JPS5984846A - 四環式又は五環式エステル類 - Google Patents

四環式又は五環式エステル類

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JPS5984846A
JPS5984846A JP58179533A JP17953383A JPS5984846A JP S5984846 A JPS5984846 A JP S5984846A JP 58179533 A JP58179533 A JP 58179533A JP 17953383 A JP17953383 A JP 17953383A JP S5984846 A JPS5984846 A JP S5984846A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規の液晶化合物、即ち一般式式中、X2は単
一の共有結合またはエステル2!A”−COO−を表わ
し;Xlは単一の共有結合、エステルg−coo−、エ
チレン基−CH,Cir,一または、X2がエステル基
−COO−を表わす場合には、まだpCaL−、pC6
H4  CHzCHt−、CH2CH2 I) C6H
4−、p−CaH4−COO− モしくはーCOO I
) C6H4一を表わし;3JAはベンゼン環またはト
ランス−1.4−シクロヘキシレンを表ワt,;iBは
ベンゼン甲゛マだt.J:、X”がエステル基一COO
−を表わし且つXlが単一の共有結合、エステル鵡 C
OO−もしくはエチレン基一C H x CH t−を
表わ一J場合には、またトランス−1.4−シクロヘキ
シレン全表わし;Z′、z2及びZ3は水素または、ベ
ンゼン環が単一の共有結合を介して更に他の環に直接結
合していない該ベンゼン環上においてまたハロゲン、シ
アノもしくはメチルを表わし;Y2はシアノ、ニトロ、
2.2−ジシアノビニルまたは、Y’が水素を表わす場
合には、また2、2−ジシアノ−1−メチルビニルを表
ワL ; Y’ Itiハロゲン、シアノ、C1〜C3
−アルキルまたは、X!がベンゼン環もしくはエステル
基を有するかまたはY2がニトロを表わすかまたはz+
 及び/またはz2が水素と異なるものである場合には
、寸だ水素を表わし;そしてR1はC1〜Cl2−アル
キルまたはベンゼン環上において′またC I−Cr 
t−アルコキシを表わす、 の四現式及び五犯式エステル類に関する。
本発明はまた上記式Iの化合物の製造、電子−光学目的
のだめその用途及び式Iの化合物を含む液晶混合物に関
する。
上記の定義において、「ベンゼン環」なる用語ケ、」:
、必要に応じて側面の(later’al)ハロゲン、
シアノまたはメチル置換基をもっp−フェニレンを表わ
ず。r)  C5L−はp−フェニレンを表わす。
「ハロゲン」なる用語はフッ素、塩素及び臭素を表わし
、そして「C1〜c3−アルギル」はメチノペエチル、
プロピル及びイソプロピルを表わす。
「C1〜C+p−アルキル」なる汀1語には直鎖状及び
分枝ψ)′1状のアルキル基、/191nn−アルギル
基、即ちメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンデル
、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウ
ンデシル及びドデシル並びにインアルキル基、即ちイソ
プロピル、イソブチル、インペンチル、イソヘプチル、
イソオクチル、イソノニル、イソデシル、インウンデシ
ル及びインドデシルが包含される。rc、=c、、−ア
ルコキシ」なる用語にはアルキル部分が上記の意味を有
するアルコキシ基が包含される。
側面の基Z’ % Z”及びz3は水素または、これら
が「単離したJ (isolaied)ベンゼyi、即
ち単一の共有結合を介して更に環(p−7エニレンまだ
ハトランス−1,4−シクロヘギシレン)と直接結合し
ていないp−フェニレンに結合している場合にt、Jl
、1だハロゲン、シアノもしく IJ、メチルを表わす
液晶は表示装置における誘電体として近年かなシ重要性
を増し、その理由を、1かかる物質の光学特性が印加電
圧によって影響され得るからである。
原品に基づく電子−光学装置は当業者には十分に知られ
−Cおり、該装置は種々な効果、例えば動的11に乱(
dynamic scattering)、整列した相
の変形(’ 1.) A、 P:タイプ)、シャット−
へルフリッヒ(Scl+ad t−1Te I f r
 felt)効果(回転セル)、「ゲスト−ホスト効果
J (”guest−1+nst  effe−c t
 ” )まだi、j、コレステリツクーネマテイク(c
ho−Icsteric−nematic)相転位に基
づくことができる。
通常、表示装置Hにおける液晶の静止操作(stati
c nperation)は過去においていわゆる多重
調節(multiplex control)  に大
幅に替えられてきた。この場合、振幅選択性多重法(a
mpliturle−selective n+olt
iplex prn−cedt+re)が主に用いられ
るが、しかしながら、はとんどの場合に通常用いられる
方法にょシ、約1:8乃至1:10の多重割合(III
LI I t ip tex、ratio)のみが達成
されている。液晶表示の調節においてより高い多重割合
を達成するために、従って2−周波数マトリックス・ア
ドレッシング法(two−frequency mat
rix addressingprocedure)が
提案されている(例えばドイツ国特許出願公開明細書第
2.856.1.34号及び同第2.907.940号
)。
この2−周波数法の場合には、低周波数電圧を印加した
際、誘電率の正の異方性(Δε=ε1、−ε工〉0、但
しε、1は分子の縦軸に沿う・誘電率を表わし、そして
ε工はこれに垂直な誘電率を表わす)を有する液晶の誘
電異方性が高周波数の場合に負である事実を利用してい
る。この効果は、液晶分子の炉軸の周シの分子の長軸の
回転の障害に帰因するC M、 5chad t 、 
Mo 1. CryS t 、 Liq。
Cryst、 66(1981)319−336]。ε
11に対比して、ε土の場合には、分散効果は極超短波
範囲内でのみ現われ、その理由rJ: 、その縦軸の周
シの分子のわずかな回転障害のためである。ここで重要
な周波数範囲においては、従ってε土は一定であシ、一
方ε、I及びまた従って△εは周波数従FXでおる。ε
1.=61での誘電率緩和周波数は「交す周波数J (
fc)として技術用語において表わされる。最も普通の
ネマテイク液晶は一般に室温で交す周波数約100K1
.z及びこれ以上を有する。
2−周波数法に従って表示装置を操作するために、二つ
の交流源を用い、これによって該電源の一方の周波羨(
は交す周波数以上でなければならず、そして他方の電源
の周波数は変す周波数以下でなければならない。更に、
スイッチオフ状態及びスイッチオフ状態に対するシグナ
ルの電圧比は成る値以上になければならない。仁の電圧
比が高ければ、それだけ多くの線を描くことができる、
即ち多重割合がよシ大である。
加えて、2−周波数法に+1、対応する交流電圧の印加
によって、スイッチオン−過程のみならず、またスイッ
チオフ−jl、1程に直接形17を及はし、これKよっ
てスイッチオン−過程の促進が達成される利点を与えZ
)。例えばねじれたネマティク構造(回転セル)をもつ
液晶表示素子の場合、均一に配向した液晶は低周波数(
f(、fc)の電圧の印加によって電場の方向に整列す
ることができ、そして高周波a&(f)fc)の1E圧
の印加によって再びねじれた均一配向に変えることがで
きる。
y4w1ゲスト−ホスト(guest−host)効果
[Appliedpl+ysics Letters 
33(1968)9 ] ; 、T、 App+、円す
S、45(1974’l、 なかでも4718j]lに
基づく液晶セルによって、正の誘電異方性をもつ液晶は
一般に着色した背量に無イベの像要素の読みのみに用い
るととができ、その理由は、通常の着色物質が正の二色
性(dichro−ism)を示すためである。ホメオ
トロピック壁配向(homentrnpi’c wal
l orientation)及び2−周波数法におけ
る調節(Cより、かかる液晶を用しうて無色の背景°に
着色1−7た像要素(高周波数電圧の印加により均一に
配向)を生じさせることができる。
[2かl−ながら、2−周波数法はエネルギー消費が多
い欠点を有し、その理由は、印加した変流電圧の増幅の
みならす、また周波数が高いためである。従ってエネル
ギー消費を減じるために、操作1L圧を低く保持し得る
ことが重要である。同様の理由によシ、交す周波数は比
較的小さくすべきである(これによって容量損失が小さ
くなる)。    □本発明における化合物tよ高い透
明点と共に大きな中間相(mesophase)範囲を
有することがわかシ、この光学的活性化合物(側鎖RI
に不斉炭素原子を含む)は一般にコレステリック中間相
を示し、そして残りの化合物は一般にネマティク中間相
を示す。更に1本発明における化合物は誘電率の大きな
異方性及び同時に極めて低い交、す周波数をもつことに
特色がある。更に本化合物は良好な化学的及び光化学的
安定性を有し、そして分子の大きさにもかかわらず、該
化合物は他の液晶中に極めて良好な溶解性を有する。
本発明における化合物は基本的に全ての液晶混合物に用
いることができ、これによって上記の特性に基づき、本
化合物は主として誘電異方性及び≧l明点増大に対して
適し7ている。しかしながら、本発明における化合物を
よ2−周波数法に従って調節される液晶誘電体の成分と
して特に適している。
上記式Iにおいて、環Bは好ましくけベンゼン環である
。好ましくIrJ:Z’ 、 Z2及びz3は水素を表
わずか、またはz’ 、z2及びz3の多くとも2個(
好ましくはz2及び7寸たけz R−)はまた塩素を表
わす。Xlは好ましくは単一の共有結合、エステル基−
000−またはp−フx = v :y ヲ表わず。y
lは好寸しくは水素、フッ素、塩素、シアンまたはメチ
ル、q′¥に水素、塩素またはシアノを表わす。¥2は
好ましくはシアノまだは二1・口を表わす。Ylが塩素
を表わし、そしてY2がシアノ寸たはニトロを表わす化
合物が特に好ましい。また、Ylが水素を表わし、そし
てY2が2.2−ジシアノ−1−メチルビニルを表わす
式Iの化合物も好ましい。一般にmAは好ましくはトラ
ンス−1,4−シクロヘキシレンヲ表ワす。
R’は好ましくは直鎖状のアルキルもしくはアルコキシ
基またはインアルキルもしくはイソアルコキシ基を表わ
す。R′によって表わされる特に好ましい基は直鎖状の
アルキル及びアルコキシ基、特に直鎖状のアルキル基で
ある。R1は好ましくは炭素原子3〜10個、殊に5〜
9個を含む。R1によって表わされる殊に好ましい基は
ペンチル、ヘキシル及びヘプチルである。
式Iの化合物の好ましい群は一般式 式中、B1、’xt及びy2it上記の意味を有し;X
lは単一の共有結合、エステル基−COO−または、X
2がエステル基−COO−を表わす場合には、またp−
C,Il、−1pC6H4Cll2CIb−1CIJ2
CL P CJL−1p−C6H4−COO−もしくは
−COOr)  C61−I4−を表わし;環Aはp−
フェニレンまたはトランス−1,4−シクロヘキシレン
全表わし;Z2は水素または、Xl及びX2がエステル
基−COO−を表わす場合には、また塩素を表わし:Z
3は水素オたは、Xl2がエステル基−C00−を表わ
す場合には、寸だ塩素を表わし;そしてYlはフッ素、
