JPS5974515A - 自動焦点合せ装置 - Google Patents
自動焦点合せ装置Info
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- JPS5974515A JPS5974515A JP18366982A JP18366982A JPS5974515A JP S5974515 A JPS5974515 A JP S5974515A JP 18366982 A JP18366982 A JP 18366982A JP 18366982 A JP18366982 A JP 18366982A JP S5974515 A JPS5974515 A JP S5974515A
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- mask
- focusing
- focus
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/28—Systems for automatic generation of focusing signals
- G02B7/30—Systems for automatic generation of focusing signals using parallactic triangle with a base line
- G02B7/32—Systems for automatic generation of focusing signals using parallactic triangle with a base line using active means, e.g. light emitter
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- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は顕微鏡画像の自動焦点合せ装置に係シ、特に半
導体生産設備のマスク検査装置やウエノ・−検査装置等
の顕微鏡画像処理装置に好適な自動焦点合せ装置に関す
る。
導体生産設備のマスク検査装置やウエノ・−検査装置等
の顕微鏡画像処理装置に好適な自動焦点合せ装置に関す
る。
従来の顕微鏡画像の自動焦点合せ装置としては、対象像
のコントラスト変化を利用するもの、レーザ光点を資料
に投射してその反射像の位置変化を利用するもの、空気
マイクロメータを利用して対物レンズと資料間の距離を
一定に保つもの等、各種考案され実用されている。しか
しながら、これらはいずれも静止している資料に対する
焦点合せに重点がおかれておシ、例えば半導体生産設備
のマスク検査装置やウエノ・−検査装置等で必要とされ
る資料の走査が行なわれるものに対しては自動焦点合せ
の追従応答速度が遅い欠点がめったＯ例えば第１図はマ
スク検査装置のマスク検査ステージの概略正面図で、図
中の１は顕微鏡の左側（図において）対物レンズ、２は
右側対物レンズ、３はホトマスク、４は左側バタン検出
器、５は右側バタン検出器、６はＸ−Ｙステージ、７は
２ステージを示す。このように特に対物レンズ１，２が
マスク３の左、右のバタンにそれぞれ１個づつ２式必要
な場合には、マスク３がＸ、Ｙ方向（図中に矢印点線で
示す）に走査゛されるさい、両者に対して常に焦点を合
わせることは非常に困難であって、焦点補正量が大きい
ときには更に困難性を増し、図示のようにマスク３がＸ
−Ｙステージ６および２ステージ７で形成される走査平
面（図中に鎖線で示す）に対し傾いているため、２つの
対物レンズ１．２の焦点位置を含む焦点平面（図中に鎖
