JPS5974274A - 切削植刃 - Google Patents
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- JPS5974274A JPS5974274A JP58169485A JP16948583A JPS5974274A JP S5974274 A JPS5974274 A JP S5974274A JP 58169485 A JP58169485 A JP 58169485A JP 16948583 A JP16948583 A JP 16948583A JP S5974274 A JPS5974274 A JP S5974274A
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- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
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- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
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- C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
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- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
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- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
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- C23C16/34—Nitrides
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、セラミック酸化物を必須的に有して成る切削
植刃、特にシアロンを含む植刃で薄い極端に微細な粒状
の表面被覆を有する切削植刃に関する。シアロン(5i
alon )は次式で表される硬物質である。5i6−
zんf、1・Oi 穐−z但し、z −’、0−?4≠
嚇≠マこれは良好な強靭性と温度変化に対する特に断続
的使用において満足な耐抗性を発揮する工具材料として
良好な品質を有するものである。
植刃、特にシアロンを含む植刃で薄い極端に微細な粒状
の表面被覆を有する切削植刃に関する。シアロン(5i
alon )は次式で表される硬物質である。5i6−
zんf、1・Oi 穐−z但し、z −’、0−?4≠
嚇≠マこれは良好な強靭性と温度変化に対する特に断続
的使用において満足な耐抗性を発揮する工具材料として
良好な品質を有するものである。
しかしながら、シアロンの使用は、セラミックスや被覆
された超硬質合金と比較して耐摩耗性が低いために、制
約されている。被覆超硬質合金グレードと較べ、シアロ
ンは強靭性も限定されている。
された超硬質合金と比較して耐摩耗性が低いために、制
約されている。被覆超硬質合金グレードと較べ、シアロ
ンは強靭性も限定されている。
これは、なかでも、切刃にとって好ましくない耐摩耗性
として、特にスチール工作において、現われる。
として、特にスチール工作において、現われる。
米国特許第3.977.061号には、この問題がセラ
ミ、り材料の表面層、例えば、At203 にセラミッ
ク材料の物ff(1種又は接種の硬炭化物、窒化物等、
例えばオキシ炭化物、オキシ窒化物、炭窒化物と混合し
た酸化物、或いは結合剤金属と混和した酸化物)をOV
D法(化学蒸着法)で以って被覆することで解決される
。
ミ、り材料の表面層、例えば、At203 にセラミッ
ク材料の物ff(1種又は接種の硬炭化物、窒化物等、
例えばオキシ炭化物、オキシ窒化物、炭窒化物と混合し
た酸化物、或いは結合剤金属と混和した酸化物)をOV
D法(化学蒸着法)で以って被覆することで解決される
。
しかしながら、このようにシアロンにセラミ。
り被覆を施こすと、しばしば困難、特に沈積したセラミ
、り層の層厚が強加すればそれだけ増加する傾向のある
接着上の難点があることがこれまでに見い出されている
。
、り層の層厚が強加すればそれだけ増加する傾向のある
接着上の難点があることがこれまでに見い出されている
。
当該特許には、化合物の中でもTiNとTiOの中間層
を利用することの利点が開示されている。
を利用することの利点が開示されている。
シアロンの場合、TiNは良い選択である。それはTi
Nはシアロンの、窒素を含有する基体に対し、良好な結
合が期待されるからである。
