び横方向にfe、動可能な1個以トの結晶冷却Pを設け
て成り、引にけた単結晶を前記冷却炉内に収容し、該冷
却炉全体を前記育成炉より切り離して別(liIllに
冷却するよう構成したことを特徴とする単結晶の育成装
置である。
単結晶種トげ後の冷却を、育成炉の1一部に移動可能に
設けた結晶冷却炉を育成炉より切り離して別個[実施す
るよう構成することにより、単結晶の冷却を育成炉中で
行なう必要がなく、中結晶育成炉の稼動率を向−1ニレ
、生産性を著しく向−1ニし得る単結晶育成装置を提供
せんとするものでめる0 不発1刀は、単結晶をチョクラルヌキー法により育成す
る装置において、単結晶育成炉の上部に、に下方向およ
び横方向にfe、動可能な1個以トの結晶冷却Pを設け
て成り、引にけた単結晶を前記冷却炉内に収容し、該冷
却炉全体を前記育成炉より切り離して別(liIllに
冷却するよう構成したことを特徴とする単結晶の育成装
置である。
以下、本発1準1を図面を用いて実施例により説明する
。
。
第2図は本発明装置の実施例を示す縦断面図で、((イ
)図は単結晶引上げ後の状態を示す図で、(ロ)図は単
結晶育成中の結晶冷却炉下方の状態を示す図である。図
において第1図と同一の符号はそれぞれ同一の部分を示
′す。第1図と異なる点は、単結晶育成炉の1一部に、
結晶冷却炉6を設けた点である。
)図は単結晶引上げ後の状態を示す図で、(ロ)図は単
結晶育成中の結晶冷却炉下方の状態を示す図である。図
において第1図と同一の符号はそれぞれ同一の部分を示
′す。第1図と異なる点は、単結晶育成炉の1一部に、
結晶冷却炉6を設けた点である。
冷却炉6は管状の炉、例えば電熱、線7を巻いた抵抗加
熱炉で、その下端部8がアフターヒーター5のト部と重
なるように配置され、単結晶育成時は(ロ)図に示すよ
うにアフターヒーター5のに部ニ1に端部8を重ね、単
結晶4を冷却炉6内に引」二けた後は(イ)図に示すよ
うに冷却炉6を上方に移動してアフターヒーター5より
引き離し、下端部8に底蓋9f:する。lOは断熱材で
ある。11は垂直方向の支柱で回転可能であり、冷却炉
6をアーム12゜12により支持し、底蓋9全アーム!
3により支持し、アーム+2.12.18は支柱11の
」二丁方向に移動可能で、かつ支柱IIを軸として回転
可能である。こnKよシ冷却P6は、I:下方向および
(価方向に移動可能に構成される。
熱炉で、その下端部8がアフターヒーター5のト部と重
なるように配置され、単結晶育成時は(ロ)図に示すよ
うにアフターヒーター5のに部ニ1に端部8を重ね、単
結晶4を冷却炉6内に引」二けた後は(イ)図に示すよ
うに冷却炉6を上方に移動してアフターヒーター5より
引き離し、下端部8に底蓋9f:する。lOは断熱材で
ある。11は垂直方向の支柱で回転可能であり、冷却炉
6をアーム12゜12により支持し、底蓋9全アーム!
3により支持し、アーム+2.12.18は支柱11の
」二丁方向に移動可能で、かつ支柱IIを軸として回転
可能である。こnKよシ冷却P6は、I:下方向および
(価方向に移動可能に構成される。
又、種結品3を収付けたシーIS捧14は引」二軸15
と継手16によυ連結されており、それぞれ固定ボルト
17.17により固着される。18は結晶支持用金具で
、シード捧14の嵌入可能な割れ目19を有し、アーム
12.13と同様、支柱11を軸としてL下方向および
横方向に移u1可能に構成さ几ている。
と継手16によυ連結されており、それぞれ固定ボルト
17.17により固着される。18は結晶支持用金具で
、シード捧14の嵌入可能な割れ目19を有し、アーム
12.13と同様、支柱11を軸としてL下方向および
横方向に移u1可能に構成さ几ている。
かように構成された本発明による単結晶育成時3−
置により、単結晶を製造するには、先ず冷却炉6を(ロ
)図に示すようにアフターヒーター5に重ね、冷却炉6
の底蓋9および結晶支持用金具18を引、」二1Ill
II線」二からl1lllLシた状態で、通常の方法で
単結晶4を育成する。なお育成中は、融液ト部の温度勾
配乙 が最適になるように冷却炉争に電力を供給する。
)図に示すようにアフターヒーター5に重ね、冷却炉6
の底蓋9および結晶支持用金具18を引、」二1Ill
II線」二からl1lllLシた状態で、通常の方法で
単結晶4を育成する。なお育成中は、融液ト部の温度勾
配乙 が最適になるように冷却炉争に電力を供給する。
次に育成終了後は、冷却炉6をアフターヒータ=5の内
部とほぼ等しい温度になるようにヒーターにより加熱す
る。なおこの時冷却炉6内の軸方向の温度勾配が0〜1
0℃、/amの範囲内に入るようニ予吟ヒーターの密度
を調節しておく。
部とほぼ等しい温度になるようにヒーターにより加熱す
る。なおこの時冷却炉6内の軸方向の温度勾配が0〜1
0℃、/amの範囲内に入るようニ予吟ヒーターの密度
を調節しておく。
しかる後、育成された単結晶を冷却炉6内にまで引」二
げ、冷却炉6を上昇させ、アフターヒーター5より引き
離し、(イ)図に示すように底蓋9をし結晶支持用金具
18をシード捧14に嵌めこみ、金具18を継f1.6
に密着させる。次いで固定ポルト17をゆるめ、引上軸
15を継手I6より上方に引抜く。
げ、冷却炉6を上昇させ、アフターヒーター5より引き
離し、(イ)図に示すように底蓋9をし結晶支持用金具