塩素、シアノ、メチルまたは、Xlがベンゼン環も(−
くけエステル基を有するかまたはY2がニトロを表わす
場合には、また水素を表わす、 の化合物からなる。
式■におけるXIは好゛士しく 4<↓単一の共有結合
、エステル基C00’! タtri p−フエニレンヲ
表ワす。現Aは好・目7くけトランス−1,4−シクロ
ヘキシレンを表わし、’F、−(、てZ’il好オしく
は水素を表わ−4−、。
本発明における好11.、い化合物の例は z2が水素
を表わし1、そしてR’、升りA、X’ XX’、7 
B 、NFI及びY2が第1表に示す意味CCnLハl
)−フ二一しンを表ワし、C6f■1oはトランス−1
,4−シクロヘキシレンを表わH7、そしてダッシュ(
−)は単一の共有結合を表わす〕を有する式■の化合物
並びに後記の実施例に命名しだ式Iの追加の化合9rI
である。
弐■の化合物は本発明に従えば、一般式式中、R’ 、
A、B、X’ 、X!、Z’、z2及びz8は式IK示
した意味を有する、のrj々またはその反応性誘導体を
一般式式巾、yl及びY2は式Iに示した意味を有する
、 のフェノールでエステル化し、そして必要に応じて、イ
与られる、Z’ % Z2またはz3が臭素を表わす式
■の化合物をシアン化銅(1)、シアン化ナトリウムま
たはシアン化カリウムと反応させることによって製造す
ることができる。
式■の酸まだはその反応性誘導体(例えば酸塩化物また
は無水物)の式■のフェノールによるエステル化を土そ
れ自体公知お方法に従って行うことができる。酸塩化物
(このものtま式Mの酸から、例えば塩化チオニルと共
に加熱して得られる)と式■のフェノールとの反応が好
まl〜い方法である。
この反応は゛不活性有機溶々す、例えばジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ベン
ゼン、トルエン、シクロヘギサン、四塩化炭素等中で有
利に行われる。反応中に遊だトする塩化水素を結合さぜ
るために、酸結合剤、例えば第三アミン、ピリジン等を
用いろことが有利である。酸結合剤を大過剰°r6で用
いることが好ましく、従って酸結合剤は同時に溶j’J
丑しての役割を果すことができる。温度及び圧力は臨界
的でtJ、なく、この反応L1、一般に大気圧及び室温
乃至反応混合物の沸点間の温度で行われる。
71、z!または2″がシアノを表わす式Iの化合物は
上記の方法で得ることができるが、これらは好ましくは
まず式1の対応するブロモ化合物を製造しく上記の如く
)、次にこのブロモ化合物をそれ自体公知の方法におい
て、シアン化銅(11、シアン化ナトリウムまたはシア
ン化カリウムによってシアン化合物に転化することによ
って芽1!造される。この反応は不活性有機溶媒、例え
ばエチレングリコール、テトラヒドロフラン、N−メチ
ルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、ピリジンまたはアセトニトリル中で有利に行わ
れる。ジメチルホルムアミド中にてシアン化jlil(
1)による反応が好1〜い。この反応を行う温度及び圧
力は臨界的でd二ない。反応は大気圧及び室温乃至反応
混合物の沸点間の温度で有利に行われる。
Y2が2,2−ジシアノビニルを表わす式■の化合物は
例えばジメチルホルムアミドによるビルスマイアー(V
ilsmeier)反応によって、オキシ塩化リンの存
在下において、3−Y’ −アニソールを4−メトキシ
−2−Yl−ベンズアルデヒドに転化し、次にメトキシ
基を加水分解しく例えばピリジニウムクロライドと共に
還流下で加熱し、ぞして続いて分留する)、次いで得ら
れた4−ヒドロキシ−2−Yl −ベンズアルデヒトヲ
マロノニトリルによるクネーフェーフェナーゲル(Kn
oevenage 1 )縮合によって(例えば沸騰ト
ルエン中の触媒量の氷酢酸及びi’it゛酸ナトリウム
の存在下において)、Y2が2.2−ジシアノビニルを
表わす式1vの化合物に転化することによって製造する
ことができる。式1vのグ見シの化合物1qi公知のも
のであるか、゛または公知の化合物の同族体である。
式Iの化合物は同様に公知のものであるか、または公知
の化合物の同族体でラシ、公知の方法に従って製造する
ことかで°きる。
X2がエステル基−COO−を表わす代置の化合物は、
例えば一般式 式中、Xlは単一の共有結合、エステル基−coo−、
エチレン基−CH2CH2−またはp−C6H4−1p
C6H4CH2CH2−1CH2CH!  I)  C
6H4、I)  C11H4COO−もし7くは−Co
o T)  C6Ti4を表わし、そしてTl’ 、A
%BN Z’及びz2は式IK示した意味を有する、 の化合物をジシクロへキシルカルボジイミド及び4−(
ジメチルアミノ)ピリジンの存在下におい−て、塩化メ
チレン中にて4−ヒドロキシ−2−23−ベンズアルデ
ヒドでエステル化し、そして生じたアルデヒドを、クロ
ム酸及び何「酸を用いるジョーンズ(Jones’)酸
化によって、対応する1弐藁の酸に転化することによj
) 5Fl造す゛ることかできる。
Xlがエチレン基−CH2CH2−を有し、そしてX2
が単一の共有結合を表わす式lの酸及びxlがエチレン
基−COO−を有する式vL7)1′42を製造する際
に、現の結合はフォークエットーシュロツサ−(Fou
quet−8chlosser)反応によって、または
ビツテイヒ(Wi t t ig)  反応によって有
利に行われる。例えば4−(ブロモメチル)−2−Z”
−ベンゾニトリル、4′−(ブロモメチ、ル)−4−ピ
フェニルカルボニトリル、トランス−4−(トシルオキ
シメチル)シクロヘキサンカルボニトリル等をジリチウ
ムテトラクロロクプレートの存在下において(4−R”
−2−Z’−フェニル)メチルマグネシウムブロマイド
、(トランス−4R1−シクロヘキシル)メチルマグネ
シウムブロマイド等と反応させることができ、そして得
られたニトリルを所望の酸に加水分解することができる
。更に例えば 4  RI’2  Zl−ベンズアルデ
ヒド、トランス−4−R′−シクロヘキザン力ルボキシ
アルデヒド等を塩基(例えばナトリウムメチレート)の
存在下において、(4−メトキシカルボニル−3−22
−フェニル)メチル−トリフェニルホスホニウムブロマ
イド、(41−メトキシカルボニル−4−ビフェニリル
)メチル−トリフェニルホスホニウムプロマイ)’等(
Z’ 及ヒZ”に1水素、シアノζ、シアノまたはメチ
ルを表わす)と反応させることができ、次に二重結合を
接触水氷添加することができ、そ(〜で最後にエステル
基をり°ン化することができる。
これらの反応に対して必要な出発物質は公知のものであ
るか、またはそれ自体公知の方法に従つて製造すること
ができる。例えば4−アルコキシ−2−Z’−アセトフ
ェノンをハロホルム分解(baJoform degr
adation)  によタテ4−フルコキシー2−2
1−安息香酸に転化することができ、そしてこのものを
水素化リチウムアルミニウムによる還元及び臭素化(例
えばテトラブロモエタン及びトリノエニルホスフィンに
よる)によって4−アルコキシ−1−(ブロモメチル)
−2−z 1−ベンゼンに転化することができる。2,
4−ジメチル安息香酸メチルから、例えばN−ブロモコ
ハク酸イミドとの反応、そして次に異性体分離によって
、4−(ブロモメチル)−2−メチル安息香酸メチルを
得ることができ、このものをOrg、 5ynth、 
Col 1. V、 825  と同様の方法で4−ホ
ルミル−2−メチル−安息香酸メチルに転化する仁とが
できる;アルギル−トリフェニルホスホニウムブロマイ
ド及び塩基との反応、そして続いて二重結合の接触水素
添加後に得られる4−アルキル−2−メチル安息香酸メ
チルを水酸化ナトリウムで酸にケン化し得るか、または
水素化リチウムアルミニウムによってアルコールに還元
し、このものを最後に臭化水素によって4−アルキル−
1−(7’ロモメチル)−2−メチルベンゼンに酸化す
るか、または二酸化マンガンによって4−アルキル−2
−メチルベンズアルデヒドに転化することができる。1
−アルキル−3−フルオロベンゼンを、例えばブチルリ
チウム及び二酸化炭素との反応そして次に加水分解によ
って4−アルキル−2−フルオロ安息香/’f9に転化
することができ、そ(2て1−アルキル−3−クロロベ
ンゼンまたは1−アルキル−3〜ブロモベンゼンを、三
塩化アルミニウムの存在下1(おいて塩化アセチルによ
るフリーデル−クラフッ(Friedel−craft
s) 7シル化そし7て次に次亜臭素酸による酸化によ
って、4−アルキル−2−(クロロまたはブロモ)安息
香酸に転化することができる;次に得られるこの酸を水
素化リチウムアルミニウムによってアルコールに転化す
ることができ、そし7てこのものを臭化水素によってブ
ロマイドに、・トだI:L二酸化マンガンによってアル
デヒドに転化することができる。
更に例えば、4−メチル−2−ZI−安息香酸をIN’
f 次Lm 化チオニル、アンモニア及ヒベンゼンスル
ホニルクロライドと反応させ、そして得られだ4−メチ
ル−22’−ベンゾニトリルをN−ブロモコハク酸イミ
ドによって4−(プロモメチル)−221−ベンゾニト
リルに転化することができる。
式■の化合物は他の液晶性まプζは非液晶性物質、例え
ばシッフ塩基、アゾベンゼンシ:目、アゾキシベンセン
類、フェニルベンゾエート類、シクロヘキサンカルボン
酸フェニルエステル類、シクロヘキサ/カルボン酸シク
ロヘキシルエステル類、ケイ皮酸誘シ、り体、ビフエ風
ル類、ターフェニル類、フェニルシクロヘキサン類、シ
クロヘキシルビフェニル類、フェニルピリミジン類、ジ
フエ、−、ルビリミジン類、シクロヘキシルフェニルピ
リミジン類、フェニルジオキサン類、2−シクロヘキシ
ル−1−フェニルエタン類等の群からの物質との混合物
の形態で用いることができる。かかる物質は当渠者にと
っては公知のものであり、更に、これらの・&〈のもの
は市販品である・。
L7かしなから、本発明における化合物は2−周波数法
に従って調節される液晶誘電体の成分として用いろこと
が好ましい。これらの液晶混合物は414寸しく It
’!I−3fItの成分A、B及びCからなり、その各
々は1種またはそれ以上の化合物を含、(X成分Aは多
くとも約40cpの粘度、少なくとも約40℃の透明点
及び約−2乃至約+1間の誘電異方性を有し、成分Bは
約−2よシ低い誘電異方性を有し、成分Cは約10よシ
高い誘電異方性、少なくとも約100℃の透明点及び2
0℃で多くとも約15KHzの全混合物における周波数
を有し、そして成分Cが少なくとも! (iの式■の化
合物を含有する。
かかる混合物は好まし−1〈は少なくとも成分A約30
重量係、成分B約3〜50重量%及び成分C約5〜40
重量係、殊に成分A約30〜87重量%、成分B約3〜
40重量%及び成分C約10〜30重量%からなる。全
混合物中の式■の化合物の付!:L有利には少なくとも
約1斤邦チ、好ましくは少なくとも約5N宛チである。
成分A、B及びCに対[〜て必要な」二重の特性を有す
る化合物及び混合物は基本的に当該分野に鞘通せる者に
とっては公知である。全混合物はネマテイクまたはコレ
ステリック特性をもたねばなら、ケい。成分Aはネマテ
イクまたはコレステリックであることができ、そして成
分Cはネマテイク、コレステリック寸たは、全混合vり
がスメクテイクならば、またスメクテイクであることが
できる。
成分A及びCtよ少なくともモノトロピック(mo−n
otropic)液晶特性をもたねばならない。しかし
ながら、少なくとも成分Cがエナンチオトロピック(e
nantintrnpic)液晶である混合物が好′?
