CN112795896A - 真空镀膜装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种真空镀膜装置，包括腔体、承载单元及至少一个导电单元，其中，腔体具有相连接的第一侧壁、第二侧壁及与第二侧壁相对设置的第三侧壁，第一侧壁连接第二侧壁及第三侧壁，第一侧壁上开设有入口，用于承载单元可移动地通过入口输送至腔体内，且包括托盘及嵌设于托盘上的多个基板；导电单元设置于第二侧壁或第三侧壁上，且在靠近入口上方一侧具有伸入至腔体内部的接触组件，接触组件可抵接于托盘上，且在抵接时电性连接，继而偏压由导电单元导入，通过托盘传递至基板上，优化基板上的镀膜质量，该真空镀膜装置结构简单，且性能稳定，适合大规模推广应用。

Description

真空镀膜装置

技术领域

本发明涉及真空镀膜设备技术领域，特别是涉及一种真空镀膜装置。

背景技术

随着镀膜技术的不断发展，人们对于工件表面的镀膜质量要求不断提高，对真空镀膜设备进行偏压设计，偏压的主要作用是给离子一个附加的能量，使膜层沉积的更加致密，加快沉积速率等，优化工件表面镀膜质量。

现有技术主要是针对静态镀膜设备，即在溅射过程中，靶材与基板处于静止状态进行薄膜沉积，偏压电源正极连接接地腔体，偏压电源负极接基片底座，等离子电源正极连接接地腔体或单独的阳极，等离子电源负极接阴极靶材，实现气体击穿形成等离子体轰击靶材，靶材原子/分子脱离靶面沉积到基片表面，实现纳米级真空镀膜，而在连续动态镀膜过程中，基板相对靶材移动，偏压电源负极无法固定于基片底座上。

发明内容

基于此，有必要针对很少有用于连续动态真空镀膜设备的偏压设计的问题，提供一种真空镀膜装置。

一种真空镀膜装置，包括腔体、承载单元及至少一个导电单元，其中：

所述腔体具有第一侧壁、第二侧壁及与所述第二侧壁相对设置的第三侧壁，所述第一侧壁连接所述第二侧壁及所述第三侧壁，所述第一侧壁上开设有入口；

所述承载单元可移动地通过所述入口输送至所述腔体内，且包括托盘及嵌设于所述托盘上的多个基板；

所述导电单元设置于所述第二侧壁或所述第三侧壁上，且在靠近所述入口上方一侧具有伸入至腔体内部的接触组件，所述接触组件可抵接于所述托盘上，且在抵接时电性连接。

上述真空镀膜装置，腔体具有相连接的第一侧壁、第二侧壁及与第二侧壁相对设置的第三侧壁，第一侧壁连接第二侧壁及第三侧壁，在第一侧壁上开设有入口，用于承载单元可移动地通过入口输送至腔体内，承载单元包括有托盘与基板，基板嵌设于托盘上，用于实现基板的固定，导电单元设置于第二侧壁或第三侧壁上，实现导电单元与腔体的固定安装，在靠近入口上方一侧具有伸入至腔体内部的接触组件，接触组件可抵接于托盘上，且接触组件抵接于托盘上时，接触组件与托盘电性连接，继而偏压由导电单元导入，通过托盘传递至基板上，优化基板上的镀膜质量，该真空镀膜装置结构简单，且性能稳定，适合大规模推广应用。

在其中一个实施例中，所述接触组件为柔性导电体，且为导电弹簧、导电片、高弹性导电弹簧中的一种或多种。

在其中一个实施例中，所述第二侧壁与所述第三侧壁对称连接于所述第一侧壁，所述接触组件为两组，且分别位于所述第二侧壁与第三侧壁上。

在其中一个实施例中，所述导电单元还包括电源输出组件与馈入电极，所述电源输出组件位于所述腔体外部，所述馈入电极嵌设于所述第二侧壁或第三侧壁上，其一端与所述电源输出组件电连接，另一端与所述接触组件电连接。

在其中一个实施例中，还包括传动单元，所述传动单元与所述承载单元滚动接触，用于驱动所述承载单元在所述腔体内部移动。

在其中一个实施例中，所述传动单元包括主动轮及与所述主动轮平行设置的从动轮，所述主动轮与所述托盘滚动接触，所述从动轮与所述托盘滚动接触。

在其中一个实施例中，所述主动轮与所述从动轮上均设置有绝缘O型圈，所述绝缘O型圈与所述托盘滚动接触。

在其中一个实施例中，所述传动单元还包括第一传动轴、第二传动轴及套设于所述第一传动轴上的磁流体，所述磁流体嵌设于所述腔体上，所述第一传动轴与所述主动轮紧固连接为一体，所述第二传动轴与所述从动轮可转动连接为一体。

