JPS5983798A - 金属めつき方法およびめつき装置 - Google Patents

金属めつき方法およびめつき装置

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JPS5983798A
JPS5983798A JP19185782A JP19185782A JPS5983798A JP S5983798 A JPS5983798 A JP S5983798A JP 19185782 A JP19185782 A JP 19185782A JP 19185782 A JP19185782 A JP 19185782A JP S5983798 A JPS5983798 A JP S5983798A
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JP
Japan
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plating
hydrogen
ions
metal ions
plating solution
Prior art date
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Pending
Application number
JP19185782A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Otsubo
孝至 大坪
Takeshi Furukawa
古川 「たけし」
Jiro Ono
二郎 大野
Takashi Watanabe
孝 渡辺
Ryoichi Suzuki
良一 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は金属めっきを施す方法およびその装置(二関す
るものである。
近年、鋼板の防錆あるいは塗装下地処理の改良のために
、鉄系合金あるいはマンガン系のめっきを施すことが広
く検討されている。例えば鉄単独めっき、鉄−亜鉛合金
めっき、鉄−亜鉛−ニッケル合金めっキ、鉄−ニッケル
めっき、マンガンめっきなどである。これらのめつき(
=際し、鉄系合金めつきの場合は、鉄イオンとして2価
鉄イオン(Fe2+と略記)が、マンガンめっきの場合
はマンガンイオンとして、2価マンガンイオン(Mn2
+と略記)がそれぞれ用l/1られるが、工業的(二め
っきする場合の最大の問題点は、より多価のイオン、す
なわち、前者の場合は3価鉄イオン(Fe3+と略記)
、後者の場合ハMnO2や7価マンガンイオン(Mn 
 と略記)などが、めっき液中(二生成し蓄積されてく
ることである。
すなわち、めっき中(二対極で発生する酸素、あるいは
めつき液の循環中(−まきこまれる空気(二よる酸化に
よって、Fe  ある17Xは多価マンガンイオンが生
成する。これらの多価金属イオンがめつき液中に蓄積さ
れると、めっき効率カー低下するだけでなく、め・つき
面の性状全劣化させ、まためっき槽を含む溶液循環系内
C二不溶性沈澱を生成する原因ともなり、めっき作業の
重大な障害となる。したがって、金属イオンを含むめっ
き液でめっきを行う場合は、より多価の金属イオンの濃
度を、一定値以下に保つことが極めて大切である。
このため、従来からいくつかの対策が検討されている。
すなわち、(1)可溶性陽極(対極)を用い、できるだ
け酸素の発生ケ抑えること、(2)空気のまきこみ全防
止すること、(3)イオン交換膜(二より、より多価の
金属イオンを除去すること、(4)めっき液中にS02
ガスを吹込むことによって還元することなどであるが、
これらの方:去は、コスト、めっき液中の物質収支のつ
り合いを保つため、特定のイオンを除く必要が生じるな
ど、現在必要とされている工業的な高速めつきでは、適
用が気めて困難なのが実情である。
本発明者らは、種々実験の結果、めつぎ液中のより多価
の金属イオンを、水素吸蔵合金(二よって活性化した水
素(−よシ還元してめっきすると、より多価のイオン蓄
積がなく、極めてすぐれためつきが行なえることを見出
した。
以下(−その詳細を説明する。Mg + Mg2 N 
i +FeTi  、  TiMn1,5  +  L
aNi5  、  MmNi5  (Mm  は ミ 
ツ ・ンユメタルを表す)、CaNi5などの水素吸蔵
合金は多量の水素を吸蔵する。例えば、LaNi5は常
温(25′C)では合金1g・で約200 CCの水素
を吸蔵し、この時の吸蔵圧力は1〜2 k!/cm2で
ある。この時に約67 cae4の熱量を放出し、また
は5同量の熱量を与えると、逆(−吸蔵していた水素を
解離放出−する。吸蔵放出t′−袈する時間は短く、3
〜5分程度である。解離放出され几水素は原子状で極め
て活性度が高く、エチレンやブタジェンの水素化反応に
おいて、通常の水素を原料とした場合に比べはるか(=
反応収率が高くなる。金属めっきの場合(二おり\ても
、Fe”九M註7. Mn+4’ (Mn02)などを
、通常の水素ガスで還元することは不可能であるが、活
性化した水素を用いると、容易C二次式(二より還元す
ることが出来る。
Fe3+’+ H−+ Fe2+十H+(1)Mn  
  +  5H−Mn    +  5Hj    (
2)Mn” +  2)(→Mnz+ + 2H+  
(3)なお、(1)、 (2> 、 (3)式が進行す
ることは、次式の標準酸化還元電位から当然予測される
ことであるが従来工業的には(7)式 %式%(4) (5) (6) (7) の反応全進行させることが困難であったものを、水素吸
蔵合金を用いて水素を活性化することによって、極めて
容易C二したのが本発明の特徴である。
なお、(1) −(3)式で生じる、Fe  やMn 
 およびめっき液中(二共存するZ n  、Ni  
+ C’o  +などのイオンは、標準酸化還元電位が
(7)式よりも低いので、さらに還元されることは生じ
ない。
以上のように、金属イオンを含むめっきを行う場合(−
1めっき液を、水素吸蔵合金で活性化した水素によって
処理し、めっき中に生じるより多価の金属イオン全還元
し、その濃度を低減させながらめっきすること(′″−
より、めっき効率を高く一定(二保ちかつ良好なめつき