lsシく、そし7て成分A及びCがエナンチオトロピッ
ク液晶である混合物が特に好神しい。(2かし々から、
本発明における混合物中の飼々の化合物及び成分Bは液
晶または非液晶性でを)ることかできるが、但し後者の
場合、全混合物の中間相範囲があ丑りきび1.<制限さ
れぬように注意ナベきであ成分Aとして適する化合物及
び混合物は広範囲で公知のものであり、またこれらの多
くのものが市販品である。次の化合物またはその混合物
が特に適当である: 式中、R’及びR4は炭素原子1〜8個を含ム直鎖状の
アルキル基を表わし、RJj:炭素原子1〜8個を含む
直鎖状のアルキルまたはアルコキシ基を表わし、そして
nは1または2であり;Iえ6はトランス−4−アルキ
ルシクロヘキシル、4′−アルキル−4−ビフェニリル
、p−(トランス−4−アルキルシクロヘキシル)フェ
ニル、2−()ランス−4−アルキルシクロヘキシル)
エチルもしくはp−(2−()う/スー4−アルキルシ
クロヘキシル)エチル〕フェニルを表わし、ナしてit
’はトランス−4−アルキルシクロヘキシルを表わす7
5=、またはR6はトランス−4−アルキルシクロヘキ
シルを表わし、そしてR7はp−(トランス−4−アル
キルシクロへキシル)フェニル、p−[2−()ランス
−4−アルキルシクロヘキシル)エチル〕フェニルもし
くは4’−()ランス−4−アルキルシクロヘキシル)
−4−ビフエニリルヲ表わすか、或いはR6はp−アル
キルフェニルを表わし、そしてR7はp−[2−()ラ
ンス−4−アルキルシクロヘキシル)工1′ チル〕フェニルを表わし、R6及びR7におけるアルキ
ル基は炭素原子1〜7個を含む直鎖状の基であシ;mは
数Oまたはlを表わし;記号X3及びX4の一つはエス
テル基−Coo−または−〇〇〇−を表わし、記号X3
、X4、Xl′及びX6の残シは単一の共有結合を表わ
すか、またはこれらの記号の一つはまたエチレン基−C
)J t CH2−を表わしi PJA ’及びAl1
は式 の基またはトランス−1,4−シクロヘキシレンを表わ
し;fiA’ 、A”及びA4は式’lの基を表わすか
、またはこれらが単一の共有結合によってこれらの環の
他の2個のうちの少なくとも1個と結合していないなら
ば、またトランス−1,4−シクロヘキシレンを表わし
:Y”は水素まだは、単一の共有結合を介し7て更に他
の項と結合してbない式Xffの玲の一つの上において
フッ素、塩素もしくはメチルを表わし7;そしてRI′
及びRI 2は炭沫周子1〜7個を含む直鎖状のアルキ
ルオたは、弐XIXの環トの炭素原子1〜7個を−(f
するアルコキシを表わす。
弐1π、■及びXV−X■の化合セフが特に好ましく、
式Vlの化合物が殊に好ましい。
適当な化合物または成分Bと[2て適当な化合物は例え
ば7.Chemie 17,333(1977)、J。
prakt、 (::hemieす51.221 (1
938)。
z、Chemie 6.467 (1966)及び1d
ol。
Cryst、 Liq、 Cryst、 25.299
 (1974)に記載されたピリダジン鍔導体、例えl
l−よフェニルピリダジン類及びジフェニルピリダジン
類並びに特にドイツ国11ツ許出願公開明細書第2.9
33.563°号及び同第2.937.700号に記載
さgだベンゼン環上に2個の側面シアノ基を有する化合
物である。特に好ましい化合物は一般式 式中、R8及びR4は炭素原子1〜8個を含む直鎖状の
アルキル基を表わし、そして環Cハp−フエニしノンマ
タはトランス−1,4−二置換されたシクロヘキサン環
を表わす、 ノシシアノフェニルエステル、−nz式式中中■也1g
及びR2Oは直鎖状のC1〜CB−アルキルもしくはま
た芳香族頂上の直鎖状のC1〜CI2  フルコキシを
表ワ−j75−.tたはl也1及びR2°の一つは一般
式 の基を表わし;X8及びX@は単一の共有結合を表わす
か、またはX8及びxD  の一つはまたエチレン基−
CH2CH2−を表4)シ;3]A’ 及ヒA’は1,
4−フェニルまたは、XsモL< tJ:X” カエチ
vy)、F; −CH2CH,−を表わす場合には、ま
たトランス−1,4−シクロヘキサン環 はiα鎖状のC1〜C1!−アルキルまたは芳香族環A
7上の直鎖状のCI〜C1,−アルコヤシを表わず、 のジシアノベンゼン並びIC一般式 式中、[也6は炭素原子1〜12個を含む直鎖状のアル
キルを表わし、RI′はアルキル、アルコキシ、p−ア
ルキルフェニル、p−アルキルフェニルまタハ)ランス
−4−アルキルシクロヘキシル基を表わし、そして■t
9におけるアルギル及びアルコキシ基は炭素原子1〜1
0個を含む直鎖状の基である、 のシクロヘキシルピリダジンである。
上記の成分Bの「誘電異方性」とは、非液晶成分の場合
、外挿した(実際の)透明点より10℃低い温度におけ
る誘電異方性の外挿値(この成分を含む液晶混合物によ
る)であることを理解されたい。例えば上記のピリダジ
ン類は約−9の誘電異方性を有する。
成分Cとして、例えば3個または4個のp−フェニレン
モジくハトランス−1,4−シクロヘキシレン基、有極
性末端基及び随時III而のハロゲンまたはシアン置換
基を含む化合物が適当である。
かかる化合物は一部公知であシ、そして例えば]”ln
1. (’rySt、 I、fq、 Cryst、 6
3. 129(1981)並びにドイツ国特許出願公開
明細■第スフ 36.772号、同第2.752.97
5号及び同第3,046,872号に配fiil?され
ていA0上記式Iの化合物及び/l”F &で好沖し、
いものとして基金U7た式1の化合qlt)iJ成成分
圧対するlIYに適当な化合物であることが卯、出され
た。これらの化合物は高い透明点、良好な安定(Iミ及
び一般に明白に10 Kl−I Z以下である交ザ周波
数と共に、大きなネマテイク゛またはコレステリック中
間相を有する。
0iに、交ザ周波数以下の周波数で、該化合物は大?!
な正の誘電異方性を有し、交す周波数以上の周波数で、
該化合物は大きな負の誘電異方性を有する。これら゛の
/ji:i性が2−周波数法に従って表示釦b″・tを
操作する際に、特に高い多重割合及び低いエネルギー消
費を可能にする。
式■の化合物に加えて、また一般式 式中、R1は水牛、フッ素、塩李、島素ま)χ(tシア
ノ基を表わし、¥4は2,72−ジシアノビニル、2,
2−ジシアノ−1−メチルビニルまた+tジシアノ表わ
り、、RIG及びEは一緒になってp  B 10  
フェニル、トランス−4−R10−シクロヘキシル1、
s/  RIG  4−ビフェニリル、p−(トランス
゛−4−LZ”−シクロヘキシル)フェニル、I) −
(5−R”−2−ピリミジニル)フモニル、−p −4
2−(p’−R10−フェニル)エチル〕フェニル、p
−[2−(トランス−4−R”−シクロヘキシル)エチ
ル〕フェニル、トランス−4−[2−(p−RlO−フ
ェニル)エチルコシクロヘキシル捷だはトランス−4−
[2−()ランス−4−14”−シクロヘキシル)エチ
ルコシクロヘキシルを表わし、そしてhtlGは炭素原
子1〜12個を含むiαα状状アルキル基寸たは、ベン
ゼンi:′?上の炭素原子1−12個を含む直鎖状のア
ルコ、■ン基を表わす、の化合物が成分Cに対し“C/
i’? k ’14当である。まだこれらの化合物は大
@なネマテイク中間相範囲、(Li:い父ザ周波数及び
大きな絶体誘1a異方性r有する。
20℃で多く吉も約10KH2の父す周波数をもつ本発
明における混合物が好ま【7く、そして多くとも約5 
KI−1z の交ザ周波数ケもつ混0ψ′°ηがIi+
=に好ましい。
木が3明における混合物は快だ(成分A、H及びCの成
分としての特性に応じて)光羊的活件化合q′□・g 
’(jltえはビフェニリル類及び/または二丁白、づ
土(dichroic)着色物チ゛を例えば、アゾ、ア
ゾキシ:、L<はアントラキノン着色φ′フタイ(を含
むことができZ)。かかる化合Qy+、、iの一ルシシ
1ニ溶解度、1ツ?ツlの色fit、!](pitch
)、色、吸光等によって決定される。ブ1′;学的活性
化合11・′I!の砦1:好ま[、、〈は多くとも約4
重(11チであシ、そ[2て二色着色物り′↓のJ4.
il二多くとも約10重号外であり、この’41.’、
+、全混合物を基準にしたものであるら 本発明における液晶混−f3物はそれ自体公知の方法に
おいて、例ズ、ば各成分の混合物をわずかに透明点以上
の温11(に加熱し、′tX、に誹混合物を冷却して少
j造することができろ。
寸た不発)Jlにおける混合物を含むt戊子−光学装置
の製造はそれ自体公知の方法において、例えば31′1
当なセルを空にし、そしてこの突にしたセル中に該混合
物を導入することによって行うことができZ)。
式、XWIの化合物1、新規のものである。これらのも
のは次の反応式1及び2にqll明した如くして製造す
ることができる:反応式中、R”はトランス−4〜アル
キルシクロヘキシル、4′−アルキル−4−ビフェニリ
ル、p−(トランス−4−アルキルシクロヘキシル)フ
ェニルif、fL2− (h ランス−4−アルキルシ
クロへキシル)エチル)ヲ表わし、そしてR16はトラ
ンス−4−アルキルシクロヘキシルを表わずか、R”は
トランス−4−アルキルシクロヘキシルを表わし、そし
て1tlllはp−();l’ンスー4−アルキルシク
ロヘキシル)フェニル、p−[2−()ランス−4−ア
ルキルシクロヘキシル)エチル〕フェニルt *h 4
 ’ −(トランス−4−アルキルシクロヘキシル)、
−4−ビフェニリルを表わずか、+B!>いはR”はp
−アルキルフェニルを表わし、そ(1,てR”はp−(
2−4)ランス−4−アルキルシクロヘキシル)エチル
〕フェニルを表わ12、it+3、■也14並びにR″
5及びlt ” Kおけるアルキル基t:1、Jjj 
M’ E’子1〜7個を含む直(+i′i状のアルキル
基で八7)。
反応式1における弐R”−CI−IOの化合物は公知の
化合物から簡単な方法で得ることができる;例えばトラ
ンス−4−アルキルシクロへキサンカルボキシアルデヒ
ドは対応する酸塩化物のローゼンムント(R,osen
mund)  還元によって得ることができ、そして残
シの化合物は対応するシアノ化合物を還元して得ること
ができる。
反応式2に従い、式XXXIVの化合物とグリニアール
試薬との反応によシ、式xxxvの化合物またtfR”
及びRI4が同一の意味を有す床式XVIIBの化合物
を直接得ることができる。式xxxtvの化合物1モル
当り少なくとも約2モルのグリニアール試恭を用いた場
合、一般に主として式xv+rnの化合q・′σが直接
生じ7−0 式Xvl′iの化合物i+また新規のものでJ)る。こ
れらQンもの(d:それ自体公知のエステル化法に従っ
て(例えば式Iの化合物の1“′L造と同様の方法で)
得ることかできる。式X■のエステルの製造に対して必
要な出発物質は公知のものであるか、またけ公知の化合
物の同族体であり、そして公知の方法に従って身′(造
することができる。
′また式L X+1の化合物は新)ζILのものである
。これらのもの(」、それ自体公知の方法において、(
a)  R”が直鎖状の01〜Cl2−アルキルまたは
式L■の基を表わす式L■の化合物を製造するために、
一般式 式中、R20は直鎖状のC1〜C,!−アルキルまたは
式L■の基を%、1つし、そしてR”、X”及び環A6
は上記の意味を有する、の化合物を酸化するか(例えば
ジオキサン中の2゜3−)クロロ−5,6−ジシアノ−
p−ベンゾキノンによシ、またはパラジウム触媒の存在
下においそ触媒的脱水素化によって)、 (h)  R”が直鎖状のC8〜CI!−アルキルまた
は式LVIIIの基を表わす式L■の化合物を製造する
ために、一般式 式中、R20は直鎖状のCI−Ct t−アルキルまた
は式L■の基を表わし、そし−CR111、X8 及び
環Aは上記の意味を有する、の化合11d71からシア
ン化水素を開裂させるか(例えばジメチルホルムアミド
中のフッ化セシウムによって)、或いは (c)l’j”が直<・vi状のCt 〜C127ルj
 キ’y を表わす式L ■Iの化合物を製造するため
に、一般式式中 1tlIOは直鎖状のC2〜Cl2−
アルコキシを表わし、そしてRI9、X8及び猿A6は
上記の意味を有する、 の化合物をジシアノアセチレンと反応させ〔ディールス
−アルダ−(、[)iels−AI(ter)反応、例
えばテトラヒドロフラン〕、そして次にエチレンを開裂
させる(例えば加熱によって)、 ことKよってπソ造することができる。
式IJの化合物は例えば一般式 式中、R″1XX’及び犯人〇は式LIXに示した意味
を有する、 のアルデヒドをブチルリチウムの存在下においてジエチ
ルエーテル中で一般式 式中、R20は式LIXに示した意味を有する、のホス
ホニウム塩と反応させ、そして得られるジエンをテトラ
ヒドロフラン中のジシアノアセチレンによるディールス
−アルダ−反応によって式T、IXの化合物に転化する
ことによって得ることができる。式LXIIの化合物及
びX8が単一の共有結合を表わす式IJIの化合物t:
1.公知のものであるか、または公知の化合物の同族体
である。X8がエチl/ン基を表わす式LMの化合!l
fv tit: 、例えばj(”が11j−のE142
有結合全表わす式LXIIの対応する化合物を(CeI
Ia)s P=CHC00Cd(sと共にベンゼン中に
て還流で加熱シ2、生ずるα、β−不飽和エステルをパ
ラジウム触媒の存在下においてエタノール中で接触水素
添加し、得られるエステルをジエチルエーテル中にて水
素化リチウムアルミニウムで還元し、そし、て得られる
アルコールを塩化メチレン中にてピリジニウムクロロク
ロメートで所望のアルデヒドに酸化することによって得
ることができる。
式LXの化合’l?<rは、例えf□J二式LxIIの
アルデヒドをブチルリチウムの存在下1おいて、無水ジ
エチルエーテル中で式LXIのホスホニウムFm トI
v 応すせ、そして?)られるジエンをジエチルエーテ
ル中にてテトラシアノエチレンによるディールス−アル
ダ−反応によって式T、Xの化合ql)tに転化して製
造することができる。
式LXI(7)化合’IfQil−1、例えば一般式式
中、fttoは直鎖状のC1〜Cl2−アルコキシを表
わし、そしてRI G 、x 8及び環A6は式LVl
[に示した意味を冶する、 の化合!1ηをリチウム及び液体アンモニア(好ましく
1、ジエチルエーテル/エタノール温合物中)で還元す
ることによって製造することができる。一般に1.4−
ジエンまたtよ1,3−ジエン(式L XIの化合物)
及び1.4−ジエンの混合物が得られる。1.3−ジエ
ン−\の異性化tよ、例えば2゜3−ジクロロマレイン
酸無水物を用いて行うことができる。との異性化は好t
 L、 < iJ続いてのディールス−アルダ−反応〔
方法(C)〕に対して、]二記の還元にお込て得られる
生成物を直接部用]7、そ1、て反応混合物に2,3−
ジクロロマレイン酸族7k !l:5tを力11え2.
