JPS5970690A - 揮発性金属錯化合物 - Google Patents
揮発性金属錯化合物Info
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- JPS5970690A JPS5970690A JP58167652A JP16765283A JPS5970690A JP S5970690 A JPS5970690 A JP S5970690A JP 58167652 A JP58167652 A JP 58167652A JP 16765283 A JP16765283 A JP 16765283A JP S5970690 A JPS5970690 A JP S5970690A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/92—Ketonic chelates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/77—Preparation of chelates of aldehydes or ketones
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- Secondary Cells (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は有機金属化合物に関し、特に著しい高揮発性を
示すマグネシウムおよび亜鉛のβ−ジケトン錯化合物に
関する。
示すマグネシウムおよび亜鉛のβ−ジケトン錯化合物に
関する。
揮発性金属錯化合物は、燃料添加物、金属蒸気源および
ガスで運ばれる試料を含む種々の用途に適用しうるだめ
に関心が持たれている。β−ジケトン錯化合物およびそ
の用途に関する有用な論文には、丁サイエンスJ201
(4352)(1978年7月)第217〜223頁の
アール・イー・シーバース(R,E、 5ievers
)によるものがあり、多数のこれら錯化合物およびそ
の製法が述べられている。
ガスで運ばれる試料を含む種々の用途に適用しうるだめ
に関心が持たれている。β−ジケトン錯化合物およびそ
の用途に関する有用な論文には、丁サイエンスJ201
(4352)(1978年7月)第217〜223頁の
アール・イー・シーバース(R,E、 5ievers
)によるものがあり、多数のこれら錯化合物およびそ
の製法が述べられている。
式〔CFs Co CH’COCF3)−を有し、以後
略号(hfa)−であられされるヘキサフルオルアセチ
ルアセトン(1,1,1,5,5,5−へキサフルオA
−2,4−ペンタンジオン)の陰イオンの金属錯化合物
すなわちキレ−1・化合物は、特に研究の対象になって
きた。例えば、調製に用いられるH2OおよびNH3の
ように溶剤とのアダクツとしてしばしば遊離さねる錯化
合物として、cd(hfa)2、Mg(hfa)2およ
びZn(hfa)2が知られている。水化物と呼ばれる
アダクトされた錯化合物Cd(hfa)2・NH3・H
2O、Cd(hfa)2 j 2H20およびZn(h
fa)2・2H20はニス・シー・チャトラージ(S、
C。
略号(hfa)−であられされるヘキサフルオルアセチ
ルアセトン(1,1,1,5,5,5−へキサフルオA
−2,4−ペンタンジオン)の陰イオンの金属錯化合物
すなわちキレ−1・化合物は、特に研究の対象になって
きた。例えば、調製に用いられるH2OおよびNH3の
ように溶剤とのアダクツとしてしばしば遊離さねる錯化
合物として、cd(hfa)2、Mg(hfa)2およ
びZn(hfa)2が知られている。水化物と呼ばれる
アダクトされた錯化合物Cd(hfa)2・NH3・H
2O、Cd(hfa)2 j 2H20およびZn(h
fa)2・2H20はニス・シー・チャトラージ(S、
C。
Chattoraj )によって調製され、[ジャーナ
ル・オブ・インオーガニック・ニークリヤ・ケミストリ