線で示す）に対して傾いているときには、マスク３の走
査に合わせて常に焦点補正を行わなければならないため
応答性が悪い欠点があった。このような場合に従来は２
つの対物レンズ１，２に取シ付けられた焦点検出器（図
示していない）からの出力によシそれぞれ独立に対物レ
ンズ１．２を動かす構造のものがあるが、高精度の・（
タン検出、したがって高倍率レンズが要求されるように
なると、対物レンズ１．２を動かす方式では倍率変化を
生じるだめの満足な結果を得ることが一層困難となって
きた。一方、マスク３を動かす方式は倍率変化の問題は
ないが、その一方を上下させると他方に干渉するために
安定に制御を行なうことが困難となる等の欠点があった
。
のコントラスト変化を利用するもの、レーザ光点を資料
に投射してその反射像の位置変化を利用するもの、空気
マイクロメータを利用して対物レンズと資料間の距離を
一定に保つもの等、各種考案され実用されている。しか
しながら、これらはいずれも静止している資料に対する
焦点合せに重点がおかれておシ、例えば半導体生産設備
のマスク検査装置やウエノ・−検査装置等で必要とされ
る資料の走査が行なわれるものに対しては自動焦点合せ
の追従応答速度が遅い欠点がめったＯ例えば第１図はマ
スク検査装置のマスク検査ステージの概略正面図で、図
中の１は顕微鏡の左側（図において）対物レンズ、２は
右側対物レンズ、３はホトマスク、４は左側バタン検出
器、５は右側バタン検出器、６はＸ−Ｙステージ、７は
２ステージを示す。このように特に対物レンズ１，２が
マスク３の左、右のバタンにそれぞれ１個づつ２式必要
な場合には、マスク３がＸ、Ｙ方向（図中に矢印点線で
示す）に走査゛されるさい、両者に対して常に焦点を合
わせることは非常に困難であって、焦点補正量が大きい
ときには更に困難性を増し、図示のようにマスク３がＸ
−Ｙステージ６および２ステージ７で形成される走査平
面（図中に鎖線で示す）に対し傾いているため、２つの
対物レンズ１．２の焦点位置を含む焦点平面（図中に鎖
線で示す）に対して傾いているときには、マスク３の走
査に合わせて常に焦点補正を行わなければならないため
応答性が悪い欠点があった。このような場合に従来は２
つの対物レンズ１，２に取シ付けられた焦点検出器（図
示していない）からの出力によシそれぞれ独立に対物レ
ンズ１．２を動かす構造のものがあるが、高精度の・（
タン検出、したがって高倍率レンズが要求されるように
なると、対物レンズ１．２を動かす方式では倍率変化を
生じるだめの満足な結果を得ることが一層困難となって
きた。一方、マスク３を動かす方式は倍率変化の問題は
ないが、その一方を上下させると他方に干渉するために
安定に制御を行なうことが困難となる等の欠点があった
。
本発明の目的は上記した従来技術の欠点をなくし、顕微
鏡画像とくにマスク検査装置等のように賃料の走査を必
要とするものに対して応答性のよい顕微鏡画像の目動焦
点合せ装置を提供するにある。
鏡画像とくにマスク検査装置等のように賃料の走査を必
要とするものに対して応答性のよい顕微鏡画像の目動焦
点合せ装置を提供するにある。
本発明は走査に先たち資料の複数箇所での焦点ずれ量を
測定すると共にこの測定値によ＃）資料が走査平面に対
してあらかじめ対物レンズの平均的な仮想焦点平面にな
るように予備焦点合せをオフライン的に実行させること
にょシ、実際の走査時の焦点合せ補正量を大巾に低減し
てオンライン自動焦点合せの応答速度を向上させるよう
にしたものである。
測定すると共にこの測定値によ＃）資料が走査平面に対
してあらかじめ対物レンズの平均的な仮想焦点平面にな
るように予備焦点合せをオフライン的に実行させること