Nはシアロンの、窒素を含有する基体に対し、良好な結
合が期待されるからである。
本発明の目的は、上記現状において、現状の問題点を解
決する改良された切削植刃を提供することにある。
決する改良された切削植刃を提供することにある。
現今、まったくもって驚くべきことは、本発明者が周期
律表のIII −Vi中のt族元素の硬質ホウ化物の層
が、少くともTiHの場合に得られるのと同じく良好な
特性改良を、特に鋳鉄の切削において、もたらし得るこ
とを発見したことである。シアロンとは違ったタイプの
セラミ、クスの特性もホウ化物層によって改良される。
律表のIII −Vi中のt族元素の硬質ホウ化物の層
が、少くともTiHの場合に得られるのと同じく良好な
特性改良を、特に鋳鉄の切削において、もたらし得るこ
とを発見したことである。シアロンとは違ったタイプの
セラミ、クスの特性もホウ化物層によって改良される。
これらの特性は、炭化イツトリウム及び/或いは窒化物
の中間層、或いは硬質ケイ化物層の中間層によっても改
良される。
の中間層、或いは硬質ケイ化物層の中間層によっても改
良される。
本発明による中間層は、極端に薄く、例えば、約10A
にすることができるし、例えば約1昨mまでの肉厚にも
することができる。セラミ、り外層、これは適用や色付
けに関係した利点をもたらすために設ける追加の外層の
ための電槽1も成り得るものであり、0.5−100μ
m1好ましくは1−8μmの肉J9”を有している。
にすることができるし、例えば約1昨mまでの肉厚にも
することができる。セラミ、り外層、これは適用や色付
けに関係した利点をもたらすために設ける追加の外層の
ための電槽1も成り得るものであり、0.5−100μ
m1好ましくは1−8μmの肉J9”を有している。
従って、ホウ化物、ケイ化物或いはYO及び/或いはY
Nの第一層に、多重層、即ち、炭化物、酸化物、窒化物
及びホウ化物の種々の層順で以って、しかも適用によっ
て変える種々の肉厚で以って施こすことが可能である。
Nの第一層に、多重層、即ち、炭化物、酸化物、窒化物
及びホウ化物の種々の層順で以って、しかも適用によっ
て変える種々の肉厚で以って施こすことが可能である。
普通の金属ハロゲン化物、BO14又は他のハロゲン化
ホウ素の他にホウ化物とケイ化物をOVD法により沈積
するために、揮発性のポラン等→及び51at4を夫々
そのための気化性物質として使用できる。YNJpYO
の層の形成にはY工3を、又より高い温度では気化し得
る他のハロゲン化イツトリウムを使用できる。
ホウ素の他にホウ化物とケイ化物をOVD法により沈積
するために、揮発性のポラン等→及び51at4を夫々
そのための気化性物質として使用できる。YNJpYO
の層の形成にはY工3を、又より高い温度では気化し得
る他のハロゲン化イツトリウムを使用できる。
OVD法での700−130DCの適当な温度範囲にお
いて、900−12001:1好ましいものとして選定
し、それにより熱処理に対する基体と層の耐抗性を考慮
しなければならない。
いて、900−12001:1好ましいものとして選定
し、それにより熱処理に対する基体と層の耐抗性を考慮
しなければならない。
本発明による被覆植刃は、このようにして、公知の方法
そのもので製造し得る。基体は加圧焼結法により通常製
造されるし、表面I曽は気相からの沈積によって施こさ
れる。
そのもので製造し得る。基体は加圧焼結法により通常製
造されるし、表面I曽は気相からの沈積によって施こさ
れる。
セラミック層は、ht2 o 3の他に、Zr、 Si
、 Oa。
、 Oa。
My 、 Ti、 Y及び/或いはHfの酸化物から成
り得る。
り得る。
本発明によるセラミック切削植刃の製作に用いる方法は
、以下の実施例と、添付図面を参照して説明される。
、以下の実施例と、添付図面を参照して説明される。
第1図の装置は、気体源、例えは水素と三塩化ホウ素を
夫々供給するガスボンベ1,2を有シテいる。導管6を
通じて水素が容器6に導かれる。
夫々供給するガスボンベ1,2を有シテいる。導管6を
通じて水素が容器6に導かれる。
こ\ではハロゲン化金属(例えばTiO44又はY15
)を加熱して蒸発し、結、果の構成ガスとBO15を次
に夫々導管9と4によって反応器11に導く。混合ガス
はTi0t4を気体に保つためにサーモスフ。
)を加熱して蒸発し、結、果の構成ガスとBO15を次
に夫々導管9と4によって反応器11に導く。混合ガス
はTi0t4を気体に保つためにサーモスフ。
ト8により制御される熱交換器を通過する。反応器11
には被覆のために基体が定置されている。
には被覆のために基体が定置されている。
この反応器11から、ガスが吸引されて、弁装備の導管
12と冷却トラ、プ13を通過する。
12と冷却トラ、プ13を通過する。
この反応系からのガスの排出は、出口16を有する真空
ポンプ15により導管14を通じて行われる。(図面上
