JPS629365B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、液体の噴霧、時に、しかしこれに限
定されるものではないが研摩性の液体／固形物ス
ラリーの噴霧の改良に関する。

例えば英国特許出願第2084896A号（その全体
的内容をここに参考として示す）には、高速回転
カツプを有する液体の噴霧装置が記載されてお
り、この回転カツプの内部には伸長した表面を有
し、そこから液体が導かれ、その伸長した表面を
越えた直後に、液体はガス流と衝突し、それによ
つて液体の小滴の噴霧が生じる。

この噴霧装置に対する特許出願第2084896号に
記載された技術的応用の１つは、例えば、二酸化
硫黄を含む汚染ガスの処理であり、それは、噴霧
乾燥状態のもとで、例えば水性の石灰スラリーの
ような研摩性のある液体／固形スラリーのガスの
中に噴霧することによつて行われる。

そのような高速回転カツプ形噴霧装置を使用し
てスラリーを噴霧することに伴なつて時たま生じ
る１つの問題は、噴霧装置に固形物が無秩序に蓄
積されることであり、このことは、例えば、その
力学的バランスを逆転させたり、重大な機械的故
障を生じさせたりすることがある。そのような固
形物が蓄積すると、液体供給管が塞がれることも
ある。

固形物の蓄積は、例えば二酸化硫黄含有ガスの
逆循環から生じると考えられ、それが石灰スラリ
ーと反応して、固形物反応生成物を形成する。

特許出願第2084896にも記載されているよう
に、水性の石灰スラリーの代わりに、水性炭酸ナ
トリウム溶液が使用され、ここに説明されている
他の技術的応用は、電気集塵器を通過する前に水
と共にガスを導き、高熱の汚染ガスを水で蒸発に
より冷却する。これら全ての場合、例えば噴霧さ
れる液体が不純な固形粒子を含む場合に固形物の
蓄積が生じる。また、例えば、セメントプラント
からの汚染ガスを蒸発により冷却する場合に汚染
ガスの性質から固形物が蓄積する危険がある。

本発明の目的は、改良された噴霧装置を提供す
ることである。

本発明は、操作時にその伸長した表面から導か
れる液体を噴霧するのに使用される噴霧装置を提
供するもので、この装置は、(a)その内部に伸長し
た表面を有する軸方向に対称なカツプと、(b)伸長
した表面からカツプの外側の縁を越えて液体を導
くために、液体の膜が伸長した表面に連続的に備
えられるように、カツプの内部へ液体を供給する
装置と、(c)外側の縁をこえた直後に液体に衝撃を
与え、それによつて液状小滴の噴霧を生じさせる
ようにガス流を供給する装置と、(d)カツプ内にあ
つて、それと共軸に装着され軸方向に対称なバツ
フルであつて、伸長した表面との間に環状の間隙
が設けられたバツフルとからなる。

伸長した表面は、例えばカツプの外側の縁から
ほぼ円錐台形状に収斂し、包含円錐台形角は20゜
〜160゜であり、例えば60゜〜120゜、例えば80゜
〜100゜または120゜である。

円錐台形表面の軸方向の高さ（ｈ）に対するカ
ツプのその外側の縁における直径（Ｄ）の比、
（Ｄ：ｈ）は、例えば３：１〜６：１である。

バツフルは、例えばカツプの外側の縁から軸方
向へほぼ円錐台形的に収斂する逆向き円錐台形で
あつて、その包含円錐台形角は140゜、例えば120
゜を越えない。

又、バツフルはさらに、例えばカツプの外側の
縁から軸方向で半径方向へ戻され、直径（Ｄ）と
外側の縁からバツフルまでの距離（ｄ）との比
（Ｄ：ｄ）は８：１をこえず、例えば７：１〜
８：１である。

逆向きの円錐台形状バツフルの大きい方の直径
は前記外径の面でカツプの内面の直径の、例えば
少くとも70％、例えば少くとも75％である。

噴霧装置が毎分約15英ガロンまでの容量（例え
ば、毎分２〜15英ガロンの容量）を有するとき、 (i) その外側の縁におけるカツプの直径は、約
120mmをこえず、約110mmをこえないのが好まし
く、そして (ii) カツプの全高は約125mmをこえず、約90mmを
こえないのが好ましい。