18をシード捧14に嵌めこみ、金具18を継f1.6
に密着させる。次いで固定ポルト17をゆるめ、引上軸
15を継手I6より上方に引抜く。
かようにすると単結晶4と冷却炉6は、引上軸15と下
方の単結晶育成炉に対してフリーとなる4− ので、支柱11i回転させて、冷却炉6全体(台車結晶
4、シード捧14.金具18、底蓋9)を育成炉より切
り離し、育成炉の横の別の個所で、冷却炉6のヒーター
への通電を調節し、冷却炉単体で冷却過程を実施する。
方の単結晶育成炉に対してフリーとなる4− ので、支柱11i回転させて、冷却炉6全体(台車結晶
4、シード捧14.金具18、底蓋9)を育成炉より切
り離し、育成炉の横の別の個所で、冷却炉6のヒーター
への通電を調節し、冷却炉単体で冷却過程を実施する。
なお単結晶育成炉は通常の冷却速度で降温し、次の育成
のため使用するので、育成のサイクルを著しく短縮する
ことができる。
のため使用するので、育成のサイクルを著しく短縮する
ことができる。
なお単結晶の冷却時間によっては、結晶冷却炉6を1個
のみでなく、2個以ト設けても良い。
のみでなく、2個以ト設けても良い。
(実施例)
第2図に示す単結晶育成装置を用いてB1□S10゜。
(BSOと称す)単結晶をCZ法により製造した。10
0mmφの白金製るつぼ1にBi2O3と5I02を6
=1の化学量論的組成比で良く混合したものを装入し、
加熱溶融した。
0mmφの白金製るつぼ1にBi2O3と5I02を6
=1の化学量論的組成比で良く混合したものを装入し、
加熱溶融した。
次に融液上方の温度勾配を育成に適当な10〜b
び冷却炉6の電力を調節し、直径50朋、長さ100+
++mの単結晶を育成した。
++mの単結晶を育成した。
育成終了後、冷却炉6の通電量を増加させ、アフターヒ
ーター5の内部とほぼ等しい温度まで加熱した。冷却炉
6内の温度を安定化させ、単結晶4を冷却炉6内に徐々
に引上げた。
ーター5の内部とほぼ等しい温度まで加熱した。冷却炉
6内の温度を安定化させ、単結晶4を冷却炉6内に徐々
に引上げた。
次に冷却炉6ヲー1−昇させ、アフターヒーター5より
引き幽し、底蓋9をした。次いで結晶支持用i、141
8をンート゛俸14に嵌めこみ、継手16に、密着させ
、それを下から支えた後、固定ボルト17をゆるめ、引
]−輔15を4二方に引き抜いた。
引き幽し、底蓋9をした。次いで結晶支持用i、141
8をンート゛俸14に嵌めこみ、継手16に、密着させ
、それを下から支えた後、固定ボルト17をゆるめ、引
]−輔15を4二方に引き抜いた。
固定棒11を軸として冷却炉6全体(台車結晶4)を回
転させて育成炉から切り離し、冷却炉6により10〜b 、′冷却に50時間を要した。
転させて育成炉から切り離し、冷却炉6により10〜b 、′冷却に50時間を要した。
一方単結晶育成炉は数時間で冷却し、次の育成(D m
K備を実施したので、単結晶育成のザイクルは1回当り
約45時間短縮された。
K備を実施したので、単結晶育成のザイクルは1回当り
約45時間短縮された。
冷却炉6より収シ田されたBSO単結晶はクラック、歪
み等がなく、高品質なものであった。又冷却炉内は温度
勾配が10℃/crn以下に保たれていたので、熱処理
効果があり、以後の熱処理工程が不要でめった。
み等がなく、高品質なものであった。又冷却炉内は温度
勾配が10℃/crn以下に保たれていたので、熱処理
効果があり、以後の熱処理工程が不要でめった。
(発明の効果)
L述のように構成された本発明の単結晶育成装置は次の
ような効果がある。
ような効果がある。
(イ)単結晶育成・炉の北部に、ト下方向および横方向
に移動可能な1個以北の結晶冷却炉を設けて成り、引上
げた単結晶を前記冷却炉内に収容し、該冷却炉全体を前
記育成炉より切り離して別個に冷却するよう構成したた
め、単結晶の冷却過程を従来のように育成炉内で実施す
る必要がなく、単結晶育成炉の育成のサイク/I/を短
縮し、著しく稼動率を向北させることができる。
に移動可能な1個以北の結晶冷却炉を設けて成り、引上
げた単結晶を前記冷却炉内に収容し、該冷却炉全体を前
記育成炉より切り離して別個に冷却するよう構成したた
め、単結晶の冷却過程を従来のように育成炉内で実施す
る必要がなく、単結晶育成炉の育成のサイク/I/を短
縮し、著しく稼動率を向北させることができる。
(ロ)結晶冷却炉内の温度分布を均一にし得るので、熱
処理効果があり、以後の単結晶の熱処理工程を省略でき
る。
処理効果があり、以後の単結晶の熱処理工程を省略でき
る。
(ハ)結晶冷却炉は小型であるため、冷却に育成炉のよ
うな大電力を必要とせず、省エネルギー」二好ましい。
うな大電力を必要とせず、省エネルギー」二好ましい。
第1図は従来の単結晶育成装置の例を示す縦7−
断面図である。
第2図(イ)、(ロ)は本発明装置の実施例を示す縦断
面図で、(イ)図は単結品種」二げ後の状態を示す図で
、(ロ)図は単結晶育成中の結晶冷却炉の下方の状fl
’i=示す図である。 l・・・原料融液、2 るつぼ、3 ・種結晶、4・・
・単結晶、5−・アフターヒーター、6・・結晶冷却炉
、7・・電熱線、8・・下端部、9 ・底蓋、10・・
・断熱材、11・・・支柱、12113・・・アーム、
14・・・シート゛棒、15・・・引り軸、16・・継
手、17・・・固定ボルト、18・・結晶支持用金具、
19・・・割れ目。 8−