にょシ、実際の走査時の焦点合せ補正量を大巾に低減し
てオンライン自動焦点合せの応答速度を向上させるよう
にしたものである。
以下、本発明の一実施例を第２図によシ説明する。第２
図は本発明による自動焦点合せ装置を適用したマスク検
査装置の一実施例を示す一部斜視図を含む概略構成図で
、図中め第１図と同一符号は同一または相当部分を示し
、１は左側（図におイテ）の対物レンズ、２は右側の対
物レンズ、３はマスク、４は左側のバタン検出器、５は
右側のバタン検出器、８と９は前処理回路、１０はバタ
ン比較検査電子回路、１１は計算機、１２はステージ、
１３は左側の焦点検出器、１４は右側の焦点検出器、１
５はインタフェース、１６はＸ軸制御ドライバ、１７は
Ｘ軸駆動機構、１８はＸ軸制御ドライバ、１９はＹ軸駆
動機構、加はθ角（回転角）制御ドライバ、２１はθ角
駆動機構、ｎはＺ軸制御ドライバ、おは２軸駆動機構、
冴は２軸のΔｚ１用制御ドライバ、δはΔｚ１用微動機
構、２６はΔｚ２用制御ドライバ、２７はΔｚ２用微動
機構、あはΔｚ５用制誤制御ドライバ９はΔｚ５用微動
機構である。この構成で、対物レンズ１．２によシマス
フ３のバタンをバタン検出器４．５にそれぞれ投影し、
このバタン前処理回路８．９で処理して扱い容易な電気
信号に変換後、バタン比較検査電子回路１０で欠陥判定
を行ない、その結果を計算機１１で処理するものである
。このさいマスク３は計算機１１よシ各制御ドライバ１
６ 。
図は本発明による自動焦点合せ装置を適用したマスク検
査装置の一実施例を示す一部斜視図を含む概略構成図で
、図中め第１図と同一符号は同一または相当部分を示し
、１は左側（図におイテ）の対物レンズ、２は右側の対
物レンズ、３はマスク、４は左側のバタン検出器、５は
右側のバタン検出器、８と９は前処理回路、１０はバタ
ン比較検査電子回路、１１は計算機、１２はステージ、
１３は左側の焦点検出器、１４は右側の焦点検出器、１
５はインタフェース、１６はＸ軸制御ドライバ、１７は
Ｘ軸駆動機構、１８はＸ軸制御ドライバ、１９はＹ軸駆
動機構、加はθ角（回転角）制御ドライバ、２１はθ角
駆動機構、ｎはＺ軸制御ドライバ、おは２軸駆動機構、
冴は２軸のΔｚ１用制御ドライバ、δはΔｚ１用微動機
構、２６はΔｚ２用制御ドライバ、２７はΔｚ２用微動
機構、あはΔｚ５用制誤制御ドライバ９はΔｚ５用微動
機構である。この構成で、対物レンズ１．２によシマス
フ３のバタンをバタン検出器４．５にそれぞれ投影し、
このバタン前処理回路８．９で処理して扱い容易な電気
信号に変換後、バタン比較検査電子回路１０で欠陥判定
を行ない、その結果を計算機１１で処理するものである
。このさいマスク３は計算機１１よシ各制御ドライバ１
６ 。
１８ 、２０ 、２３を介して各駆動機構１７ 、１９
、２１ 、２３を駆動することによシ各Ｘ、Ｙ、θ、
２方向に移動可能なステージ１２に載せられ、２個の対
物レンズ１．２の２つの像が相対的に、同一形状ＩＣチ
ップの同一バタンを比較することにょシ欠陥判定を行な
っているが、欠陥判定のよシ詳細な方式については本発
明の目、７的でないから省略する。一方、マスク３はス
テージ１２のＸ、Ｙ方向（図中に矢印点で示す）の走査
にょシ全面を走査されるが（図中にマスク３の走査方向
を実線矢印で示す）、このときマスク３と対物レンズ１
．２は合焦点でなければ検出したパタンの信頼性が保た
れずに欠陥判定は無意味となるため、パタン検出中は焦
点を常に合わせることが重要となる。特にマスク３のパ
タンはマスク材質の精度やステージ１２の走行中の上下
動等のために、焦点がずれることは対物レンズ１，２に
高倍率レンズを用いた焦点距離の短い本実施例において