噴霧装置が、例えば毎分30又は50英ガロンまで
の高い容量を有するとき、(i)と(ii)の数字の上限が
もつと増大するように思われる。

本発明を実施する噴霧装置は、特許出願第
2084896号に記載されているように、水性の石灰
スラリーを使つた噴霧式乾燥により二酸化硫黄含
有ガスを脱硫する方法と装置に関するが、その技
術的応用はこれに限定されるものではない。本発
明を実施する噴霧装置もまた、特許出願第
2084896号に記載されたような他の技術的応用に
も使用され、例えば、ガスから、特に塩化水素を
除去するために炭酸ナトリウム溶液が使用される
ような焼却プラントからの汚染ガスの処理のため
にさらに技術的応用が可能である。これらのあら
ゆる技術的応用において本発明を実施した噴霧装
置は液体から固形の分子不純物を除去するために
なんら特殊な手段を講じることなしに噴霧液の使
用を容易にすることがわかるであろう。

本発明を実施する噴霧装置は、化学作用あるい
は機械的作用のいづれかによつて固形物が蓄積さ
れる傾向を減少させるために液体又はスラリーの
接触時間を最少にし、カツプの伸長した面にうす
い膜を形成させるものである。

本発明はまた、ガスの流入口とガスの流出口を
有する室を備えるガス／液体接触装置を提供する
もので、この場合、本発明による噴霧装置は、液
体を室へ噴霧してガスと接触させるように配置さ
れ、このような配置によつて、操作時、室が噴霧
乾燥状態に維持される。

本発明はまた、(a)ガスの流入口と流出口を有す
るガス／液体接触用容器と、(b)化学反応により二
酸化硫黄を吸収する水溶液又はスラリーを前記容
器の中に噴霧する本発明による噴霧装置と、(c)前
記容器内でスラリー又は水溶液と接触したガスか
ら懸濁分子を除去するための、前記容器の流出口
と連通する装置と、(d)操作時、反応生成物がその
形成時に乾燥し、全部の水が蒸発するように、前
記容器内のガスの状態を制御する装置とを備え
る、高温の二酸化硫黄含有ガスを脱硫するのに使
用される装置を提供する。

本発明はまた、ガスを冷却及び／又は清浄にす
るために汚染ガスを液体で処理する方法を提供す
るもので、この場合、本発明による噴霧装置を使
用して汚染ガスの中へ液体が噴霧される。

ここで、本発明を実施した装置を、添付図面を
参照しながら説明する。本発明の方法、製品、及
び装置を示したこの説明は単なる例であつて、本
発明はこれに限定されるものではない。

石炭燃焼装置からの炎管ガスを脱硫する際に使
用される装置が第１図に概略的に示されている。
背が高くて細長い脱硫タワー６を通過した排ガス
を処理するユニツト５は、バツクフイルター又は
電気集塵器を有する。消石灰又は石灰岩の水性ス
ラリーが容器７に準備され、ポンプ８により管３
６を経て、脱硫タワー６の頂部にある回転カツプ
噴霧器９へ送られる。高温ガス、例えば二酸化硫
黄（体積比で例えば300〜3000p.p.m.のSO₂）を含
む、温度が120゜〜200℃のボイラーの排ガスは流
入管１０を通つて脱硫タワー６の頂部へ送られ
る。高温ガスと噴霧スラリーとが接触すると脱硫
タワー６の中で噴霧乾燥が行なわれ脱硫タワー６
の底部に乾燥粉末液が集められ、弁６ａで除去さ
れる。排ガスはそれから流出管１０ａを経てバツ
グフイルター又は電気集塵器５を通り、さらに粉
末放出物とフライアシユ（微粉灰）（いくらかの
使用吸収剤を含む）はホツパー１２に集められ、
弁１２ａから除去される。実質的に脱硫された排
ガスは、それからフアン１１により煙突１３を通
つて大気へ排出される。

脱硫タワー６とその操作は、特許出願第
2084896号の第６，７，８図に示した脱硫タワー
にほぼ同じである。代表的なものでは、１本の脱
硫タワー６が排ガスを毎分500000立方フイート
（毎分14000立方メートル）まで処理し、500メガ
ワツトの出力の石炭燃焼の発電所は、その全部の
排ガスの放出量を処理するために、そのようなタ
ワーを４本又は５本必要とする。