ことによって行われる。
4=だ式XXIの化合qfりも新規のものでJ)る。こ
九らのものにしそれ自体公知の方法においで、(a) 
 R” がフルキル、p−アルキルフェニル、p−アル
コキシフェニルまりi、J:)ランス−4−アルキルシ
クロヘキフル基を表わす式、Xxlの化合物を?Jl造
するために、一般式 式中、R′7妓アシアルキル−アルキルフェニル、p−
アルコキシフェニル’! タtt:’r、 ) ランス
−4−アルキルシクロヘキシル基ヲ表わし、r R”に
おけるアルキル及びアルコキシ基は炭素原子1〜10個
を含む直鎖状の基であシ、そしてR8は上記の意味を有
する、   ゛ の化合物または互変異性ジヒドロピリダジンを酸化する
か(例えばジオキサン中で2.3−ジクロロ−5,6−
ジシアノ−p−ベンゾキノン、氷酢酸及びエタノール中
で亜硝r1′1ナトリウム、氷酢酸中で亜硝酸イソペン
チルによるか、または好ましくはパラジウム、白金等に
よる触媒的脱水素化による)、或いは (bl  R’がアルコキシ基を表わす式XXIの化合
物4:jp+4造するために、一般式 式中、X7は塩素または臭素を表わし、そしてR8は上
記の意味を有する、 の化合物′をアルカリ金属アルコレート(例えばナトリ
ウムメチレート)と反応させる、ことによって製造する
ことができる。
式XXx■の化合物をジヒドロピリダジン環における工
賃結合の移動によって互変異性化合物に転位させること
ができる。かかる転位を例えば徽旦の酸または塩基の存
在下においてもたらすと々ができる。しかしながらまた
、互変界性ジヒドロビ19.妬より、。、、1.□ア、
。。イ、。2カ、ヤイ。
され得るだめに、式x x x ■の化合物のみならず
、また互変jn性ジヒドロピリダジンまたはかかる化合
物の混合物も方法(alに従つfi 7ij応さぜるこ
とができる。
式XXXVI及びX X X vllの出発物質(りL
新規のものである。これらのものは次の反応式3〜6に
示した如くしてぞ・ソ造することができる;反応式中、
R8、n17及びX7は上記の意味を有し1、そしてR
′8は炭素原子1〜10飼を含む直鎖状のアルキルまた
をよアルコキシ基を表わす。
反応式3 反応式4 反応式5 vLu                      
IL反応式6 %式% 式XXXI 、 XLl 、 vLn−、L I及びL
ll(D出発物質は公知のものであるか、寸たは公知の
化合物の同族体であシ、ぞして公知の方法において製造
することができる。例えば式L+のアルデヒドは式Xx
x■の酸塩化物のローゼンムント還元によって製造する
ことができる。
式XL、VLIIIまたはLの化合物にアルデヒドの伺
加はステツタ−(St、etteto)〔Chem、 
Bttr。
114(1981)581〕の方法に従い、1゜3−チ
アゾリウム塩触媒の存在下において行うことができる。
式L+のアルデヒドまたはR17がア・ルキルマタハ)
ランス−4−アルキルシクロヘキシルを表わす式xLI
 のアルデヒドの付加に対して好ましい触媒は3−ベン
ゾルー5−(2−ヒドロキシエチル)−4−メチル−1
,3−チアゾリウムクロライドでアシ、そしてノ?1?
がp−アルキルフェニルまたはp−アルコキシフェニル
ヲ表ワす式xLt のアルデヒドの付加に対して好まし
い触媒は3,4−ジメチル−5−(2−ヒドロキシエチ
ル)−1,3−チアゾリウムアイオダイドである。
式L■の化合物と式X X X ’+iの化合物とのカ
ップリンクは佐原(T、 5ato )等によ、!7B
ull。
Chtym、  Soc、  Japan 54 (1
981) 505に記載された方法に従って行うことが
できる。
上記の如く、まだ式XXX■の化合物は互変異性体型ま
たは異性体型の混合物として存在することができる。
式xxn の化合物は一部新規の化合物である。
これらのものは式1の化合物と同様の方法においてエス
テル化しで製造することができる。式XX1fの化合物
の製造に対して必要な酸は反応式7に示した如くして得
ることができる;反応式中、R2、R10及びEは上記
式XXII VC示した意味を有する:式xxm及びx
X■ の化合物は公知のものであるか、捷たはそれ自体
公知の方法に従って製造することかできる。
本発明はまた全ての新規化合物、混合物、製法、用途及
び本明細壱:に述べlこ如き装置に関する。
以下の混合物実施例及び製造実施例において、Cは結晶
相を表わし、Sはスメクテイク相を表わし、Nはネマテ
イク相を表わし、CILはコレステリ゛ツク相を表わし
、ぞしてIはイントロピック相を表わず。f は交す周
波数を表わし、△ε1は低周波数〔[静止J (5ta
tic )]誘電異方性(明らかに交す周波数より低い
周波数で測置)をり1<わし、△ε/Lは高周波数誘電
異方性(明らかに交ザ周波数より商い周波数で測定)を
表わし、そしてηは粘度(バルク粘度)を奴わす。
次の混合物実施例は2−周波数法に従って調節する際に
適する本発明における好ましい混合物の例である。成分
A、E及びCに対する全混合物の個々の成分の1力係は
詳細にすでに示し7だ通りである。
混合物実施例1 トランス−4−ブチルシクロ−、キザンカルポン酸p−
エトキシフェニルエステル11.4 重量%、トランス
−4−ブチルシクロへギサンカルがン酸p−ペンチルオ
キシフェニルエステル16.0 重量%、 トランス−4−ペンチルシクロヘキサンカルボン酸p−
メトキシフェニルエステル10.3i(4%、トランス
・・4−ペンチルシクロヘキサンカルビン11117)
−fロピルオキシフェニルエステル12.4i1441
.96. 2−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−
(7)−エトキシフェニル)エタン?、0iiH%、 3−プロピル−6−()ランス−4−エチルシクロヘキ
シル)ピリダジン2.8重51%、3−プロぎルー6−
()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ピリダジン
6.974i%、3−プロピル−6−()ランス−4−
へグチルシクロヘキシル)ビリダン24.4重量%、3
−ペンチル−6−()ランス−4−ペンチルシクロヘキ
シル)ピリダジン88重量%、4′−へキシル−4−ビ
フェニルカルボン酸3−クロロ−4−r(3−クロロ−
4−シアノフェノキシ)カルデニル〕フェニルエステル
10. Olii%、 4′−へグチル−4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ
−4−〔(3−クロロ−4−シアノフェノキシ)カルボ
ニル〕フェニルエステル1’ o、 o 重量%; 融点(c−N)<o℃、透明点(#−1)73℃;f、
(22°C) = 3.4 kllz、Δε、(22℃
)=8.24.△εh(22℃)=−4,48;η(2
2℃)=T3cp0 混合物実施例2 トジ/スー4−ブチルシクロヘキサンカルボン酸p−エ
トキシフェニルエステルto、o重量%、トランス−4
−fチルシクロヘキサンカルボン酸p−ペンチルオキシ
フェニルエステルxto重z%、 トランス−4−ペンチルシクロヘキチンカルデン酸p−
メトキシフェニルエステル9.(Ft量%、トランス−
4−ペンチルシクロヘキサンカルビン酸p−プロピルオ
キシフェニルエステル1O19重量%、 2−(、):5ンスー4−ペンチルシクロヘキシル)−
x−(p−エトキシフェニル)エタン6.1重量%、 3−プロピル−6−():17ンスー4−エチルシクロ
ヘキシル)ピリダジン4.0 重i%、3−プロピル−
6−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ピリダ
ジン9.6 重量%、3−プロピル−6−()ランス−
4−ヘプチルシクロヘキシル)ビリダソン6.14量%
、3−ペンチル−6−()ランス−4−ペンチルシクロ
ヘキシル)ピリダジン12.3重量%、4′−へブチル
−4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ−4−〔(a−
クロロ−4−′シアノフェノキシ)カルボニル 4′−へキシル−4−ビフェニルカルボ723−クロロ
−4−r(a−クロロ−4−二トロフエノキシ)カルy
l’ニル〕フェニルエステル6− 0 ’Mik%、4
′−へブチル−4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ−
L−r(3−クロロ−4−ニトロフェノキジノカルボニ
ル〕フェニルエステル6、0ffii%;融点(c−N
)<o℃、扉明点(#−4)63℃。
混合物実施例3 トランス−4−ブチルシクロヘキサンカルボン酸p−エ
トキシフェニルエステル1 1)、 2 重量%、トラ
ンス−4−ブチルシクロヘキサンカルボン酸p−ペンチ
ルオキシフェニルエステル1 4. 3 重量%、 トランス−4−ペンチルシクロへギサンカルデン酸pー
メトギシフェニルエステル9. 2 ffl量%、トラ
ンス−4−ペンチル7クロへギザンカルポンt?+i2
 7) − 7’ロビルオキ7フエニルエステル1 1
. 1 −瓜λ14%、 2−():17ンスー4−ペンチルシクロヘキシル)1
−(p−エトキシフェニル)エタン6、2−i−l1%
、 4−ペンチル−1−(トランス−4−プロビルンクロヘ
キフル)ベンゼン9. 1 重量%、3−プロピル−6
−()ランス−4−エチルシクロ−\キシル)&リダジ
ン2.6 N 量%、3−プロピル−6−()ランス−
4−ペンチルシクロへ片シル)ピリダジン6.3重量%
、;(−プロピ°ルー6−(トランス−4−ヘプチルシ
クロヘキシル)ピリダジン4,0重量%、:3−ペンチ
ル−6−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ピ
リダジン80重量%、4’−へブチル−4−ビフェニル
カルボン酸3−タロロー4’、−[(p−シアノフェノ
キシ)カルボニル〕フェニルエステル4.5 ’ff1
J%、y+−[2−()ランス−4−ヘゲチルシクロヘ
キシル)エチル] 安息香酸3− クロロ−4−〔(、
、p−シアノフェノキシ)カルボニル〕フェニルニスデ
ル4.5重量%、 71− r 2− () 5ンスー4−ヘプチルシクロ
ヘキシル)エチル〕安息香酸3−クロロ−4−[(p−
(2,2−S/シアノ−1−メチルビニル)フェノキシ
)カルボニル〕フェニルエステル3.6重i%、 4′−へブチル−4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ
−4−[(310ロー4−シアノフェノキシ)カルボニ
ル〕フェニルエステル6.4:ii%;融点(c’−N
)<o℃、透明点(#−1) 70℃;/、(22℃)
 = 3 k 11 z 、△εI (22℃)−4,
39,△εh(22°G)=−4,0゜混合物実施例4 トランス−4−ブチルシクロヘキサンカルビン酸p−−
1−)キシフェニルエステル9.49 重量%、トラン
ス−4−ブチルシクロヘキサンカルビン酸p−ペンチル
オキシフェニルエステル13.36重  、量%、 トランス−4−ペンチルシクロヘキサンカルボン酸p−
メトキシフェニルエステル8.58重量%、t=ランス
−4−ペンチルシクロヘキザンカルボン#’tp−プロ
ピルオキシフェニルエステル10.36距11:%、 2−(トランス−4−ペンダ・ルシクロヘキシル)−1
−(p−工l・キシフェニル)エタン5.83重量9σ
、 4−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4’
  −r2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)
エチル〕ビフェニル4.77 重量%、3−プロピル−
6−(+・ランス−4−エチルシクロヘキシル)ピリダ
ジン3.76 重ffH1%、3−プロピル−6−(、
’)ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ピリダジン
9.15 重z%、3−ペンチルー6−()ランス−4
−ペンチルシクロヘキシル)ビリダソン11.71重量
%、3−プロピル−6−()ランス−4−へブチルシク
ロヘキシル)ピリダジン5.86重量%、4′−へキシ
ル−4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ−4−[(3
〒、クロロ−4−シアノフェノキシ)カルボニル〕フェ
ニルエステル5.71]ii%、 4′−へブチル−4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ
−4−[(31’ロロー4−シアノフェノキシ)′カル
ボニル〕フェニルエステル5.71ii%、 4′−へキシル−4−ビフェニルカルデン酸3−クロロ
−4−[(3−クロロ−4−ニトロフェノキシ)カル日
?ニル〕フェニルニスデルs、 71 重は%; 融点(C−N)<−10℃、・秀明点(N−))73.