では、ガスの清浄装置が省略されている。) 第2図に示す装置は、Atの、例えば粒状アルミニウム
の塩素化のための塩素化反応器25の使用を示している
。このために、ガス源1からの水素を、供給源17から
の塩素(或いは塩化水素)と導管19.20によって混
合し、この混合ガスを導管21を通じて塩素化反応器2
5に導く。反応器25からの混合気を次に水素、−酸化
炭素、(これは選択的に供給)及び炭酸ガスとボンベ1
゜18.28から夫々供給して混合する。結果の混合気
は次に弁装備の導管27によって被覆反応器11に導か
れる。
ポンプ15により導管14を通じて行われる。(図面上
では、ガスの清浄装置が省略されている。) 第2図に示す装置は、Atの、例えば粒状アルミニウム
の塩素化のための塩素化反応器25の使用を示している
。このために、ガス源1からの水素を、供給源17から
の塩素(或いは塩化水素)と導管19.20によって混
合し、この混合ガスを導管21を通じて塩素化反応器2
5に導く。反応器25からの混合気を次に水素、−酸化
炭素、(これは選択的に供給)及び炭酸ガスとボンベ1
゜18.28から夫々供給して混合する。結果の混合気
は次に弁装備の導管27によって被覆反応器11に導か
れる。
YT3(又はYO13) の場合には、反応器に通じ
る導管を加熱してY工、(yaz3)の沈積を阻止する
ようにしなければならない。このような導管にあっては
、弁を省略するのが必要になり得し、高温度での使用に
耐える導管材質やその他の条件を選択するのが必要にな
り得る。Bat5とホウ素はガスボンベから通常の仕方
で加えることができる。
る導管を加熱してY工、(yaz3)の沈積を阻止する
ようにしなければならない。このような導管にあっては
、弁を省略するのが必要になり得し、高温度での使用に
耐える導管材質やその他の条件を選択するのが必要にな
り得る。Bat5とホウ素はガスボンベから通常の仕方
で加えることができる。
以下の実施例1〜4では、本発明のセラミ、り植刃を製
造するための諸条件が与えられる。
造するための諸条件が与えられる。
例15%のht2o5と6%のY2O5(重量%)を有
するシアロンの従来の切削植刃をTiHの2μm厚の中
間層で被覆した。沈積用ガス(5%のT10t4,30
%のN2及び65%のN2(体積%)の混合気から成る
)を公知の方法で調製した。反応器の圧力は15トルに
維持し、1m/秒のガス線速度を供給時に保った。この
処理を1050Cの温度で3時間続行し、結果として約
2μm厚になる微細粒状の稠密なTiN層を植刃上に得
た。
するシアロンの従来の切削植刃をTiHの2μm厚の中
間層で被覆した。沈積用ガス(5%のT10t4,30
%のN2及び65%のN2(体積%)の混合気から成る
)を公知の方法で調製した。反応器の圧力は15トルに
維持し、1m/秒のガス線速度を供給時に保った。この
処理を1050Cの温度で3時間続行し、結果として約
2μm厚になる微細粒状の稠密なTiN層を植刃上に得
た。
次に、第二段階の処理として、この植刃を82%N2,
5%のOo2.E3%のCO及び5%のAtot3の組
成になるガスで処理した。基体温度は1100Cで、圧
力は15トルであった。ガス線速度は6.5m/秒にし
た。3時間の被覆処理の後、2μm厚のAt203層が
TiN被敬柚刃上に得られた。
5%のOo2.E3%のCO及び5%のAtot3の組
成になるガスで処理した。基体温度は1100Cで、圧
力は15トルであった。ガス線速度は6.5m/秒にし
た。3時間の被覆処理の後、2μm厚のAt203層が
TiN被敬柚刃上に得られた。
他のシアロン植刃を4μm厚のAz2o3層のみで被覆
した。又あるシアン植刃は2μm厚のAt205層のみ
で被覆した。
した。又あるシアン植刃は2μm厚のAt205層のみ
で被覆した。
得られた植刃は先行技術の技術レベルを表わすものであ
る。
る。
例2 例1と同じタイプのシアロン植刃に次の工程条件
下で、2μm厚のTiB2層を初めに被覆した。
下で、2μm厚のTiB2層を初めに被覆した。
ガス組成 : ガス線速度+0.5m/秒BO434
% 圧力1 6.7 KPα (与Oト
ル)TiOt48% 温度11030t:’H2残
り 時間:6時間 得られた植刃に次に例1の方法で2μm厚のht2 o
B 層を被覆した。
% 圧力1 6.7 KPα (与Oト
ル)TiOt48% 温度11030t:’H2残
り 時間:6時間 得られた植刃に次に例1の方法で2μm厚のht2 o
B 層を被覆した。
例3 例1と同一タイプのシア四ン基体を例2の通りに
被覆処理したが、この場合は、TiB2層の代りYNの
層が1%−のY工、、40%のN2及び残余%のN2
から成る混合気を用いて生成された。
被覆処理したが、この場合は、TiB2層の代りYNの
層が1%−のY工、、40%のN2及び残余%のN2
から成る混合気を用いて生成された。
温度を1080t:’にして2μm厚のYN層+2μm
