JPS5981077U - 薄膜形成用基板収納ラツク構造 - Google Patents

薄膜形成用基板収納ラツク構造

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JPS5981077U
JPS5981077U JP17654082U JP17654082U JPS5981077U JP S5981077 U JPS5981077 U JP S5981077U JP 17654082 U JP17654082 U JP 17654082U JP 17654082 U JP17654082 U JP 17654082U JP S5981077 U JPS5981077 U JP S5981077U
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JP
Japan
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thin film
substrate storage
film formation
storage rack
rack structure
Prior art date
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Pending
Application number
JP17654082U
Other languages
English (en)
Inventor
誠司 佐生
中尾 正文
勲 森本
Original Assignee
旭化成株式会社
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Publication date
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  • Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1.2図は従来技術に基づく薄膜形成プラントの概略
説明断面図、第3図以下はこの考案の実施例の説明図で
あり、第3〜7図は近接体の斜視図、第8図は第7図A
部拡大斜視図、第9,10図は第3.6図近接体のラッ
ク取付縦断面図、第11図は他の実施例の基体斜視図、
第12図は同ラックセット状態の断面図、第13図以下
は実験例の説明図であって、第13図は1つの実験例の
実験例の平面図、第14図は第13図B−B断面図、第
15図は製品斜視図、第16図は別の実験例の近接体の
斜視図、第17図は不均質薄膜の模様パターン平面図で
ある。 11・・・・・・薄膜形成装置、1・・・・・・真空装
置、2・・・・・・処理室、3.3’、3″・・・・・
・収納室、7,11゜13.15,17,19.26・
・・・・・近接体、7・・・・・・基板、5・・・・・
・ラック、13・・・・・・薄膜形成面、H・・・・・
・排気抵抗間隔。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 薄膜形成装置を有し真空装置に接続される処理室に連接
    する基板の収納室に設けられた基板収納ラック構造にお
    いて、該ラックの棚類の対基板近接体が該基板の薄膜形
    成面に対向する面を実質的一定排気抵抗間隔を介して設
    置されていることを特徴とする薄膜形成用基板収納ラッ
    ク構造。
JP17654082U 1982-11-24 1982-11-24 薄膜形成用基板収納ラツク構造 Pending JPS5981077U (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS506195A (ja) * 1972-11-21 1975-01-22
JPS5681922A (en) * 1979-12-06 1981-07-04 Sumitomo Electric Ind Ltd Manufacture of thin film

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS506195A (ja) * 1972-11-21 1975-01-22
JPS5681922A (en) * 1979-12-06 1981-07-04 Sumitomo Electric Ind Ltd Manufacture of thin film

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