7°Gi/  (22℃) = 3.5 k if z
 、 △t 。
(22°G)=5.22.△εh(22°G)=−5,
2;η(22℃)=67.4cp0 混合物実施例5 l・ランス−4−ブチルシクロヘキサンカルボン酸7〕
−エトキシフェニルエステル5.40重f、%、トラン
ス−4−ペンチルシクロヘキサンカルボン1Ii12p
−メトキシフェニルエステル4.9s、tft%、トラ
ンス−4−−!ンチルシクロヘキザンカルがンj□疫p
−プロビルオキシフェニルエ゛ステル8.35を月、九
、 トランス−4−ペンチルシクロヘキサンカルボン酸トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシルエステル9.06i
量%、 2−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−
(p−エトキシフェニル)エタン13.42重社%、 1−C2−C)yシス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チルl −4−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)4ンゼン6.45 重flJ1%、4−()ランス
−4−ペンチルシクロヘキシル)−4”−[2−()ラ
ンス−4−ブチルシクロヘキシル)エチル〕ビフェニル
4.76重i%、3−プロピル−6−()ランス−4−
エチルシクロヘキシル)ピリダジン3.76重−i%、
3−プロピル−6−()ランス−4−ペンチルシクロヘ
キシル)ピリダジン9.15重量%、3−ペンチル−6
−()’ランスー4−づンチルシクロヘキシル)ビリメ
ソ211.フ2重量%、3−プロピル−6−()ランス
−4−へブチルシクロヘキシル)ピリダジン5.85重
量%、4′−へキシル−4−ビフェニルカルボン酸3−
クロロ−’4−[(3−クロロ−4−シアノフェノキシ
)カルボニル〕フェニルエステル5.71ii%、 4′−へキシル−4−ビフェニルカルダン酸3−クロロ
−4−〔(3−クロロ−4−ニトロフェノキシ)カルボ
ニル〕フェニルエステル5.71Ji量%、 4′−へグチル−4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ
−4−[(a−クロロ−4−二トロフェノキシ)カルデ
ニル〕フェニルエステル5.71 重37710I h、虫点(C−N)<−10’C,透明点(N−1)7
0.1℃纂f (22℃)=:2.5kffz、△ε1
(22℃)=5.2.Δεh(22℃)、=−5,2;
η(22℃) = 65 (j’l’。
混合物実施例6 トランスー4−ブチルシクロヘキサンカルボン酸p−エ
トキシフェニルエステル8.48i量%、トランス−4
−ペンチルシクロヘキサンカルボン酸p−メトキシフェ
ニルエステル7、77 重[1%、トランス−4−ペン
チルシクロヘキサンカルボン?ン1Jt7)−プロビル
オ即ジフェニルエステル13.11負袖%、 トランス−4−ペンチルシクロヘキサンカルボン酸トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシルエステル14.22
重量%、 2−()?シス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−
(p−エトキシフェニル)エタン2+、1.’、05重
量%、 1−(2−’()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)
エチル)−4−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)ベンゼンio、t2重量%、4−()ランス−4−
ペンチルシクロヘキシル)−4’−〔2−()ランス−
4−プチルシクロヘギシル〕エチル〕ビフェニル2.9
1重置火、3−プロピル−6−()ランス−4−エチル
シクロヘキシル)ホリダジン0.60 重量%、3−プ
ロピル−6−()9ンスー4−ペンチルシクロヘキシル
)ピリダジン1.46fii%、3−−eフチルー6−
(トランス−4−ベンチルシクロヘキシル)ピリダジン
1.86重置火、3−プロピル−6−()ランス−4−
へブチルシクロヘキシル)ビリダグ20693重景%、
4′−へキシル−4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ
−4−r(31’ロロー4−シアノフェノキシ)カルボ
ニル〕フェニルエステル5.8374i4′−へキシル
−4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ−4−[(3−
クロロ−4−ニトロフェノキ7)カル日?ニル〕フェニ
ルエステル5.83 ’fl景%、 4′−へグチル−4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ
−4−((3−クロロ−4−ニトロフェノキ7)カルボ
ニル〕フェニルエステル5.83%;融点(C−N )
、<−1−0℃、透明点(N−,1)85.1℃;f 
 (22°G)=2kllz 、6g。
(22℃)=5.2.Δt h (22℃)=−2,2
;η(22°G)=:55C7)0 混合物実施例7 1・ランス−4−プチルシクロヘキザンカルボン酸p−
エトキシフェニルエステル5.8 FI 重fp°%、
トランス−4−ペンチルシクロヘキサンカルメン酸p−
メトキシフェニルエステル539重fJ、%、トランス
−4−ペンチルシクロヘキサンカルがン酸p−プロピル
オキシフェニルエステル9.09i量%、 トランス−4−ペンチルシクロヘキチンカル?ン酸トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシルエステル9.86重
量%、 2−(1−ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1
−(7)−工l・キシフェニル)エタン14.61重量
%、 X−[2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル] −4−(’ )ランス−4−ペンチルシクロヘ
キシル)ベンゼンr、o2重量%、4−()ランス−4
−ペンチルシクロヘキシル)−4’−[2−()ランス
−4−ブチルシクロヘキシル)エチル〕ビフェニル7.
41重量%、3−プロピル−67()ランス−4−エチ
ルシクロヘキシル)ピリダジン3.66重量%、3−ブ
ロール−6−(トランス−4−−!ンチルシクロヘキシ
ル)ビリダソン8.90重量%、3−ペンチル−6−(
)ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ぜリダジン1
1. a 9 重量%、3−プロピル−6−()?ンス
ー4−ヘゾチルシクロヘキシル)ビリダソン5,69重
量%、4′−へキンルー4−ビフェニルカルがン酸3−
クロロ−4−〔(3−クロロ−4−シアノフェノキシ)
カルボニル〕フェニルエステル3.70 重51%、 4′−へキシル−4−ビフェニルカルデン酸3−クロロ
−4−[(3−クロロ−4−ニトロフェノキシ)カルボ
ニル〕フェニルエステル&?Oi量%、 4′−へグチル−4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ
−4−[(3−クロロ−4−ニトロフェノキシ)カルデ
ニル〕フェニルエステル3.70重IL%; 融点(C−N)<−10℃、透明点(#−1)70.0
℃、/  (22°G)=3&uz、、Δg1(22°
G)=2.2.Δεh(22°C)=75.2;η(2
2℃)−=5567)0 以下の実施例は式!の化合物の製造及び出発物質の製造
を説明するものである。
実施例1 2−クロロ−4−[〔p−(p−へキシルフェニル)ベ
ンゾイル〕オキシ〕安息香酸11.4Fをベンゼン10
0me中で塩化チオニル5.35 fと共に2.5時間
加熱沸騰させた。溶媒及び過剰量の塩化チオニルを真空
下で留去し、残渣をトルエン各50m/に2回採シ入れ
、そして各々の場合KaA縮した。
得られた粗製の2−クロロ−4−[[p−(p−へキシ
ルフェニル)ベンクイル〕オキシ〕ペンゾイルクロジイ
ドをベンゼン250mI!にf[し、次にピリジン10
〇−中の3−クロロ−4−シアノフェノール4. Of
の溶液に滴下した。この混合物を浴温65℃で一夜攪拌
し、次に氷冷した希釈j1酸に注ぎ、ソエチルエーテル
で抽出した。抽出液を3N塩酸で数回洗浄し、次に水で
洗浄して中性にし、乾燥し、そして蒸発させた。得られ
た粗!i%)4’−へキシル−4−ビフェニルカルボン
酸3−クロロ−4−[(3−クロロ−4−シアノフェノ
キシ)カルボニル〕フェニルエステルをシリカケ゛ル上
でトルエン/ジクロロメタン(1:1)によってクロマ
トグラフィーにかけた。薄層クロマトグラフィ。−によ
れば実質的に純フ2クション(s、2y)を酢酸エチル
から1回、そして酢酸エチル及び少量のヘキサンから1
回再結晶しだ;融点(C−A7)9sて〕、透明点(N
−1) 235℃。
出発物質として用いだ2−クロロ−4−〔Cp−(p−
へキシルフェニル)ベンゾイル]オキシ〕安息香酸は次
の如くして製造した: ((L)  N 、 N ’−ジシクロへキシルカルボ
ソイミド37.2 S’をジクooメタン150Ome
中の4′−へキシル−4−ビフェニルカルボン1154
5.2F。
2−クロロ−4−ヒドロキシベンズアルデヒド23、5
 F及び4−(ジメチルアミノ)ピリジン1.52の混
合物に10分以内に一部づつ加えた。
この混合物を室温で3時間(vL拌し、次に沈殿し九N
 、Ml−ヅシクロへキシルウレアを吸引炉別した。ろ
液を2N水酸化ナトリウム溶液各200 mlで2回洗
浄し、水苔200m1!で4回洗浄し、硫酸ナトリウム
上で乾燥し、濾過し、そして!lJ縮した。
(6)  得られた粗製の2−クロロ−4−[[F−(
7)−へキシルフェニル)ペンソイル〕オキシ〕ベンズ
アルデヒド(67,12)ヲアセトン2500meVc
溶解した。この溶液にジョーンズ試薬8〇−を45分以
内に滴下し、混合物はいくぶん昇温した。この混合物を
更に3時間攪拌し、次に沈殿した無機物質を吸引炉別し
、アセトンを回転蒸発機で留去した。残渣を水に懸濁さ
せ、この懸濁液を吸引濾過した。得られた粗製の2−ク
ロロ−4−r、 にp −(p−ヘキシルフェニルオキ
シ〕安息香酸をフィルター上で水で洗浄して中性にし、
次に精製するプζめに、メタノールと共に沸几ンさせ、
冷却し、炉別し、そして乾燥し2だ。
収F:i:s 8. 5 ’I’H融点163.8〜1
 6 5. 5℃。
次の化合物を同様の方法で製造した: 4′−へフチルー4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ
−4−[(a−クロロ−4−シアノフェノキシ)カルボ
ニル〕フェニルエステル;融点((1’−7V)95’
″C1透明点(N− 1 ) 2 2 9℃;4/−へ
グチル−4−ビフェニルカルボン酸p二〔(3−クロロ
−4−シアノフェノキシ)カルがニル〕フェニルエステ
ル; 融点( C − A’ ) 1 1 2℃、透明
点(N−1)289°C; 4/−(ペンチルオキシ)−4−ビフェニルカルボン酸
3−クロロ− シアノフェノキシ)カルボニル〕フェニルエステル;融
点(C−A’)115.5℃、透明点(N− 1 )2
72°C; 4′−へブチル−4−ビフェニルカルボン酸3−le+
o−4−〔(a,4−ジシアノフェノキシ)カルがニル
〕フェニルエステルiFi(’II点((1’−#)1
46℃、透明点(N− 1 > 2 1 1.、5°C
;4’−ヘプfルー4−ビフェニルカルボン酸p−〔(
a、4−yシアノフェノキシ)カルボニル〕フェニルエ
ステル;融点(C−A’) 162℃、透明点(N−1
)266.5°C; 4′−ペンチルー4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ
−4−C(4−ニトロフェノキシ)カルボニル〕フェニ
ルエステル;融点(c −N ) 124℃、透明点(
A’i)>290°C; 4′−へフチルー4−ビフェニルカルボン酸3−クロ“
ロー4’−C(’4−ニトロフェノキシ)カルボニル〕
フェニルエステル; )%’l1点((1? −A’ 
) 96.5℃、透明点(N−1)>280℃; 4′−へキシル−4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ
−4−[(3−クロロ−4−ニトロフェノキシ)カルボ
ニル〕フェニルエステル;融点((”−A’)94℃、
透明点(#−I)203℃;4′−へブチル−4−ビフ
ェニルカルボン酸3−クロロ−4−((3−クロロ−4
−ニトロフェノキシ)カルボニル〕フェニルエステル;
融点(C−# ) 102.5°C1琲明点(N −1
) 199.5℃; 4′−へキシル−4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ
−4−((3−メチル−4−シアノフェノキシ)カルボ
ニル〕フェニルエスヴール5lWi点(C−#)110
”c%送明点(A’−7)237℃;4′−へフチルー
4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ−4−[(3−ノ
ブ−ルー4−シアノフェノキシ)カルボニル〕フェニル
エステル;融点(C−N)101.5℃、透明点(N−
1)232℃; 4′−へキシル−4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ
−4−[(3,4−−/シアノフェノキシ)カルデニル
]フェニルエステル;融点(C−A’)145℃、透明
点(N−1) 219℃。
実施例2 塩化チオニル25m/中の4”−ペンチル−4−ターフ
ェニル−47−カルボン酸2,6fの懸渇液を2.5時
間加熱沸騰させた。次に塩化チオニルを留去し、残渣を
トルエン各50meに2回採シ入れ、ぞし−C各々の場
合に濃縮した。
得られた粗製の4“−ペンチル−4−ターフェニル−4
′−カルボニルクロライドなベンゼン50meに溶解し
、次にビリソン30me中の3−クロロ−4−シアノフ
ェノール1.15 fのh ’ME K 滴下した。こ
の混合物を攪拌しながら70℃の油浴で加熱し、次に氷
水に注ぎ、ジクロロメタンで抽出した。抽出液を3N塩
酸で数回洗浄し、次に2N炭酸す) IJウム及び水で
洗浄し、乾燥し、ぞして蒸発させた。得られた粗製の4
7−ペンチルー4−ターフェニル−4′−カルビン酸3
−クロロー4−シアノフェニルエステルをシリカダル上
でトルエン/ジクロロメタン(4:1)によってクロマ
トグラフィーにかけた。fv層クロマトグラフィーによ
り実質的に純フラクションを酢酸エチルから2回再結晶
した:収が12.3f;融点(C−N)161℃、透明
点(N−1) 299℃。
実施例3 実施例1に述べた方法と四杼にして、2−クロロ−4−
[[p−(p−へブチルフェニル)ベンゾイル〕オキシ
j安息香酸及び3−クロロ−4−(2,2−Nシアノビ
ニル)フェノールから、4′−へブチル−4−ビフェニ
ルカルボン酸3−クロロ−4−r(a−クロロ−4−(
2,2−ジシアノビニル)フェノキシ)カルボニル〕フ
ェニルエステルを製造した;融点((、’ −A’ )
 120.5℃、透明点(#−I)240.5°に。
出発物質として用いた3−クロロ−4−(2゜2−ジシ
アノビニル)フェノールハ次の如くシテ1゛シ1造した
: 3−クロロ−4−ヒドロキシベンズアルデヒド3.2t
、マロノニトリルi、 6. W % 酢酸アンモニウ
ム0.31グ、氷酢酸0.23 F#<及びトルエン1
00m/!の混合物を水分離器を付けて一夜加熱沸騰さ
せた。この混合物を放冷し、生成物が一部沈殿した。
沈殿した生成物をジエチルエーテルで希釈して溶液にし
た。次にこの混合物を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し
、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そして濃縮した
。残渣を熱トルエンに溶解し、溶液を濾過した。融点1
61〜162℃の3−クロロ−4,−(2、2−ジシア
ノビニル)フェノール3.2gがr液から液晶した。
実施例4 実施例IK述べた方法と同様にして、環Aがトランス−
1,4−シクロヘキシレンヲ表ワシ、Xlがエチレン基
−CB、C1l、−を表わし、そして屓Bがp−フェニ
レンを表わす式!の化合物を製造することができた。
出発物質として用いたカルボン酸は、p−[2−()ラ
ンス−4−へブチルシクロヘキシル)エチル〕安息香、
rsrtr、対して次に述べた如くして製造することが
できだ。
エチレングリコール500m(!中のp−C2−(トラ
ンス−4−へブチルシクロヘキシル)エチルベンゾニト
リル21.3 f及び水酸化カリウム(85%)14.