在其中一个实施例中，所述传动单元还包括第一绝缘件与第二绝缘件，所述第一绝缘件与所述主动轮紧固连接为一体，且罩设于所述第一传动轴并与所述第一传动轴预留有间隙，所述第二绝缘件与所述从动轮紧固连接为一体，且罩设于所述第二传动轴并与所述第二传动轴预留有间隙。

在其中一个实施例中，所述从动轮与所述第二传动轴之间设置有轴承，且所述轴承为陶瓷轴承。

附图说明

图1为本发明提供的真空镀膜装置结构示意图；

图2为本发明提供的真空镀膜装置中导电单元与承载单元电性连接示意图；

图3为本发明提供的真空镀膜装置中导电单元与承载单元电性分离示意图；

图4为本发明提供的真空镀膜装置中承载单元结构示意图；

图5为本发明提供的真空镀膜装置中主动轮、第一传动轴、第一绝缘件组成模块剖面示意图；

图6为本发明提供的真空镀膜装置中从动轮、第二传动轴、第二绝缘件组成模块剖面示意图。

附图标记：

100、真空镀膜装置；

110、腔体；111、第一侧壁；112、第二侧壁；113、第三侧壁；114、第四侧壁；115、入口；116、出口；117、阴极靶材；

120、承载单元；121、托盘；122、基板；123、凹槽；124、第一位置；125、第二位置；

130、导电单元；131、接触组件；132、电源输出组件；133、馈入电极；

140、传动单元；141、主动轮；142、从动轮；143、绝缘O型圈；144、第一传动轴；145、第二传动轴；146、磁流体；147、第一绝缘件；148、第二绝缘件；149、轴承。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

下面结合附图介绍本发明实施例提供的技术方案。

如图1、图2、图3及图4所示，本发明提供一种真空镀膜装置100，用于在镀膜过程中给工件施加偏压，该真空镀膜装置100包括腔体110、承载单元120及至少一个导电单元130，其中：

腔体110具有相连接的第一侧壁111、第二侧壁112及第三侧壁113，第二侧壁112与第三侧壁113相对设置，第一侧壁111连接第二侧壁112及第三侧壁113，第一侧壁111上开设有入口115。需要说明的是，腔体110还具有与第一侧壁111对应的第四侧壁114，第四侧壁114上开设有出口116，第一侧壁111、第二侧壁112及第三侧壁113可以是通过铸造、冲压、钣金件折弯等方式一体成型，第一侧壁111、第二侧壁112与第三侧壁113也可是通过焊接连接为一体，对于第一侧壁111、第二侧壁112与第三侧壁113的具体连接方式本发明不做限制。

承载单元120可移动地通过入口115输送至腔体110内，且承载单元120能够通过出口116输送至腔体110外或下一个腔体110内，承载单元120包括托盘121与多个基板122，在托盘121上开设有多个凹槽123，将基板122嵌设于凹槽123中实现基板122的安装固定。托盘121上的凹槽123可以是通过相互交叉的横梁与竖梁架设而成，也可是在托盘121成型过程中，通过模具一体成型，对于托盘121上凹槽123的具体成型方式本发明不做限制。

导电单元130设置于第二侧壁112或第三侧壁113上，并且导电单元130在靠近入口115上方一侧具有伸入至腔体110内部的接触组件131，接触组件131可抵接于托盘121上，且接触组件131在抵接于托盘121上时电性连接。其中，沿承载单元120输送方向上，托盘121具有前后分布的第一位置124与第二位置125，承载单元120由入口115输送至腔体110内部。

当接触组件131抵接于托盘121上的第一位置124时，接触组件131与托盘121开始电性连接，偏压由导电单元130导入，通过托盘121传递至基板122上；当导电单元130接触到托盘121上的第二位置125时，接触组件131与托盘121开始电性分离，基板122上施加的偏压消失，托盘121由出口116输送至腔体110外部。