厚のAL20sMIを得た。
厚のAL20sMIを得た。
追加のシアロン基体の被覆を基本的には前記米国特許第
3.977.061号中の例乙の通りに実行した。しか
し被覆工程は、上記のものに従って1μm厚のYNの沈
積から始めた(それ故に、この沈積時間は50%だけ短
縮された。)。その後に、上記米国、特許の例乙に従っ
て1μm厚のT10層を沈積生成した。即ち、以下の工
程条件下で実施された。
3.977.061号中の例乙の通りに実行した。しか
し被覆工程は、上記のものに従って1μm厚のYNの沈
積から始めた(それ故に、この沈積時間は50%だけ短
縮された。)。その後に、上記米国、特許の例乙に従っ
て1μm厚のT10層を沈積生成した。即ち、以下の工
程条件下で実施された。
ガス組成: Ti0t410%、0H38%、H282
%圧カニ15トル 温度=1oooC ガス線速度富1m/秒 時間115分 例4 Az2o5にMgOを添加して成るセラミック
植刃に、以下のα)t b)、 C)の層を順次積
層して被覆した。
%圧カニ15トル 温度=1oooC ガス線速度富1m/秒 時間115分 例4 Az2o5にMgOを添加して成るセラミック
植刃に、以下のα)t b)、 C)の層を順次積
層して被覆した。
α)米国特許第3.977.061号中の例2の下記条
件に従って得られた2μm厚のAt203層、ガス組成
:0025%、oo4%、 Atat3s%。
件に従って得られた2μm厚のAt203層、ガス組成
:0025%、oo4%、 Atat3s%。
H286%
温度:1100tr
圧カニ15ドル
ガス線速度=6.5m/秒
時間:3時間
h)上記の例1に従って得られたTiN +Az2o5
の層(2+2μm) C)上記の例2に従って、ZrB2 +Al2O5の層
(2+2μm)を得た。但しZrB2の層を得るため例
2のT i 014 に代え10%のZr044を用
いた。
の層(2+2μm) C)上記の例2に従って、ZrB2 +Al2O5の層
(2+2μm)を得た。但しZrB2の層を得るため例
2のT i 014 に代え10%のZr044を用
いた。
例5
鋳鉄〔S工S(スウェーデン規格)0125)の連続切
削を、次の条件を用いて実行した。
削を、次の条件を用いて実行した。
工作物:S工S 0125
切削速度:3DOm/分
送り速度?0.30那/回
切削深さ:2.OIIm
植刃形式: 5NGN12041(S
−次うンドjO,20朋×20゜
植刃の寿命に関する結果は、試験に使用した異なる植刃
品目につき、以下の通りになった。
品目につき、以下の通りになった。
1、均質シアロン:6.3分
2、At203(2μFM)−シアロン上に(例1)−
:Zo分3、 At205(4μm)−シアロン上に
(例1 ) −! 10.0分4、 TIN十At2
o5(2+2μm)−シアロン上に(例11)−110
,5分 5、 TiN+At203(2+2μm)−シアロン
上に(本発明の例2)−:12.0分 6、 YN+At203(2+2μm)−シアロン上
に(本発明の例3)−:12.2分 7、 YN+T10+At203(1+1+2μm)
−シアロン士別の切削試験を、異なる植刃の品目を用い
、下記の条件で鋳鉄の断続切削として実行した。
:Zo分3、 At205(4μm)−シアロン上に
(例1 ) −! 10.0分4、 TIN十At2
o5(2+2μm)−シアロン上に(例11)−110
,5分 5、 TiN+At203(2+2μm)−シアロン
上に(本発明の例2)−:12.0分 6、 YN+At203(2+2μm)−シアロン上
に(本発明の例3)−:12.2分 7、 YN+T10+At203(1+1+2μm)
−シアロン士別の切削試験を、異なる植刃の品目を用い
、下記の条件で鋳鉄の断続切削として実行した。
工作物:S工S 0125
切削速度2600FM/分
送り速度: Q、20TNR/回
切削深さ:1.0酩
植刃形式: 5NGN 120416−次ランド=
[1,20+uX20゜これら植刃の寿命は次の通りで
あった。
[1,20+uX20゜これら植刃の寿命は次の通りで
あった。
植刃品目 寿命(vB=0.40龍)1、
例5の品目1に対応する品目:6.7分2、例5の品目
2に対応する品目:5.5分3、例5の品目6に対応す
る品目= 7レーキンク4、例5の品目4に対応
する品目:6.7分5 例5の品目5に対応する品目(
本発明品)ニア、3分6 例5の品目乙に対応する品目
(本発明品)!7.8分例7 相−1刃の切削試トpを以下の条件で行った。
例5の品目1に対応する品目:6.7分2、例5の品目
2に対応する品目:5.5分3、例5の品目6に対応す
る品目= 7レーキンク4、例5の品目4に対応
する品目:6.7分5 例5の品目5に対応する品目(
本発明品)ニア、3分6 例5の品目乙に対応する品目
(本発明品)!7.8分例7 相−1刃の切削試トpを以下の条件で行った。
ブレークドラムの回転(7ランジのL+qソ)材質:硬