Ofの溶液を8時間加熱沸騰させた(浴温210℃)。
冷却彼、混合物を水に注ぎ、3N塩酸で酸性にした。沈
殿したp −[:2− (トランス−4−へブチルシク
ロヘキシル)エチル〕安息香酸を吸引p別し、吸引フィ
ルター上で水によって洗浄し、次にジエチルエーテルに
採シ入れた。この溶液を硫酸ナトリウム上で乾燥し、そ
して蒸発させた。薄層クロマトグラフィーによシ純生成
物22.9Fが得られた;融点184〜187′(六透
明点220〜223℃。
実施例5 実施例1に述べた方法と同様にして、環Aがp−フェニ
レンを表わし、xlがエチレン基−C1l、CM、−を
表わし、項Bがトランス−1,4−シクロヘキシレンを
表わし、そしてX2がエステル基−COO−を表わす式
■の化合物を製造することができた。
出発物質として用いたトランス−4=rz−(p−1?
+−フェニル)エチルコシクロヘキサンカルボン酸は、
ペンチル化合物に基づいて次に述べた如くして製造する
ことができた: (α)1−ブチルメチルエーテル30me中の(7)−
ペンチルフェニル)メチルートリノエニルホスホニウム
ブロマイ)” 2.51 f及び4−シアノシクロヘキ
サンカルボキシアルデヒド(シス/トランス混合物約1
.:1)615iyの混合物をアルゴンガス下にて0℃
でスルホン化用フラスコに入れ、固体のカリウムt−ブ
チレート673〜で2分以内に処理し、次に0℃で更に
1,5時間祷5押した。
次に赤−褐色の均質な混合物を水100+++t’に注
ぎ、ソエチルエーテル各100m1!で3回抽出した。
有機相を水苔50meで2回及び飽和塩化ナトリウム溶
液50meで1回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し
、そして濃縮した。残渣をヘキサン150meに懸濁さ
せ、濾過によって沈殿したトリフェニルホスフィンオキ
シトを除去しくヘキサンでススぐ)、炉液を濃縮した。
生じた油(1,36F )を、溶離剤として3%酢酸エ
チル/石油エーテルを用いてシリカダル上で低圧クロマ
トグラフィー(0,4パール)にかけ、無色の油として
4−〔2−(p−ペンチルフェニル)エチニルコシクロ
ヘキサンカルがニトリル1.02F(81%)を得た;
この異性体混合物のRf値(i o、9(酢酸エチル/
石油エーテル):0.27及び0.36゜(1))  
得られた4−[2−(p−ペンチルフェニル)エチニル
〕シクロヘキザンカルボニトリル956π2をスルホン
化用フラスコ中でトルエン50−に溶解1、ノぐラジウ
ム/炭素(10%)15om&で処理し、常圧及び室温
で、水素の吸収が終るまで水素添加した(約30分間)
。混合物の沢過(トルエンです十ぐ)、r液の濃縮及び
残渣(890〜)をシリカグル上にて5%酢酸エチル/
石油エーテルで低圧クロマトグラフィー(0,4パール
)にかけ、粘性の無色の油とじて4−〔21p−ペンチ
ルフェニル)エチル〕シクロヘキサ7カルポニトリル7
88 n? (82%)を得た。
溶)!tin剤として異なる溶媒系を用いる薄層クロマ
トグラフィーにおいては、1個のスポットのみが現われ
るが、ガスクロマトグラフィー及びN Af Rスペク
トル分析によれば、この物質はシス/トランス異性体混
合物(約1:3)であった。この物質をペンタンから一
20℃で2回結晶させ、最終的に十分な純度のトランス
−4=C2−(p−ペンチルフェニル)エチルコシクロ
ヘキサンカルボニトリルを得た(ガスクロマトグラフィ
ー分析によれば、トランス化合物9B、8%及びシス化
合物1.2%);融点22.4℃、獅明点(N−1)−
14,1’C0 (C)トランス−4−[2−(7ンーペンチルフエニル
)エチルコシクロへキーリンカルボニトリル56Tmf
l並びに2N水酸化カリウノ・及びエタノールの10:
1混合物20meの混合物を、還流冷却器を備えだ丸底
フラスコ中で、アルゴンガス下にて2時間還流下で加熱
した。冷却した混合物を水20πeで希釈し、ジエチル
エーテル各30mI!で2回抽出した。分離した水相を
2N硫酸約20m1で酸1生にし、ジエチルエーテル各
50m1で3回抽出した。有機相を飽和塩化す) IJ
ウム溶液各50m1で2回洗浄し、硫酸ヤグネシウム上
で乾燥し、そしてit、”tlmした。無色の結晶とし
てトランス−4−[’ 2− (p−ペンチルフェニル
)エチルコシクロヘキサンカルがン酸4901++9(
81%)が得られ、このものをヘキサンから再結晶によ
って更に¥fl製した。
実施例6 実施例1に述べた方法と同様にして、’t4A及びBが
トランス−1,4−シクロヘキシレンヲ表ワし、Xlが
エチレン基−CM2C1l、−を表わし、そしてX2が
エステル基−COO−を表わす式lの化合物を製造する
ことができた。
出発物質として用いたトランス−4−[2−()−ラン
ス−4−アルキルシクロヘキシル)エチルコシクロヘキ
サンカルボンMld、ヘンチル化合物に基づいて次に述
べた如くして製造することができた: (a)  水素化リチウムアルミニウム8.79fをア
ルゴンガス下にて無水テトラヒドロフラン100m/に
入れ、無水テトラヒドロフラン100 me沖のトラン
ス−4−ペンチルシクロヘキサンカルボン酸19.83
Fの溶液で30分以内に処理した。添加終了後、混合物
を1時間還流下で加熱し、次に注意して2N塩酸200
 mj!を加え、ジエチルエーテル各100 meで3
回抽出した。有機相を飽和炭酸ナトリウム溶液100m
/で洗浄し、炭酸カリウム上で乾燥し、そして濃縮した
。残渣(19,2f)を蒸留し、主留分において、無色
の油として(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)
メタノール17.7f(96%)を得た(純度99.9
%);沸点89℃10.2茸#+11(10 (b)塩化メチレン70ゴ中の(トランス−4−ベング
ルシクロヘキシ)V)メタノール3.695’及ヒドリ
フエニルホスフイン551グのffi[c−30℃でア
ルゴンガス下に置き、内部温度が一20℃を超えないよ
うにして、固体のテトラブロモメタン7、30 fで一
部づつ15分以内に処理した。添加終了後、冷却浴を除
去し、混合物を徐々に室温に加温しながら、更に18時
間攪拌した。次に混合物を回転蒸発機で濃縮し、得られ
た半結晶性残置を温ヘキサン200m/!と共に砕解し
、濾過し、濃縮した炉液をシリカケ゛ルカラム上でヘキ
サンによってクロマトグラフィーにかけた。無色の液体
としてトランス−1−(:rロモメチル)−4−ペンチ
ルシクロヘキサン4.79 f (97%)が得られ、
このものを蒸留によって更に精製した;沸点82°C1
0,08闘11Q0 (C)1−メトキシ−3−(トリメチルシリルオキシ)
 −1+ 3−ブタジxン[S、 1)anishef
sky等、J、 Amer、 Chem、 Soc、 
96 、 (1974)780’llB、99.アクリ
ロニトリル64f1過酸化Nベンゾイル1oomy及び
ベンゼン50meの混合物をアルゴンガス下にて31q
流下で23時間加熱した。冷却後、揮発性成分(ベンゼ
ン及び過剰量のアクリロニ) IJル)を回転蒸発機で
除去し、残渣をテトジヒドロフラン/ I N塩酸(4
:1)100m/中にて2時間還流下で加熱した。次に
冷却した混合物を塩化メチレン各100m/!で3回抽
出した。′有機相を水苔100m1!で2回及び飽和塩
化ナトリウム溶液100mII+で1回洗浄し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、そして71:1縮した。黄色油
10、3 Fが得られ、このものt;シ4−シアノー3
−シクロヘキセン−1−オン87.9%及ヒトランスー
4−シアノー3−メトキシシクロへキサノン2.7%か
らなっていた(中間体として加水分解生成物を生じた)
。得られた油を球−管蒸留しく130〜140°C,7
0,2T 〜0.15*ttl1g)、橙色の結晶する
油として、4−7アノー3−シクロヘキセン−l−オン
及び4−シアノ−2−シクロヘキセン−1−オンの混合
物7.64 gを得1t。
この油をエタノール’io、m/に溶解し、10%パラ
ジウノ、/炭3? 76’4 m9の存在下において常
圧下で水零添加した(水素吸収1425.me )。触
媒な濾過[7、塩化メチレンで洗浄し、?7i液を濃縮
し、そl−て球−τi′蒸留(1’30〜150℃/ 
O,’11 mJ g )した数、無色の油として4−
シアノシクロへキサノン5.45f(70%)が得られ
た。 Rf値〔トルエン/酢酸エチル(3:1)1:(
1,25゜((4)リフエニル(メトキシメチル)ホス
ホニウムクロライド9.6Fをアルゴンガス下にてt−
ブチルメチルエーテル50meVC懸濁させ、−10℃
で固体のカリウムt−ブチシー) 3.39 fで一部
づつ処理した。添加終了後、混合物を0〜5℃で30分
間攪拌し、本に濃い橙色の一部不均質な混合物をt−ブ
チルメチルエーテル20me中の4−シアノシクロへキ
サノン230Fの溶液で10分以内に処理した。その際
に、内部温度は5℃を超えてはならない。添加終了後、
買−橙色の混合物を25℃に加温し、更に2時間攪拌し
た。次に296炭酸水素す) IJウム溶液50−を加
え、分離した水相をジエチルエーテル各50−で2回抽
出した。有機相を飽和塩化ナトリウム溶液50−で洗浄
し、炭酸カリウム上で乾燥し、そして濃縮した。残った
半結晶性の橙色油をヘキサン400meと共に砕解し、
−20℃に冷却し、沈殿したトリフェニルホスフィンオ
キシトを濾過によって除去した(冷ヘキサンですすいだ
)。濃縮した残液をシリカグル」二で、溶離剤として1
0%酢酸エチル/石油エーテルを用いて低圧クロマトグ
ラフィー(0,4バール)にかけ、無色の油として4−
(メトキシメチレン)シクロヘキサンカルボニトリル1
.607(56%)を得た(純度97%)。
(e)  得られた4−(メトキシメチレン)シクロヘ
ギザン力ルー2ニトリル奮テトラヒドロンラン/(1,
2N塩酸(4:1)100ml!中にて1.5時間還流
下で加熱しフヒ。次に冷却した混合物を水5〇−にυ二
ぎ、ソエテルエーテル各450 meで3回抽出した。
有機相を水50m1及び飽和炭酸水素すl−IJウム溶
液50meで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾):?と
し、そして、、l:R純しだ。無色の油1.35 F 
(94”6’ )が得られ、このものはガスクロマトグ
ラフィー分析によれば、シス−及びトランス−4−シア
ノシクロへキナンカルボキシアルデヒドの混合物(約1
:1の比)92%からなっていた。この物質を更に精製
せずに次の反応に用いた。Rf値〔トルエン/酢酸エチ
ル(3:l)]]:シスー4−シアノシクロヘキサンカ
ルボキシアルデヒド036.1’ランス−4−シアノシ
クロヘキサンカルボキシアルデヒド0.326 (f)0.1#メタノ一ル性水酸化カリウム溶液40m
/中の4−シアノシクロヘキサンカルボキシアルデヒド
(シス/トランス混合物) 1.34 vの溶液をアル
ゴンがス下にて0°Cで固体の水素化ホウ素ナトリウム
378ダで処理した。添加終了後、混合物を0℃で更に
20分間攪拌し、次に水s。
meを加え、混合物を塩化メチレン各50−で3回抽出
した。有機相を本名50ti+eで2回洗浄し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、そして濃縮した。残渣ヲシリカ
ケ゛ル」二でクロロホルム/酢酸エチル(1:’ 1 
)によって低圧クロマトグラフィー(0,4バール)に
かけ、無色の粘性油として4−(ヒドロキシメチル)シ
クロヘキサンカルボニトリル(2種のエピマーの約l:
1混合物として)1.222(90%)を得た。この物
質を更に精製せずに次のトシル化に用いた。4−(ヒド
ロキシメチル)シクロヘキサンカルボニトリルのRf値
〔クロロホルム/酢酸エチル(1: 1 ) ] : 
0.29 (長いスポット)。
(g)  ピリジンSme中の得られた4−(ヒドロキ
シメチル)シクロヘキサンカルボニトリル1.201の
溶液を塞温及びアルゴンガス下にて塩化p−トシル2.