需要说明的是，第一位置124与第二位置125可以是沿承载单元120输送方向上，分布于托盘121的两个相对的端部，也可以间隔分布于托盘121上的中间位置，以使得凹槽123中的部分区域嵌设有基板122时，接触组件131与托盘121只在托盘121部分区域保持电性连接，电力损耗减小，降低镀膜成本。

另外，需要说明的是，对于静态镀膜，即基板122相对于阴极靶材117固定不动时，承载单元120由入口115输送至镀膜位置，且接触组件131抵接于托盘121上，接触组件131与托盘121电性连接，偏压由导电单元130导入，通过托盘121传递至基板122上，开始镀膜。对于连续动态镀膜，即基板122相较于阴极靶材117连续移动时，承载单元120由入口115输送至腔体110内部，当接触组件131与托盘121相抵接，接触组件131与托盘121开始电性连接，且在托盘121连续移动过程中，接触组件131始终与托盘121抵接，偏压由导电单元130导入，通过托盘121传递至基板122上，直至接触组件131与托盘121脱离时，接触组件131与托盘121开始电性分离，基板122上施加的偏压消失，托盘121由出口116输送至腔体110外部或下一个腔体110内，镀膜完成。

上述真空镀膜装置100，腔体110具有相连接的第一侧壁111、第二侧壁112及与第二侧壁112相对设置的第三侧壁113，第一侧壁111连接第二侧壁112及第三侧壁113，在第一侧壁111上开设有入口115，用于承载单元120可移动地通过入口115输送至腔体110内，承载单元120包括有托盘121与基板122，基板122嵌设于托盘121上，用于实现基板122的固定，导电单元130设置于第二侧壁112或第三侧壁113上，实现导电单元130与腔体110的固定安装，在靠近入口115上方一侧具有伸入至腔体110内部的接触组件131，接触组件131可抵接于托盘121上，且接触组件131抵接于托盘121上时，接触组件131与托盘121电性连接，继而偏压由导电单元130导入，通过托盘121传递至基板122上，优化基板122上的镀膜质量，该真空镀膜装置100结构简单，且性能稳定，适合大规模推广应用。

为使得接触组件131抵接于多种不同规格的托盘121上，一种优选实施方式，如图1、图2、图3及图4所示，接触组件131为柔性导电体，并且在重力作用下，具有一定的弹性伸缩量，沿承载单元120输送方向上，接触组件131可抵接于不同厚度、大小的托盘121上，当接触组件131抵接于托盘121上时，接触组件131与托盘121电性连接，通过托盘121向基板122上施加偏压，当接触组件131脱离托盘121时，接触组件131与托盘121电性分离，基板122上施加的偏压消失，承载单元120离开腔体110，镀膜完成。接触组件131可以是导电弹簧、导电片、高弹性导电橡胶中的一种或多种，导电弹簧、导电片及高弹性导电橡胶具有导电率高、回弹性好、具有良好的塑性和韧性，在重力作用下，接触组件131能够变形，使得接触组件131抵接在托盘121上，当接触组件131与托盘121脱离时，接触组件131能够回弹至初始位置，确保在重复镀膜过程中，接触组件131始终与托盘121保持良好的接触，将偏压持续导入至基板122上，优化基板122的镀膜质量。

为始终保持接触组件131与托盘121的良性接触，一种优选实施方式，如图1、图2及图3所示，第二侧壁112与第三侧壁113对称连接于第一侧壁111，接触组件131为两组，且两组接触组件131分别位于第二侧壁112与第三侧壁113上。其中，两组接触组件131均为柔性导电体，并且两组接触组件131均能抵接于托盘121上，可避免在其中一组接触组件131因长时间的压缩变形，导致接触组件131损坏后与托盘121接触性不好或接触组件131短路时，另一组接触组件131仍能与托盘121保持良性接触，为基板122持续提供偏压。另外，两组接触组件131分别位于第二侧壁112与第三侧壁113上，间隔距离较远时，可使得导入至接触组件131的偏压响应速度快，接触组件131能够及时将偏压施加至基板122上，保证基板122上的镀膜质量。当然，对于传动单元140驱动承载单元120在腔体110内移动速度较慢的场合，接触组件131也可紧邻布置，只需两组接触组件131均能抵接于托盘121上即可，并且接触组件131的数量也不局限于两组，还可为其他多组接触组件131。对于接触组件131的具体设置位置及数量，本发明不做限制。需要说明的是，多组接触组件131也可均位于第二侧壁112或第三侧壁113，只需满足接触组件131能够抵接于托盘121上即可。

