JPS5983333A - 電子ビ−ムによる物質処理装置 - Google Patents
電子ビ−ムによる物質処理装置Info
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- JPS5983333A JPS5983333A JP57194279A JP19427982A JPS5983333A JP S5983333 A JPS5983333 A JP S5983333A JP 57194279 A JP57194279 A JP 57194279A JP 19427982 A JP19427982 A JP 19427982A JP S5983333 A JPS5983333 A JP S5983333A
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- JP
- Japan
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- anode
- cathode
- electron beam
- vacuum
- case
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/067—Replacing parts of guns; Mutual adjustment of electrodes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は電子ビーム全物質（ワーク）に照射してワー
クの加熱、溶解、蒸発、溶接、アニーリング、結晶成長
などを行なう電子ビームによる物質処理装置に関するも
のである。
クの加熱、溶解、蒸発、溶接、アニーリング、結晶成長
などを行なう電子ビームによる物質処理装置に関するも
のである。
このような電子ビーム装置で、電子ビームの電流値、焦
点でのビーム断面寸法（ビーム直径など）、ビーム開き
角（焦点深度、ビーム軌道形状）などを目的に適合する
ようにコントロールするには種々の方法がとられている
。カンード、グリッド。
点でのビーム断面寸法（ビーム直径など）、ビーム開き
角（焦点深度、ビーム軌道形状）などを目的に適合する
ようにコントロールするには種々の方法がとられている
。カンード、グリッド。
アノードからなる電子ビーム発生部のグリッド−カソー
ド間電位差（バイアス電圧）とかアノード−カソード間
電位差（ビーム加速電圧）によシビーム電流全制御する
とか、電子レンズとワーク間の距離を変えてビーム直径
やビーム開き角を変えるとか、偏向コイルによりビーム
軌道を修正するとかがその例である。また、カソード−
アノード間の距離を変えるとビーム電流値やビーム開き
角を変えることができるが、この方法は電子ビーム発生
部の真空全破り大気圧にしたときアノード組文部のスペ
ーサをとりかえることにより非連続的に行われることが
ある。
ド間電位差（バイアス電圧）とかアノード−カソード間
電位差（ビーム加速電圧）によシビーム電流全制御する
とか、電子レンズとワーク間の距離を変えてビーム直径
やビーム開き角を変えるとか、偏向コイルによりビーム
軌道を修正するとかがその例である。また、カソード−
アノード間の距離を変えるとビーム電流値やビーム開き
角を変えることができるが、この方法は電子ビーム発生
部の真空全破り大気圧にしたときアノード組文部のスペ
ーサをとりかえることにより非連続的に行われることが
ある。
この発明は電子ビーム発生部全真空にした後でも前述の
ビーム電流値など全連続的に制御できる従来知られてい
なかった電子ビームによる物質処理装置を提供するもの
である。そのためこの発明の装置は、電子ビーム発生部
の真空を破ることなく、カソード−アノード間の距離を
変えられるようにしである。
ビーム電流値など全連続的に制御できる従来知られてい
なかった電子ビームによる物質処理装置を提供するもの
である。そのためこの発明の装置は、電子ビーム発生部
の真空を破ることなく、カソード−アノード間の距離を
変えられるようにしである。
以下５図面を参照してこの発明の詳細な説明する。
第１図は本発明の電子ビーム装置の一実施例における電
子ビーム発生部の要部断面図で、真空容器１内でカソー
ド２．グリッド３は固定支持され（支持部は図示せず）
、それらに対向するアノード４はラック５．ビニアン６
により図の上下方向に動かされる。ピニオン６は真空容
器１の壁を気密に貫通するシャフト（図示せず）金繰て
真空容器１の外側から回転操作可能にする。アノード支
承軸７は真空容器１に固定され、アノード４は支承軸７
に嵌った状態で上下方向へ摺動できるようになっている
。
子ビーム発生部の要部断面図で、真空容器１内でカソー
ド２．グリッド３は固定支持され（支持部は図示せず）
、それらに対向するアノード４はラック５．ビニアン６
により図の上下方向に動かされる。ピニオン６は真空容
器１の壁を気密に貫通するシャフト（図示せず）金繰て
真空容器１の外側から回転操作可能にする。アノード支
承軸７は真空容器１に固定され、アノード４は支承軸７
に嵌った状態で上下方向へ摺動できるようになっている
。
今、カソードを充分高温にしておきアノード４をカソー
ド２に近ずけると、ビーム電流がカソード−アノード間
距離の自乗にほは反比例して増大すると共に、第２図（
ａ）に示すようにカソード２から放出されて形成される
電子ビーム１１の開き角も大きくなる。クロ２オーバー
（ウェスト）１２はアノード附近にできる電子ビーム断
面寸法最小部である。一方、カソード−アノード間距離
’ｘ太きくとるとビーム電流は減り第２図（ｂ）のよう
に、カソード２から発しクロスオーバー１２全経て発散
する電子ビーム１１の開き角が比較的小さくなる。
ド２に近ずけると、ビーム電流がカソード−アノード間
距離の自乗にほは反比例して増大すると共に、第２図（