回転カツプ噴霧器９が第２図にさらに詳しく示
されている。回転カツプ形噴霧器９において、液
体供給通路は、ハウジング１４ｂの下方部分１４
ａに形成された室１４と、この室１４から出てい
る中空の垂直回転軸１６と、この垂直回転軸１６
の下端部分２０に螺合した軸方向に対称な分配部
材１７ａの頂部にある垂直ダクト１７と、軸方向
へ対称な分配部材１７ａに設けられた垂直ダクト
１７から出る下方へ傾斜した６本のダクト１９と
を有する。スラリー管３６は室１４へ通じてい
る。

室１４から下方へのびる液体供給通路は垂直回
転軸１６の軸線のまわりで対称をなすことがわか
る。

一体構造をなし、軸対称で質量が大きい回転カ
ツプ１８は、垂直回転軸１６の下端部分２０に取
付けられている。この下端部分２０は、カツプ１
８の対応するテーパーの凹部１８ａと嵌合するよ
うに外側が下向きにテーパーをなしている。カツ
プ１８は分配部材１７ａにより垂直回転軸１６上
に保持されることがわかる。カツプ１８とそのカ
ツプ１８内の分配部材１７ａとは共軸をなし、噴
霧器９の作動時、垂直回転軸１６と共に、その軸
線のまわりを回転する。

空気は、例えばブロワー２１ａによりカツプ１
８の外側にある環状室２１を通つて噴霧器９へ送
られる。ブロワー２１ａは制御弁２１ｃを有する
管２１ｂを経て室２１に接続されている。その空
気は、カツプ１８と、このカツプ１８を取巻き、
室２１の外壁を形成する固定カツプの側壁２３と
の間で、しかもそのカツプ１８の下方外側縁２２
ａのまわりに形成された環状のノズル孔２２を通
つて高速度（少くとも280フイート／秒）で室２
１から流出する。側壁２３は下方リング部分２２
ｂを有し、その内部は下方へ収斂してノズル孔２
２の外側境界を形成している。

側板２３は符号２３ｂの所で、それぞれのフラ
ンジ２３ａと１５ａを介して、ハウジング部材１
５にボルト締めされている。フランジ１５ａは脱
硫タワー６内に噴霧器９を取付けるために使用さ
れる。垂直回転軸１６はハウジング部材３０を通
つて上方へ伸長し、この垂直回転軸１６は、ハウ
ジング部材３０内で軸方向に間隔をおいて位置す
るボールベヤリング３２，３４に支持されてい
る。ハウジング部材３０は符号３３の所でフラン
ジ３１を介してハウジング部材１５にボルト締め
され、フランジ３１から下方、ハウジング部材１
５のくぼみ部分３３ａ内へ伸長している。

垂直回転軸１６の上端部分は、フランジ３５を
介して符号３７の所でハウジング部材３０にボル
ト締めされているベルトハウジング３８内へ伸長
している。ベルトハウジング３８内で垂直回転軸
１６には、ベルトプーリー４０が取付けられ、駆
動ベルト４２はベルトハウジング３８内で、ベル
トプーリー４０と電気モータ４６の駆動プーリー
４４のまわりに張られている。電気モータ４６は
符号４８の所で、ベルトハウジング３８にボルト
締めされている。ハウジング１４ｂはベルトハウ
ジング３８に取付けられ、垂直回転軸１６の上端
部分はベルトハウジング３８の上壁と液体シール
５０を通つて室１４内へ伸長している。

回転カツプ形噴霧器９はまた、分配部材１７ａ
に固形物がたまる危険を最少限にするために、分
配部材１７ａにある軸方向のくぼみ部５４に螺合
した浄化ヘツド５２を有する空気浄化装置を備え
ている。

浄化ヘツド５２は、垂直回転軸１６内にそれと
共軸に受入れられた垂直管５６に取付けられてい
る。垂直管５６の内部は、浄化ヘツド５２内にあ
る複数の浄化通路５８に連絡している。垂直管５
６はハウジング１４ｂの上方部分１４ｃにある室
６２内へ室１４を通つて伸長している。ハウジン
グ１４ｂの上方部分１４ａと下方部分１４ｃはね
じ６４により一緒に取付けられ、そして水平板６
６で分離されている。水平板６６内で垂直管５６
の上端部分が、シールされたボールベヤリング７
０の中に垂直回転軸１６と共に回転するように取
付けられている。空気は室６２から垂直管５６を
介して浄化ヘツド５２へ供給され、その空気は、
ブロワー２１ａにより管７２を通つて室６２へ供
給されている。管７２は管２１ｂから分岐し、制
御弁７２ａを有する。