为密封腔体110，且导电单元130能够给基板122上施加稳定的偏压，具体地，如图1所示，导电单元130还包括电源输出组件132与馈入电极133，电源输出组件132位于腔体110外部，馈入电极133嵌设于第二侧壁112或第三侧壁113上，馈入电极133具有相对设置的输入端和输出端，输入端通过导线与电源输出组件132电连接，输出端通过导线与接触组件131电连接，通过馈入电极133可实现将电源输出组件132输出的偏压导入至接触组件131，且能够密封腔体110，避免外侧的空气进入腔体110中破坏镀膜环境。其中，电源输出组件132为偏压输入组件，在静态镀膜或连续动态镀膜过程中，为基板122持续提供负电压。

为实现承载单元120在腔体110内移动，一种优选实施方式，如图1、图5及图6所示，真空镀膜装置100还包括传动单元140，传动单元140与承载单元120滚动接触，用于驱动承载单元120在腔体110内部移动。传动单元140包括有主动轮141与从动轮142，主动轮141与从动轮142平行设置，且主动轮141与托盘121滚动接触，从动轮142也与托盘121滚动接触，通过主动轮141与从动轮142驱动承载单元120在腔体110内移动。

为减小托盘121与主动轮141、从动轮142之间的磨损，延长其使用寿命，具体地，如图5、图6所示，主动轮141与从动轮142上设置有绝缘O型圈143，并且绝缘O型圈143与托盘121滚动接触，避免主动轮141、从动轮142与托盘121的直接滚动接触，导致承载单元120通过主动轮141、从动轮142与腔体110电性导通，接触组件131无法向基板122上施加偏压，严重影响基板122上的镀膜质量，另外，承载单元120与腔体110电性导通之后，腔体110带电，在连续动态镀膜过程中，存在较大的操作风险。另外，在主动轮141与从动轮142上设置绝缘O型圈143，能够减小承载单元120对主动轮141、从动轮142的磨损，延长真空镀膜装置100的使用寿命。

为实现主动轮141及从动轮142的传动，具体地，如图1、图5及图6所示，传动单元140还包括有第一传动轴144、第二传动轴145及磁流体146，磁流体146套设于第一传动轴144上，磁流体146嵌设于腔体110上，实现磁流体146与第一传动轴144的安装固定，磁流体146能够保证在第一传动轴144转动过程中，腔体110仍然具有良好的密封性。第一传动轴144与主动轮141紧固连接为一体，确保第一传动轴144输出的动力能够传递至主动轮141上，第一传动轴144与主动轮141同步转动，第二传动轴145与从动轮142可转动连接为一体，在主动轮141转动过程中，带动从动轮142围绕第二传动轴145同步转动。其中，第一传动轴144可以通过紧固螺钉与主动轮141连接为一体，第一传动轴144与主动轮141也可以是通过焊接连接为一体，当主动轮141与第一传动轴144的材质相同时，第一传动轴144与主动轮141还可以是通过铸造、冲压等方式一体成型，对于第一传动轴144与主动轮141的具体成型方式本发明不做限制。从动轮142可以通过卡簧安装于第二传动轴145上，从动轮142也可以是通过万向节安装于第二传动轴145上，对于第二传动轴145与从动轮142的具体成型方式本发明不做限制，只需满足从动轮142能够围绕第二传动轴145转动即可。

为避免在镀膜过程中，导电膜层溅射至第一传动轴144及第二传动轴145上，具体地，如图5、图6所示，传动单元140还包括有第一绝缘件147与第二绝缘件148，第一绝缘件147与主动轮141紧固连接为一体，并且第一绝缘件147罩设于第一传动轴144上，第一绝缘件147与第一传动轴144之间留有间隙，保证在连续动态镀膜过程中，第一传动轴144并未暴露在溅射环境中，溅射出的导电膜层沉积在第一绝缘件147表面，传动单元140与腔体110保持电性绝缘，接触组件131能够持续给基板122上施加稳定的偏压，优化基板122表面的镀膜质量。同样地，第二绝缘件148与从动轮142紧固连接为一体，并且第二绝缘件148罩设于第二传动轴145上，第二绝缘件148与第二传动轴145之间留有间隙，保证在连续动态镀膜过程中，第二传动轴145也未暴露在溅射环境中，溅射出的导电膜层沉积在第二绝缘件148表面，传动单元140与腔体110保持电性绝缘，接触组件131能够持续给基板122上施加稳定的偏压，优化基板122表面的镀膜质量。