は避けられないから、自動焦点合せを行なうことが必須
となる。そこで本実施例では、まず全面走査に先きかけ
、例えば片側の焦点検出器１３によりマスク３上の複数
個の点で測定し、この信号をインタフェース１５を介し
て計算機１１に取υ込んで、対物レンズ１．２に対して
ステージ１２の上下方向の位置および傾斜を補正すべき
２軸駆動機構おおよびｚ軸の各Δｚｌ、ΔＺ２＋Δｚ５
用微動機構δ、 ２７ 、２９の操作量を演算し、これ
らの機構を２軸制御ドライバｎおよび各Δｚ１．ｌｚ２
．Δｚ５用制御ドライバ２４，２６．２８を介して操作
することによシ、走査平面に対してあらかじめマスク３
のおよその焦点合せをオフライン的に行なう。このさい
焦点検出器１３は絶対的に更正されてぃなければならな
い。ついで計算機１１よシ各Ｘ、Ｙ軸制御ドライバ１６
、１８を介してＸ、Ｙ軸駆動機構１７ 、１９により
ステージ１２をＸ、Ｙ軸方向に走査してマスク３を全面
走査し、上述の欠陥判定を行なう。このときは対物レン
ズ１．２に取り付けられた焦点検出器１３ 、１４の信
号をインタフェース１５を介して計算機１１に取シ込み
、ステージ３のＸ、Ｙ軸方向の走査位置座標（ｘ、ｙ）
および対物レンズ１゜２の間隔を等より補正すべき２軸
駆動機構６および各ΔＺ１．ｊＺ２．ＪＺ５用微動機構
２５ 、２７ 、２９１７）操作量を演算して、これら
機構を２軸制御ドライバ２２および各ΔＺｌ、ΔＺ２＋
Δ２う用制御ドライバ２５ 、２７ 、２９を介して操
作することにより自動焦点合せをオンライン的に行なう
。
、２１ 、２３を駆動することによシ各Ｘ、Ｙ、θ、
２方向に移動可能なステージ１２に載せられ、２個の対
物レンズ１．２の２つの像が相対的に、同一形状ＩＣチ
ップの同一バタンを比較することにょシ欠陥判定を行な
っているが、欠陥判定のよシ詳細な方式については本発
明の目、７的でないから省略する。一方、マスク３はス
テージ１２のＸ、Ｙ方向（図中に矢印点で示す）の走査
にょシ全面を走査されるが（図中にマスク３の走査方向
を実線矢印で示す）、このときマスク３と対物レンズ１
．２は合焦点でなければ検出したパタンの信頼性が保た
れずに欠陥判定は無意味となるため、パタン検出中は焦
点を常に合わせることが重要となる。特にマスク３のパ
タンはマスク材質の精度やステージ１２の走行中の上下
動等のために、焦点がずれることは対物レンズ１，２に
高倍率レンズを用いた焦点距離の短い本実施例において
は避けられないから、自動焦点合せを行なうことが必須
となる。そこで本実施例では、まず全面走査に先きかけ
、例えば片側の焦点検出器１３によりマスク３上の複数
個の点で測定し、この信号をインタフェース１５を介し
て計算機１１に取υ込んで、対物レンズ１．２に対して
ステージ１２の上下方向の位置および傾斜を補正すべき
２軸駆動機構おおよびｚ軸の各Δｚｌ、ΔＺ２＋Δｚ５
用微動機構δ、 ２７ 、２９の操作量を演算し、これ
らの機構を２軸制御ドライバｎおよび各Δｚ１．ｌｚ２
．Δｚ５用制御ドライバ２４，２６．２８を介して操作
することによシ、走査平面に対してあらかじめマスク３
のおよその焦点合せをオフライン的に行なう。このさい
焦点検出器１３は絶対的に更正されてぃなければならな
い。ついで計算機１１よシ各Ｘ、Ｙ軸制御ドライバ１６
、１８を介してＸ、Ｙ軸駆動機構１７ 、１９により
ステージ１２をＸ、Ｙ軸方向に走査してマスク３を全面
走査し、上述の欠陥判定を行なう。このときは対物レン
ズ１．２に取り付けられた焦点検出器１３ 、１４の信
号をインタフェース１５を介して計算機１１に取シ込み
、ステージ３のＸ、Ｙ軸方向の走査位置座標（ｘ、ｙ）
