JPS5982926A - 排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は排ガス中の塩化水系等の有害ガスを除去する
薬剤例えば消石灰等のスラリー又は水溶液を排ガスの中
に噴霧する装置に関するものである。

ごみ焼却炉等から発生する排ガス中の有害ガス（主とし
て塩化水素、　ＳＯｘ　）の除去方法として、排ガス中
にスラリー又は水溶液の有害ガス除去用系剤を噴霧する
半乾式法によるものが知られている。この半幹弐法は除
去用薬剤をスラリー又は水溶液となし、反応塔内で排ガ
ス中に噴霧する方法で、噴霧薬剤は排ガス中の肩書ガス
と反応し、排ガスの保崩熱で乾燥された反応生成物とし
て排ガス中から除去される。

第１図は前述した反応塔内に装置ｉｉｒされる従来の薬
剤噴霧装置を示すものであって、これは反応塔内の排ガ
ス中への薬剤噴霧位置（例えば反応塔の上部内側）に固
定される装置本体１と、この装置本体１の下側に例えば
１０間程度の隙間Ｇをあけて配置され前記本体１を貫通
する中６回転軸２によって高速回転される回転円盤３と
を備え、前記装置本体１には有害ガス除去用薬剤例えば
消石灰スラリーが導入パイプ４を介して垂れ流し程度の
少流量で供給される薬剤供給部５（」二部が蓋体６によ
って閉塞され下部が流出孔７によって開口した室として
形成されている）が設けられておシ、また前記回転円盤
３には前記薬剤供給部５から流下する除去用薬剤の流入
開口部８と、流入薬剤の受入室９が設けられていると共
に、この室内に入った薬剤を回転遠心力によって円盤外
周部から排ガス中に噴出させる複数個の噴霧ノズル１０
が設けられている。

而して、この薬剤噴霧装置は消石灰スラリー等の除去用
薬剤が本体供給部５がら回転円盤３内に少量ずつ連続的
に供給され、該円盤の高速回転による遠心力を原動力と
して噴霧ノズル１０から噴出されるものであるから、前
記円盤３の高速回転時に該円盤内が負圧となり、このた
め周囲の排ガスが装置本体１と回転円盤３との隙間Ｇか
ら回転円盤３内にまき適寸れ、除去用薬剤と一緒になっ
て前記ノズル１０から噴出されるようになる。然るに排
ガスには炭酸ガスが含有されているため、前配薬剤が消
石灰スラリーの場合にはこの消石灰と排ガス中の炭酸ガ
スが化学反応して炭酸カルシウムとなシ、その生成直後
の炭酸カルシウムが前記ノズル１ｏの内面に付着して該
ノズルを閉塞するという問題が発生していた。

この発明は前記のような欠点を解消する目的でなされた
もので、回転円盤の高速回転時に周囲の排ガスが回転円
盤内に甘き込まれないように、該円盤内の圧力を外部か
ら吹込まれる空気圧によってＯ〜＋１０ｍ＋ｎＡｑ程度
の微正圧に維持させることを特徴とする。

以下、この発明装置の一実施例を第２図の図面に従い説
明すると、この実施例は第１図に示すものと同様な薬剤
噴霧装置（同一部分に同符号を伺して具体的説明は省略
する）において、装置本体１の薬剤供給部５に反応塔の
外部から箪気を２．゛を人する梁気吹込釘１１を接続し
て、ここから吹込まれる空気圧によって回転円盤３内の
高速回転１時における内圧を０〜＋１０ｍｍＡｑ程度の
微正圧に維持さぜることをｌｒ、１．徴とするもので、
前記微正圧のコントロールは回転円ｔ１１ε３の２・２
清流人開口郡８の上方位置に聞直した空気圧力検出器１
２によって、回転円盤３内に供給される梁気圧を検出し
、この検出信号で空気管路１３のｉｊｉ、’、−１１ｆ
ｐ　ノＲルブ１４を制御することで行なうようにしてい
る。なお、前記のような威正圧の矧持方法にＶよ圧力検
出器１２を用いないで仏〕単に行なう方法もある。）２
ｉ１ち、前記回転円０；＋　ｓは定速で回転するので、
この内部には略一定の負圧力が生じる。征ってこの一九
セの負圧力に見会う空気を短圧＞Ｎ　Ｍｉ；　１什で供
ｆ））すれば回転円（（ｌ：ε３の内圧を０〜＋１０ｍ
ｍＡｑ程度の微正圧に維持することができる。なお、回
転円ｍ３内の高速回転時における内圧を０〜＋１０悶Ａ
ｑ程度の微正圧にする理由は正圧があますｉ情くなると
回転円盤３内の倶＋！％′１薬剤が同転遠心力で良好に
噴才、ダされない等の不具合が生じるからである。

この発明の排ガス中の有害ガス除去用系剤噴霧装置は以
上述べたようなものであるから、回転円盤の高速回転時
に、周囲の排ガスが前記円盤内に−まき適寸れる問題が
防止され、排ガスが入ることによって生じる従来のよう
なノズル閉塞問題を簡単に解消することができた。即ち
、本発明の装置を実際に運転して実験してみたところ、
３ケ月経過後においてもノズルの閉塞は発生しなかった
（従来装置では２週程度度でノズルの閉塞が発生した例
がある）。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置
を示す要部断面図、２＋４２図はこの発明の一実施例に
よる排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴格装置を示す要部
断面図である。 １・・・装置本体、２・・・中心回転軸、３・・・回転
円盤、Ｇ・・・隙間、４・・・薬剤導入・ぐイブ、５・
・・薬剤供給部、８・・・薬剤流入開口部、９・・・流
入薬剤の受入室、１０・・・噴霧ノズル、１１・・・空
気吹込管、１２・・・窒気圧力検出器。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 薬剤供給部を有し排ガス中への薬剤噴霧位置に固定され
   る装置本体と、この装置本体の下側に隙間をあけて配置
   され前記本体を貫通する中心回転軸によって高速回転さ
   れる回転円盤とからなり、この回転円盤は薬剤供給部か
   ら流下する薬剤の流入開口部及び流入薬剤の受入室を有
   し且つこの室内に流入した薬剤を回転遠心力により外周
   部から噴出させる複数個の唄練ノズルを備えだ構成とさ
   れている排ガス中の有害ガス除去用薬剤の噴霧装置にお
   いて、前記装ｊＭ本体の薬剤供給部に空気吹込管を接続
   し、ここから吹込咬れる窒気圧によって回転円盤内の高
   速回転時における内圧を０〜＋１０ｍ＋＋Ａｑ程度の微
   正圧に維持することを特徴とする排ガス中の有害ガス除
   去用薬剤噴き装置。