46 Fで一部づつ処理した。室i゛(1λで3.5時
間4τL t’P した後X白色沈殿物の生成)、0℃
に冷却した混合物を本釣29n/で処コ1!シ、注意し
てi)″咀辞醒約’1m/!で酸性にし、ソエチルエー
テル各30411eで3回抽出し2だ。有機イ11を水
5 ’Ome及び飽和塩化ナトリウム溶液507で洗浄
し、硫酸マグネシウム」―で乾燥し、そして濃縮し、″
1÷結晶性の油2.317が残った。清心1を剤として
30π酢酸工チル/石油エーテルを用いてシリカゲル4
801上で低圧クロマトグラフィー(0,5パール)K
かけ、無色の結晶する油としてトランス−4−(トシル
オキシメチル)シクロヘキサンカルボニトリル(M点8
4〜85℃) J、、06 fl (429(1)及び
無色の粘性油としてシス−4−(トシルオキシメチル)
シクロヘキザンカルy]?ニトリル1.oar(4℃%
)を得た。J?f値(30%酢酸エチル/石油エーテル
)ニドランス生成物0.25、シス生成物0,20゜(
/+、)  マグネシウム細片121 m9をアルゴン
ガス下にて無水テトラヒドロフラン3 meでおおい、
ヨウ素の結晶で処理し、次に還流温度にて、無水テトラ
ヒドロフランT me中のトランス−1−(ブロモメチ
ル)−4−ペンチルシクロヘキザン〔節(b)による)
 989 mflの溶液で処理した。添加終了後、混合
物を更に45分間還流下で加熱した。
次に一78℃に冷却した混合物をテトラヒドロフラン中
のソリチウムテトラクロロクプレート〔山村(Jf、 
1’amsra )等、5ynThesis  197
1 t303に従って製造したもの〕の0. I N溶
液0.7rniで処均し、そして無水テトラヒドロフラ
ン9 ml中のトランス−4−()シルオキシメチル)
シクロヘキサンカルボニトリル587 mOの溶液で処
理した。−15°CK加温した混合物を更に21時間攪
拌し、次に飽和塩化アンモニウム溶液約10m1で処理
し、ソエチルエーテル各50meで3回抽出1−た。有
機相を飽和塩化ナトリウム溶液50m1!で洗浄し、硫
酸マグネシウム上で乾燥し、そして濃縮した。残♂tを
シリカケ゛ル上で3%酢酸エチル/石油エーテルによっ
て低圧クロマトグラフィー(0,5パール)にかけ、ト
ランス−1−(ブロモメチル)−4−ペンチルシクロヘ
キサンのカップリング生成物の多量の外に、トランス−
4−〔2−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)
エチルコシクロヘキサンカルボニトリル164In9(
28,5%)を得た〔ト2ンベー4− ()’シルオキ
シメチル)シクロヘキサンカルボニトリル353Vを3
0%酢酸エチル/石油エーテルによって回収することが
できた〕。メタノール5rnlから1回再結晶し、無色
の結晶としてトランス−4−〔2−()ランス−4−ペ
ンチルシクロヘキシル)エチル〕シクロヘキサンカルデ
ニトリル(純e99、98π) 96 m9を得た;固
体一固体転位点39.3℃、融点56.3℃、透明点7
2.3℃(ネマテイク)。
(Z)  得られたニトリルを、実施例5(c)に述べ
た方法と同様にして、2N水酸化力リウム溶ス号及びエ
タノールによってトランス−4−[2−()ランス−4
−ペンチルシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカ
ル針ン酸にケン化することができた。
実施例7 2−クロロ−4−〔[()ランス−4−へグチルシクロ
ヘキシル)カルがニル〕オキシ〕安息香酸p−カル日?
キシフェニルエステル3f、ベンゼン40nd!及び塩
化チオニル0.7mlの混合物を2時間加熱沸騰させた
。ベンゼン及び過剰量の塩化チオニルを真空下で留去し
、残渣をトルエン各25meに2回採υ入れ、そして各
々の場合に濃縮した。
得られた粗製の2−クロロ−4−(’ [()ランス−
4−ヘプチルシクロヘキシル)カルボニルコ、tキシ’
l安息香Np−(クロロカルボニル)フェニルエ□ステ
ルをベンゼン70 n+7に溶解L、次11(−ヒリソ
ン50 ml中(7) 3−クロロ−4−二トロフェノ
ール1.04g′の溶液に部下した。反応混合物を浴1
’In’+ 65℃で一夜楕:拌し、次に氷冷した希釈
塩酸に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を3
N塩酸各50m/で4回及び2N炭酸ナトリウム溶j(
’< 50 II+/!で1回洗浄し、水で洗浄して中
性にし、乾燥し、そして濃縮した。得られた粗製の2−
クロロ−4−[:r()ランス−4−へブチルシクロヘ
キシル)カルがニル〕オニVシ〕安息香酸y+−r (
3−10ロー4−ニトロフェノ\痺シ)カルyl?ニル
〕フェニルニスデル(3,2r)をシIJ 力rル上で
ヘキサン/ジオキサン(容i江比3:1)によってクロ
マトグラフィーにかけた。薄層クロマトグラフィーによ
る純フラクション(1,8W )li’r酸エチルから
2回再結晶した;融点(C−N)138℃、宝l明点(
#−I)237.5℃。
出発物質として用いた2−クロロ−4−[()ランス−
4−へブチルシクロヘキシル)カルー?ニル〕オキシ〕
安息”4’ IJ27’−カルボキシフェニルエステル
は次の如くして製造しだ: (a、)  2−クロロ−4−[()ランス−4−ヘプ
チルシクロヘキシル)カルボニル〕オキシ〕安息香酸(
実施例1(a)及び(b)に述べた方法と同様にして製
造したもの)20.61f、ベンゼン70m/及び塩化
チオニル8 mlの混合物を1.5時間加熱沸Mjさせ
た。ベンゼン及び過剰量の塩化チオニルを具空丁゛で留
去し、残渣をトルエン各20meで希釈し、ぞして各々
の場合に1成縮した。
(6)  得られた粗製の2−クロロ−4’−[[()
ランス−4−へブチルシクロヘキシル)カルボニル〕オ
ギシ〕ベンゾイルクロライドをベンゼン100m/!に
溶解し、次にピリジン110+ml’中のp−ヒドロギ
シペンズアルデヒド6.61 fのm?&[ン商下した
。生じた懸濁液を浴温65℃で6時間′4jj拌し、次
に氷冷しだ希釈塩酸に注ぎ、そしてソエグルエーテルで
抽出した。抽出液を11次3N塩酸名100 mlで2
回、水200m1’で1回、氷冷した水酸化す) IJ
ウム溶液各50’meでi回、飽和炭酸水素ナトリウム
溶液50−で1回、そして水100解で1回洗浄し、乾
燥し、濃縮し、粗製の生成物19.4Fが得られた。
(C)  得られた粗製の2−クロロ−4’−[r()
ランス−4−へブチルシクロヘキシル)カルボニル〕オ
キシ〕安息香酸p−ホルミルフェニルエステル(19,
1F )をアセトン800m/に溶解した。
この溶液にソヨーンズ試薬30meを15分以内に滴下
し、混合物はやや昇温した。混合物を更に40分間攪拌
し、次に分離した無機物質を吸引炉別し、ろ液を濃縮し
た。残渣を水に懸濁させ、得られた懸濁液を吸引濾過し
た。残渣を吸引フィルター上にて水で洗浄しそ中性にし
、アセトンから再結晶し、2・−クロロ−4−[r()
ランス−4−ヘア’ チルシクロヘキシル)カルデニル
〕オキシ〕安息香W& p −カルボキシフェニルエス
テル14.61が得られだ;融点((1’−8)135
〜136℃、転位点(S−AI’)156℃、誘明点(
#−1)〉300℃。
次の化合物を同様の方法で製造した: 2−クロロー4− C[(、)ランス−4−へブチルシ
クロヘキシル)カル?ニル〕オキシ〕安息香。
酸3−クロロ−4−CCp−(z、2−ジシアノ−1−
メチルビニル)フェノキシ〕カルボニル〕フェニルエス
テル: FM点(C−A’ ) 9 s、 5℃、透明
点(N−I)233.5℃; 210ロー4−[〔(p−へキシルフェニル)カルボニ
ル〕オキシ]安息香酸p −[(3−り。
ロー4−ニトロフェノキシ)カルデニル〕フェニルエス
テル;融点(C−5)98℃、相転位点S−5104,
5℃及び5−N129.5℃、週明点(N、71)23
’s℃; 2−クロロ−4−[〔(p−へキシルフェニル)カルが
ニル〕オキシ]安息香ea −りo o −4−[1r
 p−(2、2−ジシアノ−1−メチルビニル)フェノ
キシ〕カルがニル]1フェニルエステル;融点(C−#
)ts4℃または160℃(2変態ン、透明点(N−1
)239℃; 4’−[4,(p−ヘキシルフェニル)カルボニル]オ
キシ〕安息香酸3−クロロ−4−[(a−クロロ−4−
ニトロフェノキシ)カルボニル〕フェニルエステル;融
点(C−N)112℃、を秀明点(N−1) 255°
C; 2−クロロ−4−[()ランス−4−へブチルシクロヘ
キシル)カルgニル〕オキシ〕安息香酸3−クロロ−4
−[(3−クロロ−4−シアノフェノキシ)カル?ニル
〕フェニルエヌテル;融点194°C; 2−クロロ−4−[()ランス−4−ヘプチルシクロへ
キシル−カル、+fニル〕オキシ’] 安息香酸3−ク
ロロ−4−[(’aミークロロ−4−ニトロフェノキシ
カルボニル〕フェニルエステル;融点198°C; 4−[[()ランス−4−へプチルシクロヘキシル)カ
ルがニル〕オキシ〕安息香酸3−クロロ−4−r(3−
クロロ−4−二トロフェノキシ)カルボニル〕フェニル
エステル;tにI[点((:’ −N )158.5°
(/ % 透明点(#−1)235.5°C;4−C〔
(p−ヘキシルフェニル)カルボニル〕オキシ] 安息
香’M 3− クロロン4− 〔(3−り。
ロー4−シアノフェノキシ)カル、l?ニル〕フェニt
vxステm HQIB点(C−A” ) 112℃、透
明点(#−7’)251’C1 4−[r(p−へキシルフェニル)カルボニル〕オキシ
〕安息香酸3−クロロ−47[(3−メチル−4−ニト
ロフェノキシ)カルボニル〕フェニルエステル;融点(
C−N)127℃、透明点(#−I)238°C; 2−クロロ−4−[’C(p−へキシルフェニル)カル
ボニル〕オキシ〕安息香酸3−クロロ−4−〔(p−シ
アノフェノキシ)カルボニル〕フェニルエステル;融点
((’−#)131℃、透明点(A’−I)258℃; 4−〔〔(p−へキシルフェニル〕カルボニル〕オキシ
〕安息香酸3−クロロ−4−CCp−(2゜2−ジシア
ノ−1−メチルビニル)フェノキシ〕カルデニル〕フェ
ニルエステルiM点(c4)118℃、透明点(N−1
)2’16,5℃;2−クロロ−4−〔〔(p−ヒドロ
キシフェニル)カルボニル〕オキシ〕安息香酸p−CC
p−(2,2−ジシアノ−1−メチルビニル)フェノキ
シ〕カルボニル〕フェニルエステル? 融点(C−#)
145.5℃、透明点(#−I)276.5℃。
実施例8 4’ −()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−
4−ビフェニルカルボン酸4−カルボキシ−3−クロロ
フェニルエステル3.6Fをベンゼン150−中で塩化
チオニル25fと共に4時間加熱沸騰させた。溶媒及び
過剰量の塩化チオニルを真空下で留去し、残渣をトルエ
ン各50meに2回採p入れ、そして各々の場合に濃縮
した。
得られた粗製の4’−()ランス−4−ペンチルシクロ
ヘキシル)−4−ビフェニルカルボン酸3−クロロ−4
−(クロロカルボニル)フェニルエステルをベンゼン1
50mJに溶解し、次に乾燥ピリジン110nd!中の