および対物レンズ１゜２の間隔を等より補正すべき２軸
駆動機構６および各ΔＺ１．ｊＺ２．ＪＺ５用微動機構
２５ 、２７ 、２９１７）操作量を演算して、これら
機構を２軸制御ドライバ２２および各ΔＺｌ、ΔＺ２＋
Δ２う用制御ドライバ２５ 、２７ 、２９を介して操
作することにより自動焦点合せをオンライン的に行なう
。
このようにすれば、簡単なオフライン予備焦点合せを実
行することによって、実際の走査時の焦点ずれ量を低減
させ焦点合せ補正量を少なくしてオンライン自動焦点合
せの応答速度を向上させることができる。
行することによって、実際の走査時の焦点ずれ量を低減
させ焦点合せ補正量を少なくしてオンライン自動焦点合
せの応答速度を向上させることができる。
つぎに本発明の推奨される一実施例によれば、次のよう
に２軸の各Δｚ１．ΔＺ２＋Δｚ５用微動機構５゜２７
、２９を配置して焦点合せを行う。すなわち、各Δｚ
１．Δｚ２．Δｚ５用微動機構２５ 、２７ 、２９の
駆動軸はステージ１２のＸＹ平面に対し上方から見て第
３図に例示するような位置に配置される。すなわちステ
ージ１２のＸＹ平面のほぼ中央にマスク３が載せられて
いるとすると、ＸＹ平面のほぼ中心０がら相互に１２０
度の角をなす半径上の出来るだけＸＹ平面の外周に近い
所定の等距離位置に、かつ２つの対物レンズ１．２がた
とえばＸ軸方向の直線上に配列されているとすると、中
心０に対しΔｚ２用微動機構ｎの駆動軸は上記Ｘ軸方向
の直線との平行線上にあシ、シたがって各Δｚ１．Δｚ
５用微動機構の駆動軸を結ぶ直線は上記Ｘ軸方向の直線
と直角をなしＹ軸方向を向くように、Ｚ軸の各Δｚ１．
ΔＺ２゜Δｚ５用微動機ｓ２５，２７．２９の駆動軸が
配置される。
に２軸の各Δｚ１．ΔＺ２＋Δｚ５用微動機構５゜２７
、２９を配置して焦点合せを行う。すなわち、各Δｚ
１．Δｚ２．Δｚ５用微動機構２５ 、２７ 、２９の
駆動軸はステージ１２のＸＹ平面に対し上方から見て第
３図に例示するような位置に配置される。すなわちステ
ージ１２のＸＹ平面のほぼ中央にマスク３が載せられて
いるとすると、ＸＹ平面のほぼ中心０がら相互に１２０
度の角をなす半径上の出来るだけＸＹ平面の外周に近い
所定の等距離位置に、かつ２つの対物レンズ１．２がた
とえばＸ軸方向の直線上に配列されているとすると、中
心０に対しΔｚ２用微動機構ｎの駆動軸は上記Ｘ軸方向
の直線との平行線上にあシ、シたがって各Δｚ１．Δｚ
５用微動機構の駆動軸を結ぶ直線は上記Ｘ軸方向の直線
と直角をなしＹ軸方向を向くように、Ｚ軸の各Δｚ１．
ΔＺ２゜Δｚ５用微動機ｓ２５，２７．２９の駆動軸が
配置される。
このような配置のもとで、まず走査に先きだちオフライ
ン的にマスク３の概略の焦点合せと平面出しを行なうと
きには、第３図において、たとえば片方の対物レンズ１
に付属した焦点検出器１３を中心０とΔｚ１用微動機構
乙の駆動軸を結ぶ半径上の出来るだけマスク３の外周に
近い点Ａに移動して測定を行ない、このときの合焦点か
らのずれ量をｄａ、同様に中心Ｏと各Δｚ２．Δｚ５用
微動機構２７ 、２９の駆動軸を結ぶ半径上の図のＯＡ
と等距離にある各点Ｂ、Ｃに移動して測定を行ない、こ
のときの合焦点からのずれ量をｄｂ、ｄｃとすれば、こ
れらの各合焦点からのずれ量ｄ ａ＊ ｄ ｂ＋ ｄ
（ＢがＯになるように各Δｚｌ、ΔＺ２．Δｚ５用微動
機構２５ 、２７ 、２９の操作量を計算機１１（第２
図）によシ演算し、各ΔＺｌｅΔＺ２＋Δｚ５用制御ド
ライバ２４．２６．２８を介して各ΔＺｌ。
ン的にマスク３の概略の焦点合せと平面出しを行なうと
きには、第３図において、たとえば片方の対物レンズ１
に付属した焦点検出器１３を中心０とΔｚ１用微動機構