其中，第一绝缘件147与第二绝缘件148为聚醚醚酮（PEEK）、聚乙烯等绝缘材料制备而成。当第一绝缘件147与主动轮141的材质相同时，第一绝缘件147与主动轮141可以是通过铸造、冲压等方式一体成型，第一绝缘件147与主动轮141也可以是通过紧固螺钉连接为一体；当第一绝缘件147与主动轮141的材质不同时，第一绝缘件147与主动轮141可以通过紧固螺钉连接为一体。同样地，当第二绝缘件148与从动轮142的材质相同时，第二绝缘件148与从动轮142可以是通过铸造、冲压等方式一体成型，第二绝缘件148与从动轮142也可以是通过紧固螺钉连接为一体；当第二绝缘件148与从动轮142的材质不同时，第二绝缘件148与从动轮142可以通过紧固螺钉连接为一体。对于第一绝缘件147与主动轮141、第二绝缘件148与从动轮142的具体连接形式本发明不做限制。

为延长传动单元140的使用寿命及防止传动单元140与腔体110的电性导通，具体地，如图6所示，第二传动轴145与从动轮142之间设置有轴承149，轴承149套设于第二传动轴145上，并且轴承固定连接与第二绝缘件148上，将第二传动轴145与从动轮142连接处的滑动摩擦转变为滚动摩擦，减小第二传动轴145与从动轮142的磨损，延长传动单元140的使用寿命。并且轴承149为陶瓷轴承149，使得传动单元140与腔体110保持电性绝缘，接触组件131能够给基板122施加稳定的偏压，优化基板122表面的镀膜质量。当然，轴承149还可以是其他绝缘材质制备而成，对于轴承149的具体材质本发明不做限制，只需满足轴承149绝缘即可。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括腔体、承载单元及至少一个导电单元，其中：

所述腔体具有第一侧壁、第二侧壁及与所述第二侧壁相对设置的第三侧壁，所述第一侧壁连接所述第二侧壁及所述第三侧壁，所述第一侧壁上开设有入口；

所述承载单元可移动地通过所述入口输送至所述腔体内，且包括托盘及嵌设于所述托盘上的多个基板；

所述导电单元设置于所述第二侧壁或所述第三侧壁上，且在靠近所述入口上方一侧具有伸入至腔体内部的接触组件，所述接触组件可抵接于所述托盘上，且在抵接时电性连接。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述接触组件为柔性导电体，且为导电弹簧、导电片、高弹性导电弹簧中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第二侧壁与所述第三侧壁对称连接于所述第一侧壁，所述接触组件为两组，且分别位于所述第二侧壁与第三侧壁上。

4.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述导电单元还包括电源输出组件与馈入电极，所述电源输出组件位于所述腔体外部，所述馈入电极嵌设于所述第二侧壁或第三侧壁上，其一端与所述电源输出组件电连接，另一端与所述接触组件电连接。

5.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，还包括传动单元，所述传动单元与所述承载单元滚动接触，用于驱动所述承载单元在所述腔体内部移动。

6.根据权利要求5所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述传动单元包括主动轮及与所述主动轮平行设置的从动轮，所述主动轮与所述托盘滚动接触，所述从动轮与所述托盘滚动接触。

7.根据权利要求6所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述主动轮与所述从动轮上均设置有绝缘O型圈，所述绝缘O型圈与所述托盘滚动接触。

8.根据权利要求6所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述传动单元还包括第一传动轴、第二传动轴及套设于所述第一传动轴上的磁流体，所述磁流体嵌设于所述腔体上，所述第一传动轴与所述主动轮紧固连接为一体，所述第二传动轴与所述从动轮可转动连接为一体。

9.根据权利要求8所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述传动单元还包括第一绝缘件与第二绝缘件，所述第一绝缘件与所述主动轮紧固连接为一体，且罩设于所述第一传动轴并与所述第一传动轴预留有间隙，所述第二绝缘件与所述从动轮紧固连接为一体，且罩设于所述第二传动轴并与所述第二传动轴预留有间隙。

10.根据权利要求9所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述从动轮与所述第二传动轴之间设置有轴承，且所述轴承为陶瓷轴承。

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