操作時、カツプ１８は例えば3000〜6000r.p.m
の速度で電気モータ４６により回転し、例えば水
酸化カルシウムのような液状スラリーが、ダクト
１９を有する供給通路を介して回転しているカツ
プ１８の内部へ連続的に供給され、そして均一な
うすい膜としてカツプ１８の伸長した内面７４の
まわりに連続的に分配される。遠心力がカツプ１
８の縁２２ａを越えて懸濁液を押出すので、それ
は縁２２ａをこえた直後に、ノズル孔２２から出
る空気の高速流と衝突することにより噴霧され
る。これは液状膜を不安定にし、小滴の噴霧を生
じさせ、これが二酸化硫黄を含む炎管ガスの中へ
噴霧され、それによつて化学反応によりそのガス
から二酸化硫黄が吸収される。排ガスの周囲は、
脱硫タワー６の中に噴霧の乾燥状態が保持される
ような条件をもつ。水は全部蒸発し、吸収生成物
の形成時それは乾燥する。

ここで、カツプ１８と分配部材１７ａと浄化ヘ
ツド５２をさらに詳しく説明する。

この大きな一体型のカツプ１８は外形が円筒形
の上流端部分７６と縁２２ａから上方へ収斂する
円錐台形の下流端部分７８とを有する。この縁２
２ａは鋭く尖つていて、内面７４は円錐台形をな
す。内面７４の円錐台形角β（第７図）は約90゜
であり、縁２２ａから円筒形部分７６の頂部まで
のカツプ１８の高さは約75mmである。縁２２ａに
おけるカツプ１８の直径Ｄもまた約75mmである。

分配部材１７ａの下方部分８０はカツプ１８と
共軸で、カツプ１８の中に円錐台形のバツフル部
分８０を形成し、下方部分８０の外側の縁２２ａ
とカツプ１８の内部との間に環状の間隙８２を残
している。ダクト１９は、バツフル部分８０から
上方へ伸長する分配部材１７ａの円筒部分８０ａ
に設けられている。バツフル部分８０の下方水平
面８４はカツプ１８の縁２２ａの面に位置する。
水平面８４の直径、即ち円錐台形のバツフル部分
８０の大きい方の直径は、縁２２ａの直径の約93
％であり、環状の間隙８２は少くとも、ダクト１
９を通過したスラリー中の固形粒子による妨害の
可能性をなくすように十分な幅を有する。バツフ
ルの包含円錐角は約100゜である。

浄化ヘツド５２は球根状本体８６を有する。こ
の球根状本体８６は、水平面８４から下方へ伸長
する上方六角部分８６ａを有して半球形部分８６
ｂと合同している。球根状本体８６は分配部材１
７ａのくぼみ部５４に螺合した中空の円筒形スタ
ツブ８７と一体をなしている。通路５８は、垂直
管５６と共軸な垂直通路５８、複数の上方半径方
向で水平な浄化通路５８、そして45゜の角度で下
方へ傾斜した複数の浄化通路５８と対称をなすよ
うに配置されている。全ての浄化通路５８は、そ
れ自身、垂直管５６に連絡する円筒形スタツブ８
７の内部と連通している。

バツフル部分８０は、カツプ１８内の二酸化硫
黄を含有するガスの再循環を最少限にするように
働き、それによつて、カツプ１８内に固形の反応
生成物が沈澱するのを最少限にする。空気浄化装
置は、二酸化硫黄を含有するガスがバツフル部分
８０の下面８４へ向つて接近するのを最少限に
し、それによつてバツフル部分８０への固形物の
付着を最少限にする。

回転カツプ形噴霧器９はスラリーの流量比が、
例えば毎分２〜８英ガロンで、スラリーの濃度
が、例えば重量比で40％に至るまでの石灰の固形
物の状態で満足に作動することがわかつた。