乙の駆動軸を結ぶ半径上の出来るだけマスク３の外周に
近い点Ａに移動して測定を行ない、このときの合焦点か
らのずれ量をｄａ、同様に中心Ｏと各Δｚ２．Δｚ５用
微動機構２７ 、２９の駆動軸を結ぶ半径上の図のＯＡ
と等距離にある各点Ｂ、Ｃに移動して測定を行ない、こ
のときの合焦点からのずれ量をｄｂ、ｄｃとすれば、こ
れらの各合焦点からのずれ量ｄ ａ＊ ｄ ｂ＋ ｄ
（ＢがＯになるように各Δｚｌ、ΔＺ２．Δｚ５用微動
機構２５ 、２７ 、２９の操作量を計算機１１（第２
図）によシ演算し、各ΔＺｌｅΔＺ２＋Δｚ５用制御ド
ライバ２４．２６．２８を介して各ΔＺｌ。
Δｚ２．ΔＺ５用微動機構２５ 、２７ 、２９を操作
することによってマスク３の高さと傾きを焦点平面とほ
ぼ等しくすることができる。なお以上の予備焦点合せで
は対物レンズ１．２がＸ軸方向の直線上に配列される必
要はない。ついで実際に走査（図中にマスク３の走査方
向を実線矢印で示す）を開始してからのオンライン自動
焦点合せを行なうときには、一般にステージ１２のｘｙ
平面に対し任意位置に配置された２軸の各Δｚｌ、ΔＺ
２ｅΔｚ５用微動機構２５，２７゜四の操作によシマス
フ３を自由に平面出しすることが可能であるが、本実施
例によれば各Δｚ１．Δｚ２゜Δｚ５用微動機構δ、
２７ 、２９の駆動軸を上記のように第３図に示す位置
に配置することによυ、対物レンズ１．２を結ぶ直線と
直交する直線上に駆動軸が位置する２個のΔｚ１１Δｚ
５用微動機構２５ 、２９の焦点合せに必要な操作量を
同一値として扱うことが可能となる結果、自動焦点合せ
が極めて容易となる。すなわち第３図に示したｘｙ平面
配置をＸ２平面の断面として見た様子を第４図に示し、
図示のように対物レンズｌの走査中の現在位置のＸ座標
をΔｚ２用微動機構がのＸ座標を規準にしてＸとし、対
物レンズ１．２の間隔をｔ、Δｚ２用微動機構がの駆動
軸と各ΔＺ１．Δ２う用微動機構２５ 、２９の駆動軸
とのＸ軸方向の間隔をＬとする。このときの対物レンズ
１．２の焦点平面（図中に鎖線で示す）に対するマスク
３の２軸方向（図の上下方向）の現在位置のずれｍ：が
それぞれΔｚ２用微動機構２７の駆動軸の点でｙｌ、各
Δｚ１．Δ２．用微動機構２５ 、２９の駆動軸の点で
ｙ２、対物レンズ１の点でｄｌ、対物レンズ２の点でｄ
２とすると、 １−ｄ２ 、’−ｙｘ ＝ ｄｘ ＋ｘ （−） となる。したがって焦点検出器１３ 、１４ （第２図
）によシそれぞれｔｉｌ、ｃｔ２を検出し、計算機１１
により上式を用いてｙ１＋ｙｚを演算し、これらの値を
操作数としてそれぞれΔｚ２用微動機構２７と、各Δｚ
１゜Δｚ５用微動機構５，２９とを操作することによυ
、マスク３の現在位置での自動焦点合せが一度で完了す
る。
することによってマスク３の高さと傾きを焦点平面とほ
ぼ等しくすることができる。なお以上の予備焦点合せで
は対物レンズ１．２がＸ軸方向の直線上に配列される必
要はない。ついで実際に走査（図中にマスク３の走査方
向を実線矢印で示す）を開始してからのオンライン自動
焦点合せを行なうときには、一般にステージ１２のｘｙ
平面に対し任意位置に配置された２軸の各Δｚｌ、ΔＺ
２ｅΔｚ５用微動機構２５，２７゜四の操作によシマス
フ３を自由に平面出しすることが可能であるが、本実施
例によれば各Δｚ１．Δｚ２゜Δｚ５用微動機構δ、
２７ 、２９の駆動軸を上記のように第３図に示す位置
に配置することによυ、対物レンズ１．２を結ぶ直線と
直交する直線上に駆動軸が位置する２個のΔｚ１１Δｚ
５用微動機構２５ 、２９の焦点合せに必要な操作量を
同一値として扱うことが可能となる結果、自動焦点合せ
が極めて容易となる。すなわち第３図に示したｘｙ平面
