JPS598692A - 単結晶の育成装置 - Google Patents

単結晶の育成装置

Info

Publication number
JPS598692A
JPS598692A JP11601382A JP11601382A JPS598692A JP S598692 A JPS598692 A JP S598692A JP 11601382 A JP11601382 A JP 11601382A JP 11601382 A JP11601382 A JP 11601382A JP S598692 A JPS598692 A JP S598692A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
furnace
cooling
growth
crystal
single crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11601382A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Tada
多田 紘二
Miki Kuhara
美樹 工原
Masami Tatsumi
雅美 龍見
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP11601382A priority Critical patent/JPS598692A/ja
Publication of JPS598692A publication Critical patent/JPS598692A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/14Heating of the melt or the crystallised materials

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は、例えばB I 12 S L 020、B1
1□GeO□0、GGG(ガFリニウムガリウムカ゛−
ネット)、LiNb2O3、L + T + 30 s
等の酸化物などの単結晶をチョクラIVヌキー法C以下
、CZ法と称す)により育成する装置に関するものであ
る。
(背景技術) 従来のC2甲結晶育成装置は、第1図に例を示すように
、加熱されたるつぼ2内の原料融液lの表面に種結晶3
を浸漬し、なじませた後、種結晶3を引■げて単結晶4
を引上げ、L部で冷却するものであった。しかしこの装
置では単結晶の育成と該単結晶の冷却を同一の炉で実施
しており、冷却期聞中育成炉を使用できないという欠点
があった。特に例えば酸化物単結晶は冷却速度が速いと
クラックや歪みが入り易く、冷却に長時間を要し、結晶
の量産を実施する場合、生産性が悪く、経済性が低くな
る欠点があった。
(発明の開示) 本発明は、北述の欠点を解消するため成されたもので、
単結晶種トげ後の冷却を、育成炉の1一部に移動可能に
設けた結晶冷却炉を育成炉より切り離して別個[実施す
るよう構成することにより、単結晶の冷却を育成炉中で
行なう必要がなく、中結晶育成炉の稼動率を向−1ニレ
、生産性を著しく向−1ニし得る単結晶育成装置を提供
せんとするものでめる0 不発1刀は、単結晶をチョクラルヌキー法により育成す
る装置において、単結晶育成炉の上部に、に下方向およ
び横方向にfe、動可能な1個以トの結晶冷却Pを設け
て成り、引にけた単結晶を前記冷却炉内に収容し、該冷
却炉全体を前記育成炉より切り離して別(liIllに
冷却するよう構成したことを特徴とする単結晶の育成装
置である。
以下、本発1準1を図面を用いて実施例により説明する
第2図は本発明装置の実施例を示す縦断面図で、((イ
)図は単結晶引上げ後の状態を示す図で、(ロ)図は単
結晶育成中の結晶冷却炉下方の状態を示す図である。図
において第1図と同一の符号はそれぞれ同一の部分を示
′す。第1図と異なる点は、単結晶育成炉の1一部に、
結晶冷却炉6を設けた点である。
冷却炉6は管状の炉、例えば電熱、線7を巻いた抵抗加
熱炉で、その下端部8がアフターヒーター5のト部と重
なるように配置され、単結晶育成時は(ロ)図に示すよ
うにアフターヒーター5のに部ニ1に端部8を重ね、単
結晶4を冷却炉6内に引」二けた後は(イ)図に示すよ
うに冷却炉6を上方に移動してアフターヒーター5より
引き離し、下端部8に底蓋9f:する。lOは断熱材で
ある。11は垂直方向の支柱で回転可能であり、冷却炉
6をアーム12゜12により支持し、底蓋9全アーム!
3により支持し、アーム+2.12.18は支柱11の
」二丁方向に移動可能で、かつ支柱IIを軸として回転
可能である。こnKよシ冷却P6は、I:下方向および
(価方向に移動可能に構成される。
又、種結品3を収付けたシーIS捧14は引」二軸15