変形例として、バツフル部分８０の包含角は、
それがダクト１９の出口端まで伸長する（第３，
６図の場合のように）ように約70゜に減少させ
る。これは、バツフル部分８０と円筒部分８０ａ
との間のかどの停滞し易い部分に固形物が付着す
るのを最少限にする。

第１変形例の回転カツプ形噴霧器（第３，４
図）は、回転カツプと分配部材の組立てに関し
て、そしてそこに空気浄化装置がないことを除け
ば、第２図の噴霧器９に構造も、配置も、操作も
同じである。第１変形例の噴霧器のカツプ１１８
と分配部材１１７については、それらがそれぞれ
カツプ１８及び分配部材１７ａとは異なるので、
これから説明する。

第１変形例の噴霧器は垂直回転軸１６に対応す
る中空軸１１６を有する。カツプ１１８は中空軸
１１６に螺合されている。

分配部材１１７はカツプ１１８内の対応するく
ぼみ１２８中に受入れられたフランジ１２１の中
に終わつている垂直ダクト１２０を有している。
下方円錐台形バツフル部分１２２は対称に間隔を
おいて位置する３本のねじ１２４（第４図参照）
によりフランジ１２１に取付けられている。フラ
ンジ１２１は３個の一体的になつた狭い台脚１２
６を有し、そこを通つてねじ１２４が伸長してい
る。周囲方向に幅広のスラリーの分配器スロツト
１３０（第４図）は各対の隣接した台脚１２６間
に形成され、それらの台脚１２６はスラリーの流
れを最低限にしか妨害せず、又固形物の付着によ
るスラリーの流れを塞ぐ危険も最少限にする。

各台脚１２６は、カツプ１１８の半径のまわり
で対称をなす流線形の輪郭を有している。各流線
形の輪郭は鈍い曲線の尾部分１３２を有し（第４
図の平面図）、これはバツフル部分１２２の上方
周囲に正接し、先のとがつた先行部分１３４は分
配部材１１７の円筒部分１２０の内周に位置する
（平面図で）。バツフル部分１２２の下方水平面１
３６はカツプ１１８の軸方向で内方へ、カツプ１
１８の縁１４０から上方へ戻され、この戻しが空
気浄化装置の必要をなくすことがわかつた。

カツプ１１８は低い円錐台形面１４２を有し、
これは環状の面取り部１４４になめらかに合同
し、その環状の面取り部１４４それ自身、フラン
ジ１２１の水平面１４６へなめらかに合同し、そ
の水平面１４６はスロツト１３０の上部境界とな
り、かくして面取り部１４４はスロツト１３０か
ら円錐台形面１４２へスラリーが滑らかに移動し
易くする。

カツプ１１８の表面１４２の包含円錐台形角は
また約90゜であつて、そのカツプ１１８の直径Ｄ
（第７図）は、縁１４０の所で約75mmであり、カ
ツプ１１８の全高は約70mmであり、縁１４０から
表面１４６までの軸方向の高さｈ（即ち、表面１
４２の軸方向の高さ）は約16mmである。

したがつて、直径Ｄと高さｈの比は約4.7：１
である。バツフル部分１２２の面１３６の直径
は、表面１３６の平面における表面１４２の水平
直径の約77％である。バツフル部分１２２の包含
円錐台形角は表面１４２のそれと同じであり、か
くしてバツフル部分１２２の円錐台形面は表面１
４２に平行となる（第３図）。

第５図は第３，４図の噴霧器の変形例を示して
おり、台脚１２６により生じる液体の流れの妨害
は、流線形輪郭の尾部分として、ねじ１２４の輪
郭（第５図）を使用し、台脚１２６の先端輪郭を
もつと狭くすることによつてさらに減少する。流
線形輪郭の尾部分は、バツフル部分１２２の上方
周囲より半径方向内方に位置している。

第２変形例の回転カツプ形噴霧器（第６図）
は、回転カツプと分配部材の組立を除けば、第１
変形例の回転カツプ形噴霧器に、構造も、配置
も、操作も同じである。第２変形例のカツプ２１
８と分配部材２１７については、それらがカツプ
１１８及び分配部材１１７とはそれぞれ異なるの
で、以下説明する。