配置をＸ２平面の断面として見た様子を第４図に示し、
図示のように対物レンズｌの走査中の現在位置のＸ座標
をΔｚ２用微動機構がのＸ座標を規準にしてＸとし、対
物レンズ１．２の間隔をｔ、Δｚ２用微動機構がの駆動
軸と各ΔＺ１．Δ２う用微動機構２５ 、２９の駆動軸
とのＸ軸方向の間隔をＬとする。このときの対物レンズ
１．２の焦点平面（図中に鎖線で示す）に対するマスク
３の２軸方向（図の上下方向）の現在位置のずれｍ：が
それぞれΔｚ２用微動機構２７の駆動軸の点でｙｌ、各
Δｚ１．Δ２．用微動機構２５ 、２９の駆動軸の点で
ｙ２、対物レンズ１の点でｄｌ、対物レンズ２の点でｄ
２とすると、 １−ｄ２ 、’−ｙｘ ＝ ｄｘ ＋ｘ （−） となる。したがって焦点検出器１３ 、１４ （第２図
）によシそれぞれｔｉｌ、ｃｔ２を検出し、計算機１１
により上式を用いてｙ１＋ｙｚを演算し、これらの値を
操作数としてそれぞれΔｚ２用微動機構２７と、各Δｚ
１゜Δｚ５用微動機構５，２９とを操作することによυ
、マスク３の現在位置での自動焦点合せが一度で完了す
る。
以上のようにすれば、予備焦点合せおよび走査時の自動
焦点合せ共にいっそう簡単かつ高速に行なうことができ
る。
焦点合せ共にいっそう簡単かつ高速に行なうことができ
る。
以上述べたように本発明によれば、簡単な予備の概略焦
点合せを実行することにより、実際の走査時の自動焦点
合せの応答速度を向上させることができ、走査を必要と
するマスク検査装置やウェハー検査装置等の顕微鏡画像
処理装置の自動焦点合せ装置として広く利用できる。
点合せを実行することにより、実際の走査時の自動焦点
合せの応答速度を向上させることができ、走査を必要と
するマスク検査装置やウェハー検査装置等の顕微鏡画像
処理装置の自動焦点合せ装置として広く利用できる。
第１図はマスク検査装置のマスク検査ステージの概略正
面図、第２図は本発明による自動焦点合せ装置を適用し
たマスク検査装置の一実施例を示す一部斜視図を含む概
略構成図、第３図は本発明の推奨される一実施例による
各Δｚ１．ΔＺ２．Δｚ５用微動機構のＸＹ平面配置を
示す概略上面図、第４図は第３図のＸＹ平面配置をＸＺ
平面の断面として見た様子を示す説明図である。 １・・・対物レンズ、２・・・対物レンズ、３・・・マ
スク、１１・・・計算機、１２・・・ステージ、１３・
・・焦点検出器、１４・・・焦点検出器、１６・・・Ｘ
軸制御ドライバ、１７・・・Ｘ軸駆動機構、１８・・・
Ｙ軸制御ドライバ、１９・・・Ｙ Ｆｉ４１１駆動機構
、ｎ・・・２軸制御ドライバ、ｎ・・・ｚ［ｌｌｌ駆動
機構、冴・・・Δｚ１用制御ドライバ１．５・・・Δｚ
１用微動機構、部・・・Δｚ２用制御ドライバ、Ｉ・・
・Δｚ２用微動機構、四・・・Δｚ５用制御ドライバ、
２９・・・ΔＺ５用微動機構。 代理人 弁理士 秋 本 正 実 多１５１図 り；；２図 節３図 第４図
面図、第２図は本発明による自動焦点合せ装置を適用し
たマスク検査装置の一実施例を示す一部斜視図を含む概
略構成図、第３図は本発明の推奨される一実施例による
各Δｚ１．ΔＺ２．Δｚ５用微動機構のＸＹ平面配置を
示す概略上面図、第４図は第３図のＸＹ平面配置をＸＺ
平面の断面として見た様子を示す説明図である。 １・・・対物レンズ、２・・・対物レンズ、３・・・マ
スク、１１・・・計算機、１２・・・ステージ、１３・
・・焦点検出器、１４・・・焦点検出器、１６・・・Ｘ
軸制御ドライバ、１７・・・Ｘ軸駆動機構、１８・・・
Ｙ軸制御ドライバ、１９・・・Ｙ Ｆｉ４１１駆動機構
、ｎ・・・２軸制御ドライバ、ｎ・・・ｚ［ｌｌｌ駆動
機構、冴・・・Δｚ１用制御ドライバ１．５・・・Δｚ