ａ）に示すようにカソード２から放出されて形成される
電子ビーム１１の開き角も大きくなる。クロ２オーバー
（ウェスト）１２はアノード附近にできる電子ビーム断
面寸法最小部である。一方、カソード−アノード間距離
’ｘ太きくとるとビーム電流は減り第２図（ｂ）のよう
に、カソード２から発しクロスオーバー１２全経て発散
する電子ビーム１１の開き角が比較的小さくなる。
そこでカソード−アノード間金離しておき、ビーム加速
電圧全一定にした状態で、ますカソードを加熱する（ま
たはグリッドバイアス電圧を下げる）と比較的小さなビ
ーム電流が流れ始め、続いてアノードをカソードに近づ
けて行くとビーム電流が漸増する。ビーム電流を漸減し
てカットオフするのには逆のプロセスを辿らせればよい
。
電圧全一定にした状態で、ますカソードを加熱する（ま
たはグリッドバイアス電圧を下げる）と比較的小さなビ
ーム電流が流れ始め、続いてアノードをカソードに近づ
けて行くとビーム電流が漸増する。ビーム電流を漸減し
てカットオフするのには逆のプロセスを辿らせればよい
。
また、カソード−アノード間距離を変えるとカソードの
電子放出面寸法とクロスオーバーの断面寸法との比であ
るビーム集束比が変わるので、このクロスオーバー全電
子レンズ（図示せず）でワーク（図示亡ず）上に投影し
た場合、レンズ−ワーク間距離が一定でもワーク上のビ
ーム寸法ヲ変化させることができる。従って、線状（長
方形状。
電子放出面寸法とクロスオーバーの断面寸法との比であ
るビーム集束比が変わるので、このクロスオーバー全電
子レンズ（図示せず）でワーク（図示亡ず）上に投影し
た場合、レンズ−ワーク間距離が一定でもワーク上のビ
ーム寸法ヲ変化させることができる。従って、線状（長
方形状。
帯状）の電子放出面寸法つカソードを用いてワーク上に
線状ビームを投射しそれをワーク上で走査してアニール
などを行わせるとき、その線状ビームの長さ全処理対象
部の寸法に合わせて適当に調節したい場合にも本発明の
電子ビーム装置によれが容易である。
線状ビームを投射しそれをワーク上で走査してアニール
などを行わせるとき、その線状ビームの長さ全処理対象
部の寸法に合わせて適当に調節したい場合にも本発明の
電子ビーム装置によれが容易である。
ビーム電流を一定値に保つ自動制御を行わせる際もビー
ム電流を検出して設定値と比較させ、その偏差をなくす
ようにアノードを動かすようにすればよく、精度のよい
ビーム電流安定化装置が簡単かつ安定に構成できるのも
本発明から得られる利点の一つである。
ム電流を検出して設定値と比較させ、その偏差をなくす
ようにアノードを動かすようにすればよく、精度のよい
ビーム電流安定化装置が簡単かつ安定に構成できるのも
本発明から得られる利点の一つである。
第１図に示した本発明の一実施例はアノード可動式であ
るが、カソード可動式により本発明の装置全構成しても
よいことは勿論である。なお、カソードとグリッドの相
対位置関係は通常不変にしておく。
るが、カソード可動式により本発明の装置全構成しても
よいことは勿論である。なお、カソードとグリッドの相
対位置関係は通常不変にしておく。
第１図は本発明の電子ビーム装置の一実施例を示す要部
断面図、第２図は電子ビームの開き角の変化を示す説明
図１である。 １・・・・・・真空容器、２・・・・・・カソード、３
・・・・・・グリッド、４・・・・・・アノード、５・
・・・・ラック、６・・・・・ピニオン、７・・・・・
・アノード支承軸、１１・・・・・・電子ビーム、１２
・・・・・・クロスオーバー。 ０ 第１圀 （α） （ｂ） 第２目 １７５−
断面図、第２図は電子ビームの開き角の変化を示す説明
図１である。 １・・・・・・真空容器、２・・・・・・カソード、３
・・・・・・グリッド、４・・・・・・アノード、５・
・・・・ラック、６・・・・・ピニオン、７・・・・・
・アノード支承軸、１１・・・・・・電子ビーム、１２
・・・・・・クロスオーバー。 ０ 第１圀 （α） （ｂ） 第２目 １７５−
Claims (1)
- 電子ビーム発生部の真空を破ることなくカソード−アノ
ード間の距離を変えられるようにした電子ビームによる
物質処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57194279A JPS5983333A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | 電子ビ−ムによる物質処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57194279A JPS5983333A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | 電子ビ−ムによる物質処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5983333A true JPS5983333A (ja) | 1984-05-14 |
Family
ID=16321961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57194279A Pending JPS5983333A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | 電子ビ−ムによる物質処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5983333A (ja) |
-
1982
- 1982-11-05 JP JP57194279A patent/JPS5983333A/ja active Pending
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