JPS5970775A - スパツタ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は基板に金属ないし非金属の薄膜を形成するスパ
ッタ装置に関するものである。

スパッタ装置は真空容器内に陰極と陽極を対設し、上記
両電極間に放電を生せしめることにより、陰極近くに設
けた薄膜形成物質（以下ターゲットという）を飛散せし
めて陽極近くに設けた基板に衝突付着せしめ、基板に薄
膜を形成するものである。

ところで、上記装置を用いて車両用窓ガラスなどの大ル
で、しかも曲面をなす基板に薄膜を形成するには、基板
と同等以上の大きさのターゲットを用意するか、あるい
は基板を移動せしめる必要があるが、真空容器が大形と
なり、これに伴なって排気能力の大きな真空ポンフ゛７
５；必要となる。才だ、基板が曲面をなす場合にはター
ゲットからの距順の差により基板にノ１６成される薄膜
の膜厚が均一にならない。

本発明は上記問題点に鑑みてなされたもので、ターゲッ
トや真空容器を大きくする必要がなく、かつ、曲面をな
す基板にも均一な薄膜を形成できるスパッタ装置を提供
することを目的とするものである。

すなわち、本発明のスパッタ装置はターゲットを一体的
にとりつけた陰極と、該陰極を支Ｎ−し、これを基板の
表面に沿って平行移動せしめる搬送手段と、該搬送手段
を駆動する駆動手段と、陰極への給電手段を設けること
により上記目的を達成したものである。

以下、図示の大施例により本発明を説明する。

’Ａ”ｙ　１図に本？Ｊｄ明のスパッタ装置の全体４１
゛４成を示す。金属製の真空容器１には真空弁３を介し
て上記容器ｌ内を排気する真空ポンプ２が接続しである
。真駅容器１内には支持台５に両端部を支持せしめて、
下方に凸面をなす基板４が置いである。

基板４の上方には二本のチェーン６（うち一方のみ図示
）が並設しである。チェーン６は真空容器１の長手方向
左右位置に設けた主支持軸７．８間に架設してあり、途
中数ケ所を補助支持軸９にて支持されて、その下半部は
基板４の凹状曲面をなす表面に沿って平行に保たれてい
る。チェーン６の下半部にはターゲット１０が固着して
あり、チェーン６の移動に伴なって移動する。ここで、
上記真空容器ｌはアースしである。

上記主支持軸７は一対の軸７ａ、７ｂよりなり、第２図
に示す如く基板４に沿ってその両側に設けた取付レー／
Ｌｚｌｌａ、ｌｌｂにそれぞれ設置しである。、他の主
支持軸８および補助支持軸９も同様の取付構造にて対設
されており、これら支持軸７．８．９によシ、二本のチ
ェーン６ａ、ｅｂが互いに平行に対向して支持せしめら
れている。そして、基板４の幅よりも長い棒状のターゲ
ラ）１０が上記左右一対のチェーン６ａ、６ｂ間に架設
しである。

対をなす主支持軸７ａ、７ｂの一方７ａは駆動主支持軸
、他方７ｂは給電主支持軸としである。上記駆動主支持
軸７ａの一端に形成しだ歯車部には上記チェーン６ａが
装着しである。駆動主支持軸７ａの他端は容器１外の図
示しないモータに連結されておシ、該モータによって駆
動主支持軸７ａが正逆転すると、これに伴なってチェー
ン６ａが第１図の左右方向に移動する。

これにより、チェーン６ａに一端を固定したターゲット
１０が移動する。

給電主支持軸マｂの一端に形成した歯車部には上記チェ
ーン６ｂが袋層しである。そして給電主支持軸７ｂの他
端には容器１外より尚圧電源が供給される。

給電檎造の詳細を第３図に示す。給電主支持軸７ｂは軸
部を槻っだ絶縁筒１２によって電気的に絶縁された状態
でベアリング１３ａによりレール１１１）に回動自在に
取り付けられ、一方、他端に設けたベアリング１３ｂを
介して固定側給電端子１４と導通している。給屯喘子１
４には図示しない品電圧電涼に接続された導電板１５の
一端がネジ止めされており、高電圧が導電板１５、ベア
リングｌ　３　ｂ、給電主支持軸７ｂを経てチェーン７
ｂに固定したターゲット１０に供紹される。高′屯圧と
なる上記給市、喘子１４、給電主支持軸７ｂ１チエーン
６ｂはシールド板１６で似うことによりアース電位の真
空容器１との間で放電が生じるのを防止している。

補助支持軸９は第４図に示す如く軸部材９３の一端にベ
アリング９２を設け、このベアリング９２によりリング
部材９１を回動目在に支持したＩＩＩＩＩ造どしである
。チェーン６ａ、６ｂは上記リング部月９１の外周部に
接して移動する。