ー(J、 Inorg、Nucl、Chem、) J
28 (1,966年)第1937〜1943頁に報告
されている。
ル・オブ・インオーガニック・ニークリヤ・ケミストリ
ー(J、 Inorg、Nucl、Chem、) J
28 (1,966年)第1937〜1943頁に報告
されている。
本発明は卓越した安定性と揮発性とを示すマグネシウム
および亜鉛のアダクトさハだ錯化合物に関する。
および亜鉛のアダクトさハだ錯化合物に関する。
本発明による錯化合物は、マグネシウムおよび亜鉛のヘ
キサフルオルアセチルアセトンのテトラヒドロフラン(
THF)アダクツ、すなわちTHFアダクツと(−で遊
離される。前記金属と1,1゜1、5. 5’、 5
−へキサフルオル−2,4−ペンタンジオンとの錯化合
物である。
キサフルオルアセチルアセトンのテトラヒドロフラン(
THF)アダクツ、すなわちTHFアダクツと(−で遊
離される。前記金属と1,1゜1、5. 5’、 5
−へキサフルオル−2,4−ペンタンジオンとの錯化合
物である。
本発明による錯化合物は、分子式M (h f a )
2・nTHFであられされる。ここでMはZn′!l:
だはMgをあられし、nは1〜4の範囲の値である。遊
離された錯化合物に含まれるTHFの割合は、゛金属の
種類および錯化合物生成工程に依存する。アダクトされ
たMg錯化合物においてはnは通常2〜4であり、Zn
錯化合物においては1〜2の範囲にある。
2・nTHFであられされる。ここでMはZn′!l:
だはMgをあられし、nは1〜4の範囲の値である。遊
離された錯化合物に含まれるTHFの割合は、゛金属の
種類および錯化合物生成工程に依存する。アダクトされ
たMg錯化合物においてはnは通常2〜4であり、Zn
錯化合物においては1〜2の範囲にある。
金属β−ジケトン錯化合物の揮発性は、錯化合物の形成
に用いられるジケトンの種類に依存するのみでなく、分
子中のアダクツの有無および性質に依存する。β−ジケ
トン錯化合物は、特に錯化合物が配位的に飽和せずかつ
溶剤が良好なリーイース塩基である場合に、その調製に
用いられる溶剤とアダクツを形成することが知られでい
る。生成したアダクトされたβ−ジケトン錯化合物は。
に用いられるジケトンの種類に依存するのみでなく、分
子中のアダクツの有無および性質に依存する。β−ジケ
トン錯化合物は、特に錯化合物が配位的に飽和せずかつ
溶剤が良好なリーイース塩基である場合に、その調製に
用いられる溶剤とアダクツを形成することが知られでい
る。生成したアダクトされたβ−ジケトン錯化合物は。
例えば錯化合物の水化物に比較してきわめて安定であシ
、有用な金属蒸気源とするのに充分な安定性と揮発性と
を示しうる。β−ジケトン化合物とアダクツを形成する
化合物としては、アンモニア、水、エーテル、ピリジン
、ビピリジル、フェナントロリン、テトラヒドロフラン
およびジメチルホルノ・アミド等がある。これらの分子
は付加的配位子(li・gand )として錯化合物に
結合して、金属核と6倍またはそれ以上の配位を達成す
る。
、有用な金属蒸気源とするのに充分な安定性と揮発性と
を示しうる。β−ジケトン化合物とアダクツを形成する
化合物としては、アンモニア、水、エーテル、ピリジン
、ビピリジル、フェナントロリン、テトラヒドロフラン
およびジメチルホルノ・アミド等がある。これらの分子
は付加的配位子(li・gand )として錯化合物に
結合して、金属核と6倍またはそれ以上の配位を達成す
る。
本発明は、成る種のMg(hfa)2およびZn (h
f a )2のテトラヒドロフランのアダクツがこれら
錯化合物の他のものよりも良好な安定性、低い融点およ
び高い揮発性を有することの発見にもとづいてなされた
ものである。しだがって、これらTHFアダクツは、他
のアダクトさねないまたはアダクトされた錯化合物に比
較して、配位子としてより低い温度を維持でき、かつ、
より急速かつ完全に気化しうるため1例えば気相反応の