カツプ２１８は一体構造に作られていて、第２
図のダクト１９に幾分似た12本の下方に傾斜した
ダクト２１９を有している。分配部材２１７の下
方部分２２２はまた、ダクト２１９を備える拡大
された中間部分２２４により上方ダクト２２０に
接続された円錐台形のバツフル部分を形成してい
る。

カツプ２１８は環状の面取り部２４４へ滑らか
に合同する下方円錐台形面２４２を有し、この面
取り部２４４それ自身、ダクト２１９の頂部へな
めらかにつながつている。

下方円錐台形面２４２の包含円錐台形角は約90
゜であり、カツプ２１８の全高は約85mmである。
外側の縁２５０の所におけるカツプ２１８の直径
Ｄは約115mmであり、下方円錐台形面２４２の軸
方向の高さｈは約30mmである。従つて、直径Ｄと
高さｈの比は約3.8：１である。縁２５０から表
面２５２までの軸方向の距離ｄ（第７図）は約16
mmであり、したがつて、直径Ｄと距離ｄの比は約
7.2対１である。バツフル部分２１７の下方水平
面２５２の直径は下方水平面２５２の平面におけ
る表面２４２の水平直径の約80％である。バツフ
ル部分２２２の包含円錐台形角は約120゜であ
る。

第６図の回転カツプ形噴霧器はスラリーの流量
比が毎分約15英ガロンまででもつて満足に作動す
る。

第２図の符号１９や第６図の符号２１９のよう
に、液体分配のために複数のダクトを使用する場
合、ダクトの数は５〜15本位が好ましく、６〜12
本がもつとも好ましい。

第８図には例えば、第３図の噴霧器に使用され
る変形分配装置が示され、その他は変りない。第
８図の分配部材３１７とバツフル部分３２２につ
いてはそれらが分配部材１７及びバツフル部分１
２２とは異なるので、以下説明する。

分配部材３１７は分配部材１７と同じ方法で軸
１１６に螺合され、分配部材３１７はカツプ１１
８にあるくぼみ１２８に受入れられたフランジ３
２１の所で終わつている垂直ダクト３２０を有す
る。

バツフル部分３２２は、４個の垂直羽根４００
の組立体（第８図にはそのうちの３個が示されて
いる）と軸方向の台脚４０２とにより適所に固定
される。軸方向の台脚４０２の下方端部はバツフ
ル部分３２２の円錐台形の上方伸長部４２３にあ
る対応くぼみ４０３に螺合する。上方伸長部４２
３は、ダクト３２０の下端部にある平行な幅広の
円錐台形面４２５に対面する。羽根４００は台脚
４０２の上方部分に取付られ、台脚４０２の軸線
のまわりに90゜の間隔をおいて、そこから半径方
向へ伸長する。又その４個の羽根４００を、120
゜の間隔にして３個にしたり、又180゜の間隔に
して２個にすることもできる。各羽根４００にあ
る耳部４０４はダクト３２０にある対応するスロ
ツト４０５に取付けられている。台脚４０２は円
錐形の上流端突起４４０を有している。この上流
端突起４４０は液体の流れを導いて、流線形の流
れを促進し、各羽根４００は水平下縁４０６と、
突起４４０の頂点から耳部４０４へ下方へ傾斜す
る上縁４０８とを有する。

第８図の装置は、幅広くて環状の妨害されない
分配部材スロツト４３０を備え、これは更に固形
物の付着によりスラリーの流れを妨害する危険を
最少限にする。フランジ３２１からバツフル部分
３２２までの垂直方向の間隔、したがつてスロツ
ト４３０の幅は、台脚４０２の下端部分にありバ
ツフル部分３２２にねじ込まれる所であるねじ部
の長さにより決まる。又、バツフル部分３２２を
台脚４０２上で上下へねじまわしすることによつ
て、スロツト４３０の幅を調整することもでき
る。

バツフル部分３２２の下面の直径は表面４３６
の平面における表面１４２の水平直径の約75％で
ある。バツフル部分３２２の包含円錐台形角は表
面１４２のそれと同じである。

以上の参考となるものが、1983年11月17日付で
ドレツサーインダストリー社の名前で出願された
英国特許出願第8330662号と第8330663号とに示さ
れている。