3−クロロ−4−二トロフェノール1.21の溶液に滴
下した。混合物を65℃で一夜攪拌し、氷水500me
及び濃塩酸100meの混合物に注ぎ、ジエチルエーテ
ルで抽出した。
抽出液を3N塩酸各100m1!で3回及び水容200
rneで3回洗浄し、次に乾燥し、〜そして蒸発させた
得られた粗製の4’ −()ランス−4−ペンチルシク
ロヘキシル)−4−ビフェニルカルがン酪3−クロロ−
4−((3−クロロ−4−ニトロフェノキシ)カルボニ
ル〕フェニルエステルをシリカケ゛ル上でトルエン/ア
セトン(B量比19 : 1 )によってクロマトグラ
フィーにかけた。薄層クロマトグラフィーによシtユと
んど純フラクション(2,8F )を酢酸エチルから2
回再結晶した;融点(C−N)132℃、透明点〉25
0℃(分解)。
出発物質として用いた4’−()ランス−4−ペンチル
シクロヘキシル)−4−ビフェニルカルボン酸4−カル
ボキシ−3−クロロフェニルエステルは次の如くして製
造しだ: (a)実施例2に述べた方法と同様にして、4′−()
ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−ビフェニ
ルカルボン酸を石化チメニルによって酸塩化物に転化し
、このものを2−クロロ−4−ヒドロキシベンズアルデ
ヒド3. l rでエステル化した。かくして粗製の4
’−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−
ビフェニルヵルデン酸3−クロロ−4−ホルミルフェニ
ルエステルア、7fが得られた。
(1))  上記節(α)に従って得られた粗製のアル
デヒドを、実施例11節(b)に述べた方法と同様にし
て、アセトン15001〃e中にてジョーンズ試卯ミで
カルボン酸に酸化した。得られた粗製の4’−()ラン
ス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4−ビフェニルカ
ルボン酸を吸引フィルター上で水及びメタノールにて洗
浄し、次に乾燥し、そして更に精製せずに用いた。
次の化合物を同様の方法で製造した: 4′−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4
−ビフェニルカルボン酸3−クロ゛ロー4−[(3−ク
ロロ−4−シアノフェノキシ)カルボニル〕フェニルエ
ステル;融点(C−N ) taa℃、透明点(#−I
)361’C; 4’−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−4
−ビフェニルカルボン酸3−クロロ−4−Cr p −
(2+ 2−ジシアノ−1−メチルビニル)フェノキシ
〕カルボニル〕フェニルエステル;融点(C−Nン16
8.5℃、透明点(N−1)約360°C; 4“−ペンチル−4−ターンェニルカルボン酸3−クロ
ロ−4−((3−クロロ−4−シアノフェノキシ)カル
ボニル〕フェニルエステル;融点((?−#)167℃
、透明点(N−1)3’12℃;4“−ペンチルー4−
ターフェニルカルボン酸3−クロロ−4−[(3−クロ
ロ−4−ニトロフェノキシ)カルデニル〕フェニルエス
テルi融点(C−N)177℃、透明点(A’ −1)
 > 300℃; 4“−へキシル−4−タルフェニルカルボン酸3−クロ
ロ−4−((3−クロロ−4−シアノフェノキシ)カル
ボニル〕フェニルエステル;融点(C−N)151.5
℃、’ill B11点(N−1) 355℃; 4“−へキシル−4−ターフェニルカルボン酸3−クロ
ロ−4−((3−クロロ−4−二トロンエノキシ)カル
デニル〕フェニルエステル;融点(C−#)162.5
℃、透明点(A’−I))270℃。
ゼルシャフト 代理人 弁理士 小III島 平 吉 第1頁の続き 優先権主張 01982年11月10日■スイス(CH
)[有]6546/82−5 91983年6月27日■スイス(C H)[有]3499783−3 0発 明 者 アロイス・フィリガー スイス国4055バーゼル・イムエ ツテインガーホーフ5

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 式中、X2は単一の共有結合まだけエステル基−C00
    −を表わし;xlは単一の共有結合、エステルx−co
    o−、エチレン基CH2CH2−または、X2がエステ
    ル基−COO−を表わす場合には、またp−CaI(4
    −1p CaH+−CHtCHz  、  C口2CH
    21)CaL −1p C6Ha  COO−もしくは
    −COO−p C11H4−を表わし;環Aはベンゼン
    環またはトランス−1,4−シクロヘキシレンを表;b
    L;猿Bはベンゼン環まだは、X2がエステル基−CO
    O−を表わし且つXlが単一の共有結合、エステル基−
    COO−もしくはエチレン基−CH2CH,−を表わす
    場合には、またトランスル1.4−シクロヘキシレンヲ
    表わし; Z’ 、Z”及びz8は水率または、ベンゼ
    ン環が単一の共有結合を介して更に他の猿に直接結合し
    ていない該ベンゼン環上においてまた・・ロゲン、シア
    ノもしくけメチルを表わし;Ytはシアノ、ニトロ、2
    .2−ジシアノビニルまたは、Ylが水素を表わす場合
    には、また2、2−ジシアノ−1−メチルビニルを表わ
    し;YIはノ・ロゲン、シアノ、C1〜C8−アルキル
    または、Xlがベンビン(gもしくはエステル基を有す
    るかまたはY2がニトロを表わすかまたはZl及び/ま
    たVl、Z2が水素と異なるものである場合には、また
    水素を表わし;そしてR1はC5〜Cl2−アルキルま
    たはベンゼン世上においてまたC7〜Cl2−アルコキ
    シを表わす、 の化合物。 2、Xlが単一の共有結合、エステル基−COO−、エ
    チレン基−CH2CHz  iたは、X2がエステル基
    −COO−を表わす場合には、またp−フェニレンを表
    わし、そしてYlがハロゲン、シアノ、CI−C3−ア
    ルキル寸だ超1、Xlがp−フェニレンを表わすかオた
    けY2がニトロを表わすかまたはZt及び/またυ:Z
    2が水素と易なるものである場合にC1コ、すだ水素を
    P−ゎす’l’!I’ N’f’請求の範囲第1項記載
    の化合物。 3、  Ht2Bがベンゼン環を表わす4“滑「請求の
    範囲第1または2項記載の化合物。 4、  zl 、Zt及びZ”が水素を表わす′か、或
    いはまたzl、Zt及びZ3の多くとも2個が塩素を表
    わす特Wl’請求の範囲第1〜3項のいずれかに記載の
    化合物。 5、Ylが水素、フッ素、J:i、;素、シアノまたt
    まメチルを表わす特許請求の範囲 ずれかに記載の化合物。 6、一般式 式中、ljl 、xR及びY2は特許請求の範囲41項
    記載の意味を有し;Xlは単一の共有結合、エステル基
    一coo一または、X2がエステル基−coo−を表わ
    す場合には、またp−CllH4−、pCaH<  C
    H2CH2−、CH2CH2 P C6H4−、pCa
    ■I4COO−もしくはーCOO  f)  CafL
      11”表ゎL;環Aはp−フェニレンまタハトラン
    スー1,4−シクロヘキシレンを表わし;Ztは水素ま
    だは、Xl及びX2がエステル基−COO−を表わす場
    合には、′また塩素を表わし;z3は水素まだは、X2
    がエステル基一COO−を表わす場合には、また塩素を
    表わし;そして1′1はフッ素、塩素、シアノ、メチル
    まだは、Xlがベンゼン環もしくはエステル基を有する
    かまたはY2が二1・口を表わす場合には、また水素を
    表わす、 の化合物である71):r許請求の範囲第1項記載の化
    4l1イク。 7、 Ztが水素を表わす4”側′l請求の範囲へ″G
    1〜6項のいずれかに記jji,’:}の化合物。 8、 Xlが単一の共有結合、エステル基−C OO−
    オたは、X2がエステル+.s−coo−を表わす場合
    には、1たp−フェニレンを表わす特許請求の範囲第1
    〜7項のいずれかに記載の化合物。 g.ylが水素、塩素またはシアノを表わす/r+f−
    許請求の範囲第1〜8項のいずれかに記載の化合物。 10、Y’がシアノまたV↓ニトロを表わす特許請求の
    範囲第1〜9項のいずれかに記載の化合物。 11、Y’が塩素を表わし、そしてY2がシアノまたは
    ニトロを表わす特許請求の範囲第10項記載の化合物。 12、Y’が水素を表わシ2、そしてY2が2、2−ジ
    ンアノー1−メチルビニルを表わす慣許請求の範囲第1
    〜9工6のいずれかに記載の化合物。 1 3、  坂Aがトランス−1,4−シクロヘキシレ
    ンを表わす特許請求の範囲tα1〜12項のいずれかに
    記載の化合物。 14、R’が直鎖状のアルキル基を表わす特許請求の範
    囲第1〜13JJiのいずれかに記載の化合1衾グ。 15、アルキルまたはアルコキシ基R1が炭素原子3〜
    10個、好ましくは5〜9個を含む特許請求の範囲第1
    〜14項のいずれかに記載の化合q・17゜ 16、成分の少なくとも1梗が11〒許請求の範囲第1
    項に定義した式Iの化合物である少々くとも2釉の成分
    を含む液晶混合物。 17.32fflの成分A、 B及びCからなり、その
    各々は1種まだはそれ以上の化合物を含み、成分Aは多
    くとも約40 Cpの粘度、少なくとも約40 ’C,
    の透明点及び約−2乃至約+1間の誘電異方性を有し、
    成分Bは約−2より低い誘電異性を有し、成分Ctj、
    約+10より高い誘電異方性、少なくとも約100℃の
    透明点及び20℃で多くとも約15KHzの全混合物に
    おける交す周波数を有し、そして成分Cが少なくとも1
    種の式■の化合物を含むことを特徴とする特許請求の範
    囲第16項記載の液晶混合物。 18、成分へ少なくとも約30 重h)%、成分B約3
    〜!5n、吊係及び成分C約5〜40重L(チからなる
    !1′F許請求の範囲第17項記載の液晶混合物。 19、一般式 式中、II’、A、B、X’、X2、Z’、z2及びz
    3は9!′″W[請求の範囲第1項記載の意味を有する
    、 の酸またはその反応性銹導体を一般式 式中、Yl及びY2、特許請求の範囲第1項記載の意味
    を有する、 のフェノールでエステル化し、そして必要に応じて、得
    られるzl、zlまたはZl′が臭素を表わす式Iの化
    合物をシアン化銅(1)、シアン化ナトリウムまたはシ
    アン化カリウムと反応させることを特徴とする特許 式■の化合物の製造方法。 20、電子−光学目的のだめの特許請求の範囲KC I
     Jliに定義した式Iの化合物の使用。
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