一方、Ｉｌｙ付レーしｌ／　１１　ａには第５図に示す
如く長穴１１１が設けてあり、上記軸部材９３はその軸
中心に設けたネジ部に上記長穴１１１に挿通しだボルト
９４を螺合ぜしめることにより取付レー／Ｌ／ｌｌａに
固定しである。しだがって、上記ボルト９４を緩めるこ
とにより補助支持軸９は長穴Ｉｌｌに沿って第１図の上
下方向に移動ｆｉＪ能であり、これ≠よりチェーン６ａ
、６ｂの下半部の形状を基板４０曲面に沿って平行とな
るように調整でき、チェーン６ａ、６ｂのたるみも防止
できる。ここで、チェーン６ｂを支持する補助支持軸９
の軸部材９３は絶縁性のものを使用する。

薄膜形成物質たるターゲット１０は第６図に示す如く、
銅パイプよりなる陰極１６の外周に所定厚で周状に設け
である。上記陰極１６内には冷却水が流通せしめである
。ターゲラ）１０は真空容器１との間で放電を生じない
ように、その上半面がシールド板１７で覆っである。上
記陰極１６はチェーン６ｂに接続導通せしめてあり、チ
ェーン６ｂを経て高電圧が印加される。

一方、シールド板１７はチェーン６ａに接続導通せしめ
られてアースされている。

なお、主支持軸８は補助支持軸９と同様な構造としであ
る。ただし、ポルト９４を挿通せしめる穴は長大として
いない。

上記の如き構成を有するスパッタ装置の作動を以下に説
明する。

モータにより駆勤王支持軸７ａを回転せしめると、それ
に伴なってチェーン６ａおよびこれに一端を固定したタ
ーゲラ）１０が一定速度で移動する。チェーン６ｂは回
１＋７＋自在の給電主支持軸７ｂ、補助支持軸９および
主支持軸８に支持されて、これに他端を固定した上記タ
ーゲット１０の移動に伴なって移動する。これによシ、
ターゲラ）１０は進行方向にほぼ直角にその軸線を保っ
て移動する。

チェーン６ａ、６ｂの下半部の形状はあらかじめ補助支
持軸９により基板４の曲面に沿って平行となるように調
整しであるから、ターゲット１０はその軸線を基板４の
表面から常に等距離に保って平行移動する。

上記移動中、陰極１６にはチェーン６ｂを経て常時質の
高電圧が印加されて、陰４′Ｍ１６と真空容器１間に放
電を生じ、これによυターゲット１０が飛散して基板４
の表面に衝突付着し、ターゲラ）１０の移動に伴なって
順次基板４上に薄膜が形成される。薄膜の膜厚はターゲ
ット１０と基板への間隔が常に一定に保たれていること
によシ、基板４の全面にわたって均一となる。

なお上記ターゲット１０は円筒状とする必要はなく、角
筒状でも良い。

以上の如く、本発明のスパッタ装置は薄膜形成物質を一
体的にとりつけた陰極を陽極近くに設けた基板の表面に
沿って平行移動可能に設けるとともに、陰極への給電手
段を併せ設けることにより、薄膜形成物質や真空容器を
大きくすることなく、大形でかつ曲面をなす基板に均一
な薄膜を形成することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はスパッタ装置の全体構成を示す縦断面図、第２
図はその横断面図、第３図は給電構造の詳細図、第４図
は補助支持軸の全体断面図、第５図は第４図のＡ矢指図
、第６図はターゲットの断面図である。 ｌ・・・・・・真空容器（陽極） ４・・・・・・基　板 ６・・・・・・チェーン ワ、８．９・・・・・・支持軸 １０・・・・・・ターゲット １６・・・・・・陰　極 第１図 第４図 第２図 第３図 第５図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）真空容器内に対向して設けた陰極および陽極近く
   にそれぞれ薄膜形成物質および基板を配し、上記両電極
   間の放電に伴なって飛散する上記薄膜形成物質を上記基
   板に衝突付着せしめて基板に薄膜を形成するスパッタ装
   置において、薄膜形成物質を一体的にとりつけた陰極と
   、該陰極を支持し、これを基板の表面に沿って平行移動
   せしめる搬送手段と、該搬送手段を駆動する駆動手段と
   、陰極への給電手段を設けたことを特徴とするスパッタ
   装置。
2. （２）陽極をなす真空容器内の底面上に表面が曲面状の
   基板を固定し、上記基板の上方に上記搬送手段たるチェ
   ーンの下半部を基板表面に平行に懸架し、上記チェーン
   には薄膜形成物質をとりつけた陰極を固定した特許請求
   の範囲第上項記載のスパッタ装置。