度HE180のスチール 工具富柚刃ホルダー「T −m&x J第1ム月形式=
[5NaN 120812J切削データ:切削速度:
300m/分 送り速度=0.5鶴/回 切削深さ:3WIl 結果: 植刃品目 寿命無被験セラミッ
クス(非シアロン): 61分セラミックス(非
シアロン)の例4αによる2μm厚のAt203層を被
覆したもの: 117分セラミ、クス(非シアロン
)の例4hによるTiN + AL20s (2+2μ
m)の層を被験したもの:140分 セラミックス(非シアロン)の例4cによるZrB2−
1−At205(2+2μm)の層を被覆したもの:1
49分
度HE180のスチール 工具富柚刃ホルダー「T −m&x J第1ム月形式=
[5NaN 120812J切削データ:切削速度:
300m/分 送り速度=0.5鶴/回 切削深さ:3WIl 結果: 植刃品目 寿命無被験セラミッ
クス(非シアロン): 61分セラミックス(非
シアロン)の例4αによる2μm厚のAt203層を被
覆したもの: 117分セラミ、クス(非シアロン
)の例4hによるTiN + AL20s (2+2μ
m)の層を被験したもの:140分 セラミックス(非シアロン)の例4cによるZrB2−
1−At205(2+2μm)の層を被覆したもの:1
49分
第1図は表面層をOVD法で沈積させる装置を示す説明
図、及び第2図は同じ目的のために採用し得る第11i
4のものとは別の装置を示す説明図である。 図において11はOVD用反応器、 1.2,18.28は原料ガスボンベ、25は塩素化反
応器。 特許出願人 サントレード リミティド 特許出顧代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士西舘和之 弁理士山口昭之 弁理士西山雅也
図、及び第2図は同じ目的のために採用し得る第11i
4のものとは別の装置を示す説明図である。 図において11はOVD用反応器、 1.2,18.28は原料ガスボンベ、25は塩素化反
応器。 特許出願人 サントレード リミティド 特許出顧代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士西舘和之 弁理士山口昭之 弁理士西山雅也
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 少くとも1種のセラミ、り酸化物或いは1種又は
接種の硬質炭化物及び/或いは1種又は接種の窒化物及
び/或いは結合剤金属と混合された少くとも1種のセラ
ミ、り酸化物のセラミック基体又は芯;該基体を覆う少
くとも1つの薄い中間層;及びセラミック酸化物の少く
とも1つの薄い表面層を含んで成り、該被覆層が気相か
ら沈積されて該基体の粒子サイズより小さい平均粒子サ
イズを有している切削植刃において、該中間層が周期律
表のm−v旅中のt板元素の1種又は接種の硬質ホウ化
物或いは硬質イツトリウム化合物を含んで成ることを特
徴とする切削植刃。 2、該中間層が約10A〜10μm厚であることを特徴
とする特許請求の範囲第1項に記載の切削植刃。 6、該表面層の層厚が0.5〜10μmであることを特
徴とする特許請求の範囲第1項と第2項のいづれか一項
に記載の切削植刃。 4、該表面層の層厚が1−8μmであることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項〜第5項のいづれか一項に記載
の切削植刃。 5、該表面層がAt、 Zr、 Si、 Oα、 My
、 Ti、 Hf及び/或いはYの酸化物を含んで成る
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項〜第4項のいづ
れか一項に記載の切削植刃。 & 該イツ) IJウム化合物が炭化物及び/或いは窒
化物を含んで成ることを特徴とする特許請求の範囲第1
項〜第5項のいづれか一項に記載の切削植刃。 l 該基体がシアロンから成ることを特徴とする特許請
求の範囲第1項〜第6項のいづれか一項に記載の切削植
刃。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE82052747 | 1982-09-15 | ||
SE8205274A SE8205274L (sv) | 1982-09-15 | 1982-09-15 | Sker samt metod for tillverkning av detsamma |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5974274A true JPS5974274A (ja) | 1984-04-26 |
Family
ID=20347861