と継手16によυ連結されており、それぞれ固定ボルト
17.17により固着される。18は結晶支持用金具で
、シード捧14の嵌入可能な割れ目19を有し、アーム
12.13と同様、支柱11を軸としてL下方向および
横方向に移u1可能に構成さ几ている。
かように構成された本発明による単結晶育成時3− 置により、単結晶を製造するには、先ず冷却炉6を(ロ
)図に示すようにアフターヒーター5に重ね、冷却炉6
の底蓋9および結晶支持用金具18を引、」二1Ill
II線」二からl1lllLシた状態で、通常の方法で
単結晶4を育成する。なお育成中は、融液ト部の温度勾
配乙 が最適になるように冷却炉争に電力を供給する。
次に育成終了後は、冷却炉6をアフターヒータ=5の内
部とほぼ等しい温度になるようにヒーターにより加熱す
る。なおこの時冷却炉6内の軸方向の温度勾配が0〜1
0℃、/amの範囲内に入るようニ予吟ヒーターの密度
を調節しておく。
しかる後、育成された単結晶を冷却炉6内にまで引」二
げ、冷却炉6を上昇させ、アフターヒーター5より引き
離し、(イ)図に示すように底蓋9をし結晶支持用金具
18をシード捧14に嵌めこみ、金具18を継f1.6
に密着させる。次いで固定ポルト17をゆるめ、引上軸
15を継手I6より上方に引抜く。
かようにすると単結晶4と冷却炉6は、引上軸15と下
方の単結晶育成炉に対してフリーとなる4− ので、支柱11i回転させて、冷却炉6全体(台車結晶
4、シード捧14.金具18、底蓋9)を育成炉より切
り離し、育成炉の横の別の個所で、冷却炉6のヒーター
への通電を調節し、冷却炉単体で冷却過程を実施する。
なお単結晶育成炉は通常の冷却速度で降温し、次の育成
のため使用するので、育成のサイクルを著しく短縮する
ことができる。
なお単結晶の冷却時間によっては、結晶冷却炉6を1個
のみでなく、2個以ト設けても良い。
(実施例) 第2図に示す単結晶育成装置を用いてB1□S10゜。
(BSOと称す)単結晶をCZ法により製造した。10
0mmφの白金製るつぼ1にBi2O3と5I02を6
=1の化学量論的組成比で良く混合したものを装入し、
加熱溶融した。
次に融液上方の温度勾配を育成に適当な10〜b び冷却炉6の電力を調節し、直径50朋、長さ100+
++mの単結晶を育成した。
育成終了後、冷却炉6の通電量を増加させ、アフターヒ
ーター5の内部とほぼ等しい温度まで加熱した。冷却炉
6内の温度を安定化させ、単結晶4を冷却炉6内に徐々
に引上げた。
次に冷却炉6ヲー1−昇させ、アフターヒーター5より
引き幽し、底蓋9をした。次いで結晶支持用i、141
8をンート゛俸14に嵌めこみ、継手16に、密着させ
、それを下から支えた後、固定ボルト17をゆるめ、引
]−輔15を4二方に引き抜いた。
固定棒11を軸として冷却炉6全体(台車結晶4)を回
転させて育成炉から切り離し、冷却炉6により10〜b 、′冷却に50時間を要した。
一方単結晶育成炉は数時間で冷却し、次の育成(D m
K備を実施したので、単結晶育成のザイクルは1回当り
約45時間短縮された。
冷却炉6より収シ田されたBSO単結晶はクラック、歪
み等がなく、高品質なものであった。又冷却炉内は温度
勾配が10℃/crn以下に保たれていたので、熱処理
効果があり、以後の熱処理工程が不要でめった。
(発明の効果) L述のように構成された本発明の単結晶育成装置は次の
ような効果がある。
(イ)単結晶育成・炉の北部に、ト下方向および横方向
に移動可能な1個以北の結晶冷却炉を設けて成り、引上
げた単結晶を前記冷却炉内に収容し、該冷却炉全体を前
記育成炉より切り離して別個に冷却するよう構成したた
め、単結晶の冷却過程を従来のように育成炉内で実施す
る必要がなく、単結晶育成炉の育成のサイク/I/を短
縮し、著しく稼動率を向北させることができる。
(ロ)結晶冷却炉内の温度分布を均一にし得るので、熱
処理効果があり、以後の単結晶の熱処理工程を省略でき
る。
(ハ)結晶冷却炉は小型であるため、冷却に育成炉のよ
うな大電力を必要とせず、省エネルギー」二好ましい。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の単結晶育成装置の例を示す縦7− 断面図である。 第2図(イ)、(ロ)は本発明装置の実施例を示す縦断
面図で、(イ)図は単結品種」二げ後の状態を示す図で
、(ロ)図は単結晶育成中の結晶冷却炉の下方の状fl
’i=示す図である。 l・・・原料融液、2 るつぼ、3 ・種結晶、4・・
・単結晶、5−・アフターヒーター、6・・結晶冷却炉
、7・・電熱線、8・・下端部、9 ・底蓋、10・・
・断熱材、11・・・支柱、12113・・・アーム、
14・・・シート゛棒、15・・・引り軸、16・・継
手、17・・・固定ボルト、18・・結晶支持用金具、
19・・・割れ目。 8−