面図で、(イ)図は単結品種」二げ後の状態を示す図で
、(ロ)図は単結晶育成中の結晶冷却炉の下方の状fl
’i=示す図である。 l・・・原料融液、2 るつぼ、3 ・種結晶、4・・
・単結晶、5−・アフターヒーター、6・・結晶冷却炉
、7・・電熱線、8・・下端部、9 ・底蓋、10・・
・断熱材、11・・・支柱、12113・・・アーム、
14・・・シート゛棒、15・・・引り軸、16・・継
手、17・・・固定ボルト、18・・結晶支持用金具、
19・・・割れ目。 8−
Claims (2)
- (1) 単結晶をチョクラルヌキー去により育成する
装置において、単結晶育成炉の1部冗、北下方向および
横方向に移動可能な1個以北の結晶冷却Fを設けて成り
、引上げた単結晶を前記冷却炉内に収容し、該冷却炉全
体を前記育成炉より切り離して別個に冷却するよう構成
したことを特徴とする単結晶の育成装置。 - (2) 冷却炉内の温度勾配がθ〜20℃/σてあシ
、それにより単結晶中のクラックや歪みの発生を防ぐ特
許請求の範囲第1項記載の単結晶の育成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11601382A JPS598692A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 単結晶の育成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11601382A JPS598692A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 単結晶の育成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS598692A true JPS598692A (ja) | 1984-01-17 |
Family
ID=14676649
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11601382A Pending JPS598692A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 単結晶の育成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS598692A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6262022U (ja) * | 1985-10-07 | 1987-04-17 | ||
JPS63222090A (ja) * | 1987-03-10 | 1988-09-14 | Mitsubishi Metal Corp | 単結晶成長装置 |
JPH01164791A (ja) * | 1987-12-18 | 1989-06-28 | Osaka Titanium Co Ltd | 単結晶製造装置 |
JPH0297478A (ja) * | 1988-10-05 | 1990-04-10 | Mitsubishi Metal Corp | 単結晶引上装置 |
WO1999006615A1 (en) * | 1997-08-01 | 1999-02-11 | Memc Electronic Materials, Inc. | Heat shield assembly and method of growing vacancy rich single crystal silicon |
-
1982
- 1982-07-02 JP JP11601382A patent/JPS598692A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6262022U (ja) * | 1985-10-07 | 1987-04-17 | ||
JPS63222090A (ja) * | 1987-03-10 | 1988-09-14 | Mitsubishi Metal Corp | 単結晶成長装置 |
JPH01164791A (ja) * | 1987-12-18 | 1989-06-28 | Osaka Titanium Co Ltd | 単結晶製造装置 |
JPH0297478A (ja) * | 1988-10-05 | 1990-04-10 | Mitsubishi Metal Corp | 単結晶引上装置 |
WO1999006615A1 (en) * | 1997-08-01 | 1999-02-11 | Memc Electronic Materials, Inc. | Heat shield assembly and method of growing vacancy rich single crystal silicon |
US5942032A (en) * | 1997-08-01 | 1999-08-24 | Memc Electronic Materials, Inc. | Heat shield assembly and method of growing vacancy rich single crystal silicon |
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