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58169485A Pending JPS5974274A (ja) | 1982-09-15 | 1983-09-16 | 切削植刃 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
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EP (1) | EP0106817B1 (ja) |
JP (1) | JPS5974274A (ja) |
DE (1) | DE3370831D1 (ja) |
SE (1) | SE8205274L (ja) |
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---|---|---|---|---|
SE451581B (sv) * | 1984-04-06 | 1987-10-19 | Sandvik Ab | Keramiskt material huvudsakligen baserat pa kiselnitrid, aluminiumnitrid och aluminiumoxid |
US6447896B1 (en) * | 1986-05-05 | 2002-09-10 | Greenleaf Technology Corporation | Coated reinforced ceramic cutting tools |
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US4745010A (en) * | 1987-01-20 | 1988-05-17 | Gte Laboratories Incorporated | Process for depositing a composite ceramic coating on a cemented carbide substrate |
US4751109A (en) * | 1987-01-20 | 1988-06-14 | Gte Laboratories Incorporated | A process for depositing a composite ceramic coating on a hard ceramic substrate |
US4890574A (en) * | 1987-01-20 | 1990-01-02 | Gte Laboratories Incorporated | Internal reactor for chemical vapor deposition |
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WO1988009315A1 (en) * | 1987-05-19 | 1988-12-01 | Kennametal Inc. | Sialon cutting tool composition |
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1982
- 1982-09-15 SE SE8205274A patent/SE8205274L/xx not_active Application Discontinuation
-
1983
- 1983-08-12 EP EP83850211A patent/EP0106817B1/en not_active Expired
- 1983-08-12 DE DE8383850211T patent/DE3370831D1/de not_active Expired
- 1983-09-16 JP JP58169485A patent/JPS5974274A/ja active Pending
-
1985
- 1985-06-18 US US06/736,772 patent/US4629661A/en not_active Expired - Fee Related
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JPS57192259A (en) * | 1981-05-19 | 1982-11-26 | Toshiba Tungaloy Co Ltd | Coated tool parts |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0106817A1 (en) | 1984-04-25 |
DE3370831D1 (en) | 1987-05-14 |
US4629661A (en) | 1986-12-16 |
EP0106817B1 (en) | 1987-04-08 |
SE8205274D0 (sv) | 1982-09-15 |
SE8205274L (sv) | 1984-03-16 |
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