面を得ることができる。
次(=実施例を挙げてさら(−詳細(二説明する。
実施例 第1図に示す装置音用(1)で、鉄−亜鉛合金連続電気
めっきを行った。第1図(二お(/1て、めっき液槽l
内(二めつき液(FeSO4・7H20:う80F/L
ZnSO4−7H2050g−/C(NH4)25O4
−30Fe3 。
pH1,2、Fe3+イオン10 W−/l’ ) ’
(f満し、陽極(Pb−8n(5%)合金)2と陰極(
板)単0.31服の冷延鋼板を巾6譚、長さ15cm1
二切断したもの)3間(二通電しく電流密度、80 A
/ dm2゜液温40′C)、目付駄20 ’!−/m
2+組成Zn9.0係、 Fe 10%のめつきを施し
、めっき液の一部を取出し、溶解槽4へ導き、金属鉄5
、金属亜鉛6と接触せしめて、めっき液中C,Fe  
イオン、 Zn”+イオンを補給し、次l/)で還元槽
7に導いて、Fe3+イオンfFe2+イオン(−還元
した。
還元槽7では、水素吸蔵合金La’NiH200P ’
を充填した容器8をめつき液中に浸漬し、この容器8を
高圧水素ボンベ9に連結し、水素圧力を水素圧力ゲージ
1oの読みが1. ’5 kl−7cm2となるように
バルブ11を調節して、容器8(−水素を送り込んだ。
液+=は加熱器]2で加温し30cに保定した。容器8
の側壁から活性化された水素がめつき液中に放出され、
Fe”+イオンfFe2+イオンに還元する。
容器8は第2図に示す構造で、容器外径10m3内径は
6.5 cm 、長さ10 anで外筒21は厚さ5 
manのセラミック管、外筒21とLaNi5合金壁2
合金量22さ約1μm〕〕のポリスチレン膜23がはさ
み込まれている。この膜は水素は自由に透過するがめつ
き液は透過しない。内筒24は外径7α、厚さ5 In
mの多孔質セラミック管で出来ている。外筒21と内筒
24の間(二、平均粒径5oμmのL a N i 5
粉末が固く充填されている。水素は容器8の上部から細
管部で内部に導かれる。このような構成で、圧力約1.
5kf10n2の水素を流すと流量が約217分(−な
り、L a N 15合金壁22を通過するときには、
水素は原子状となり活性化された状態となり、めっき液
中のFe  と反応しFe” (二還元する。
第3図は、30tZ”i二おけるLaNi5の水素吸蔵
量と水素平衡圧力との関係を示している。横軸は水素吸
蔵合金M1モル(一対する水素(]()吸蔵モル数で、
縦軸は吸蔵圧力である。容器内圧力はは\1,5気圧な
のでL a N i 5の内壁側はA点にある。
この時L a N i−、は理論吸蔵量の約80%に相
当する水素を吸蔵している。LaNi5層の外面ではB
点となり、吸蔵量は約20%(二減少する。この間に放
出された水素は、ポリスチレン膜を通してめっき液中(
二放出され反応する。めっき液は温度調節器[3(第1
図)で所定温度に調節し、ポンプ14で5β/分の流速
でめつき藁槽1に還面させた。
以上(二のべたようなめつき方法で、陰極板を逐次交換
しながらめっきを継続した場合、めっき液中のFe3+
イオン濃度は1g−/β以下に低減させることができる
。また、めっき効率ならびにめっき製品の表面性状C二
ついて、本発明の方法全おこなわず(′″−めっきした
ものとの比較をおこなった結果全第1表に示す。
この結果から、水素吸蔵合金によって活性化した水素を
用いて、めっき中(−生成するFe”イオンを・還元し
ながらめっきすると、良好なめつき効率と表面性状が得
られることが明らかである。
以上実施例C二よυ本発明の内容と効果を説明したが、
鉄合金めっきの場合にかぎらず、Mnめっきをはじめ二
元系、三元系の金属めっきにおいても本発明が有効であ
ることは云うまでもなく、また水素吸蔵合金としてL 
a N i□全例示し* が 、  Mg、   Mg
2Ni、   FeTi、   TiMn1,5  、
   LaNi5  。
MmN i 5 +  Ca N i 5などを主成分
とし、工業的に水素吸蔵用に用いられる合金はいずれも
有効に用いることができる。
本発明により、金属めっきを容易(−安定して、しかも
安価に行うことができ、工業的に寄与すること犬である
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明装置の説明図、第2図は本発明装置の要
部拡大図、第3図は水素吸蔵合金の水素放出平衡図表で
ある。 1・・・めっき液槽    2・・・陽極3・・陰極 
      4・・・溶解槽5・・−金属鉄     
 6・・金属亜鉛7・・・還元槽      8・・・
水素吸蔵合金容器9・・・水素ボンベ    10・・
・水素圧力ゲージ11・・・水素圧力調節バルブ 12
・・・加熱器13・・・温度調節器    14・・・
ポンプ21・・・多孔質セラミック外管 22・・・LaNi5合金    n・・・ポリスチレ
ン膜24・・・多孔質セラミック円管 謳・・・水素導入細管 第7回 4 一一一] 第2面 第3回 φ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 金属イオンを含むめっき液を用いてめっきを行う
    にあたり、めっき液中の金属イオンが酸化されて生じる
    より多価の金属イオンを、水素吸蔵合金によって活性化
    した水素(二より還元してめっきすることを特徴とする
    金属めっき方法。 2、水素ガス源と、該水素ガス源から供給される水素を
    活性化する水素吸蔵合金と、めっき液が該水素吸蔵合金
    に接触するための容器とをそなえることを特徴とする金
    属めっき装置。
JP19185782A 1982-11-02 1982-11-02 金属めつき方法およびめつき装置 Pending JPS5983798A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6224143A (ja) * 1985-07-24 1987-02-02 Kaken:Kk 燐及び硫黄の分析方法及び装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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