【図面の簡単な説明】

第１図は排ガスを脱硫する際に使用される装置
の流れ図、第２図は回転カツプ形噴霧器の部分断
面図、第３図は第１変形例の回転カツプ形噴霧器
の一部の断面図、第４図は第１変形例の噴霧器の
一部の部分平面図、第５図は第４図の変形例を示
す図、第６図は第２変形例の回転カツプ形噴霧器
の部分断面図、第７図は寸法の変数を示す図、第
８図は第３図の噴霧器に使用される変形の分配装
置を示す図である。 ５：電気集塵器、６：脱硫タワー、６ａ：弁、
７：容器、８：ポンプ、９：回転カツプ形噴霧
器、１０：流出管、１１：フアン、１２：ホツバ
ー、１２ａ：弁、１３：煙突、１４，６２：室、
１４ａ：ハウジングの下方部分、１４ｂ：ハウジ
ング、１５：ハウジング部材、１５ａ，２３ａ，
３１，３５，１２１，３２１：フランジ、１６：
垂直回転軸、１７：垂直ダクト、１７ａ，１１
７，２１７，３１７：分配部材、１８，１１８，
２１８：カツプ、１８ａ：テーパー形くぼみ、１
９，２１９：ダクト、２０：軸の下方部分、２
１：環状室、２１ａ：ブロワー、２１ｂ，７２：
管、２１ｃ：制御弁、２２：ノズル孔、２２ａ，
１４０，２５０：縁、２３：側壁、３０：ハウジ
ング部材、３２，３４，７０：ボールベヤリン
グ、３８：ベルトハウジング、４０：ベルトプー
リー、４４：駆動プーリー、４６：電気モータ、
５０：液体シール、５２：浄化ヘツド、５６：垂
直管、５８：浄化通路、７２ａ：制御弁、８０，
１２２，２１７，２２２，３２２：バツフル部
分、８２：間隙、１２６：台脚。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ガスの流入口と流出口を有するガス／液体接
   触容器と、 水溶液又はスラリーを前記容器の中へ噴霧する
   噴霧装置と、 前記容器内でスラリー又は溶液と接触したガス
   から懸濁粒子を除去するための、前記容器の流出
   口と連通する電気集塵器又はバツクフイルター
   と、 噴霧乾燥の条件が得られ、全部の水が蒸発する
   ように、前記容器内のガスの状態を制御する装置
   とを備える、ガス中へ液体を噴霧する装置であつ
   て、噴霧装置は、 毎分6000回転以下の回転数で回転し、質量が大
   きな一体化された軸対称なカツプであつて、その
   内部はカツプの外側の縁からほぼ円錐台形状に収
   斂する伸長した表面を備え、その包含円錐台形角
   は20゜〜160゜であり、円錐台形面の軸方向の高
   さ（ｈ）に対する、カツプの外側の縁におけるそ
   の直径（Ｄ）の比（Ｄ：ｈ）が３：１〜６：１で
   あるカツプと、 前記の伸長した表面からカツプの外側の縁を越
   えて液体を方向づけるための液体膜がその伸長し
   た表面上に連続的に供給されるように、カツプの
   内部へ液体を供給する装置であつて、カツプと共
   軸の分配器組立体と液体の流れに関して先導をな
   す円錐形の上流端部分を有する装置と、 外側の縁をこえた直後に液体に衝撃を与えるた
   めにガス流を供給し、それによつて液体の点滴噴
   霧を生じさせる装置と、 カツプ内にそれと共軸に装着された軸対称の円
   錐台形状のバツフルであつて、該バツフルと前記
   の伸長した表面との間には、環状の間隙が設けら
   れ、カツプの外側の縁に対して軸方向で内方へ戻
   され、カツプの外側の縁における直径（Ｄ）と外
   側の縁からバツフルまでの軸方向の距離（ｄ）と
   の間の比（Ｄ：ｄ）が、８：１を越えず、そして
   バツフルの大きい方の直径が前記直径の平面にお
   けるカツプの内面の直径の少くとも70％であるバ
   ツフルと、 カツプを取り巻く固定された側壁であつて、カ
   ツプとカツプの外側の縁の近くの側壁との間に環
   状のオリフイスが形成され、ガス流を供給する装
   置が、衝撃用のガス流を環状のオリフイスを通つ
   て与えるためにガスを側壁に向けて供給するよう
   に配置されている側壁を有する、ガス中へ液体を
   噴霧する装置。