１用微動機構、部・・・Δｚ２用制御ドライバ、Ｉ・・
・Δｚ２用微動機構、四・・・Δｚ５用制御ドライバ、
２９・・・ΔＺ５用微動機構。 代理人 弁理士 秋 本 正 実 多１５１図 り；；２図 節３図 第４図
Claims (1)
- １．２次元平面パタンを走査しこのバタンを自動焦点合
せされる１個以上の対物レンズを介して検出するバタン
検出装置の自動焦点合せ装置において、上記２次元平面
バタンか走査平面に対してあらかじめ上記対物レンズの
平均的な焦点位置になるようにこの２次元平面パタンの
複数箇所における焦点ずれ量を測定すると共にこの測定
値により上記２次元平面を上記対物レンズの平均的な焦
点平面位置に位置決めする手段によシ、実際の走査時の
焦点ずれを低減させ自動焦点合せ補正量を少なくして応
答速度を向上させるようにしたことを特徴とする自動焦
点合せ装置。 ２、特許請求の範囲第１項において、２個の上記対物レ
ンズを備えると共に実際の走査時のこの対物レンズの走
査位置における焦点ずれ量を測定してこの測定値より上
記２次元平面を上記２個の対物レンズを結ぶ直線に平行
な焦点平面位置に自動位置決めするようにしたことを特
徴とする自動焦点合せ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18366982A JPS5974515A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 自動焦点合せ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18366982A JPS5974515A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 自動焦点合せ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5974515A true JPS5974515A (ja) | 1984-04-27 |
Family
ID=16139850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18366982A Pending JPS5974515A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 自動焦点合せ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5974515A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010034955A1 (fr) * | 2008-09-29 | 2010-04-01 | Vit | Mise au point d'un microscope a reflexion |
-
1982
- 1982-10-21 JP JP18366982A patent/JPS5974515A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010034955A1 (fr) * | 2008-09-29 | 2010-04-01 | Vit | Mise au point d'un microscope a reflexion |
| FR2936614A1 (fr) * | 2008-09-29 | 2010-04-02 | Vit | Mise au point d'un microscope a reflexion |
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