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  単結晶をチョクラルヌキー去により育成する
    装置において、単結晶育成炉の1部冗、北下方向および
    横方向に移動可能な1個以北の結晶冷却Fを設けて成り
    、引上げた単結晶を前記冷却炉内に収容し、該冷却炉全
    体を前記育成炉より切り離して別個に冷却するよう構成
    したことを特徴とする単結晶の育成装置。
  2. (2)  冷却炉内の温度勾配がθ〜20℃/σてあシ
    、それにより単結晶中のクラックや歪みの発生を防ぐ特
    許請求の範囲第1項記載の単結晶の育成装置。
JP11601382A 1982-07-02 1982-07-02 単結晶の育成装置 Pending JPS598692A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11601382A JPS598692A (ja) 1982-07-02 1982-07-02 単結晶の育成装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11601382A JPS598692A (ja) 1982-07-02 1982-07-02 単結晶の育成装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS598692A true JPS598692A (ja) 1984-01-17

Family

ID=14676649

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11601382A Pending JPS598692A (ja) 1982-07-02 1982-07-02 単結晶の育成装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS598692A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6262022U (ja) * 1985-10-07 1987-04-17
JPS63222090A (ja) * 1987-03-10 1988-09-14 Mitsubishi Metal Corp 単結晶成長装置
JPH01164791A (ja) * 1987-12-18 1989-06-28 Osaka Titanium Co Ltd 単結晶製造装置
JPH0297478A (ja) * 1988-10-05 1990-04-10 Mitsubishi Metal Corp 単結晶引上装置
WO1999006615A1 (en) * 1997-08-01 1999-02-11 Memc Electronic Materials, Inc. Heat shield assembly and method of growing vacancy rich single crystal silicon

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6262022U (ja) * 1985-10-07 1987-04-17
JPS63222090A (ja) * 1987-03-10 1988-09-14 Mitsubishi Metal Corp 単結晶成長装置
JPH01164791A (ja) * 1987-12-18 1989-06-28 Osaka Titanium Co Ltd 単結晶製造装置
JPH0297478A (ja) * 1988-10-05 1990-04-10 Mitsubishi Metal Corp 単結晶引上装置
WO1999006615A1 (en) * 1997-08-01 1999-02-11 Memc Electronic Materials, Inc. Heat shield assembly and method of growing vacancy rich single crystal silicon
US5942032A (en) * 1997-08-01 1999-08-24 Memc Electronic Materials, Inc. Heat shield assembly and method of growing vacancy rich single crystal silicon

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101871123B (zh) 移动碲溶剂熔区法生长碲锌镉晶体的方法及装置
CN110983429A (zh) 单晶炉及单晶硅制备方法
CN102936747B (zh) 一种采用大尺寸坩埚铸锭类单晶的方法
CN105358743B (zh) 单晶制造装置及单晶制造方法
CN110685011A (zh) 单品硅热场坩埚用生产智能加工设备及其加工方法
CN109056062A (zh) 一种铸造单晶硅的制备方法
CN110205672B (zh) 一种类单晶硅晶体生长方法和热场结构
CN110528065A (zh) 一种安全性能高的单晶硅生长炉
JPS598692A (ja) 単結晶の育成装置
CN109972200A (zh) 连续提拉单晶硅生长方法
CN111074346A (zh) 一种提拉法制备高纯单晶锗的装置及方法
CN116377561B (zh) 去除锗单晶熔体浮渣的方法及去除锗单晶熔体浮渣的装置
CN109913939A (zh) 热屏蔽组件、拉晶炉系统及其工作方法
CN211497865U (zh) 一种提拉法制备高纯单晶锗的装置
CN210683991U (zh) 一种单晶硅生长装置
CN211921735U (zh) 一种提高单晶硅拉速的冷却装置
CN110106546A (zh) 一种高成品率铸造单晶硅生长方法和热场结构
CN85100591A (zh) 非线性磁场中单晶硅拉制方法及其装置
JPH04342496A (ja) 太陽電池用多結晶シリコン鋳塊の製造方法
CN109097829A (zh) 铸造单晶硅用隔热底板、铸造单晶硅生长设备及铸造单晶硅的制备方法
CN115029783B (zh) 基于vb法与vgf法结合的砷化铟单晶生长方法
CN104499046B (zh) 一种多晶硅锭制备方法
CN219449950U (zh) 一种全自动硅芯生长设备
CN217351609U (zh) 一种复合电极及单晶炉
JPH03193694A (ja) 結晶成長装置