だめの金属蒸気源として特に有用である。Mg (h
f a ) 2のTHFアダクツは、下記に述べる実施
例に示されているようニ、ジケトンと塩基性炭酸マグネ
シウムとをエーテル中で反応させることにより調製する
ことができる。
f a )2のテトラヒドロフランのアダクツがこれら
錯化合物の他のものよりも良好な安定性、低い融点およ
び高い揮発性を有することの発見にもとづいてなされた
ものである。しだがって、これらTHFアダクツは、他
のアダクトさねないまたはアダクトされた錯化合物に比
較して、配位子としてより低い温度を維持でき、かつ、
より急速かつ完全に気化しうるため1例えば気相反応の
だめの金属蒸気源として特に有用である。Mg (h
f a ) 2のTHFアダクツは、下記に述べる実施
例に示されているようニ、ジケトンと塩基性炭酸マグネ
シウムとをエーテル中で反応させることにより調製する
ことができる。
実施例1
塩基性炭酸マグネシウム4MgCO3・Mg (、OH
) 2・nH2O(n +−6)のサンプル2.5グラ
ムを100ミリリツトルのジエチルエーテルに窒素中で
攪拌しながら懸濁する。この懸濁液に純粋なβ−ジケト
ン(Hhfa)のサンプル10.41グラムを加え、こ
の混合液を2時間還流する。次に濾過および乾燥によっ
て固相からエーテルを分離する。エーテル相の蒸発によ
り、マグネシウム・ヘキサフルオルアセチルアセトン化
合物のエーテル・水アダクツすなわちMg Chfa)
2 + 1.5 Et20 ’ H2Oとして識別され
る白色粉末が残留する。
) 2・nH2O(n +−6)のサンプル2.5グラ
ムを100ミリリツトルのジエチルエーテルに窒素中で
攪拌しながら懸濁する。この懸濁液に純粋なβ−ジケト
ン(Hhfa)のサンプル10.41グラムを加え、こ
の混合液を2時間還流する。次に濾過および乾燥によっ
て固相からエーテルを分離する。エーテル相の蒸発によ
り、マグネシウム・ヘキサフルオルアセチルアセトン化
合物のエーテル・水アダクツすなわちMg Chfa)
2 + 1.5 Et20 ’ H2Oとして識別され
る白色粉末が残留する。
Mg(hfa)2のTHFアダクツは、上記残留物であ
る水アダクツの1〜2グラムに20ミリリツトルのTH
Fを加えることによって調製しうる。この混合物を1時
間還流する。
る水アダクツの1〜2グラムに20ミリリツトルのTH
Fを加えることによって調製しうる。この混合物を1時
間還流する。
かくて得られたTHF溶液を回転蒸発によって乾燥する
ことにより、陽子核磁気共鳴分析によってMg(hfa
)2・4THFとして識別される白色粉末を得る。
ことにより、陽子核磁気共鳴分析によってMg(hfa
)2・4THFとして識別される白色粉末を得る。
Mg (hfa)2 ・2 THFアダクツは、Mg(
hfa)2’4THFを昇華させ、乾燥した氷で冷却さ
れたコールドトラップに導くことによシ得られる。昇華
により生成した白色粉末は約130°Cの融点を有し、
この液体は160°Cで直ちに蒸発して、顕著な分解を
伴なうことなしにMg含有蒸気を生成する。
hfa)2’4THFを昇華させ、乾燥した氷で冷却さ
れたコールドトラップに導くことによシ得られる。昇華
により生成した白色粉末は約130°Cの融点を有し、
この液体は160°Cで直ちに蒸発して、顕著な分解を
伴なうことなしにMg含有蒸気を生成する。
比較例
安定なアタツクMg(hfa)2 ・2 THFとこの
hfa錯化合物の他のアダクツとの特性的な比較は、熱
重量分析によって行ないうる。これら他のアダクツは、
上記実施例1によって生成したMg(hfa)2のエー
テル・水アダクツを選ばれた配位子りと反応させること
により得られるものであり、これによって式Mg (h
fa) 2・xLであられされるアダクトされた錯化合
物を生成する。ここでLは所定の配位子、又は生成物中
に存在する配位子分子の数である。
hfa錯化合物の他のアダクツとの特性的な比較は、熱
重量分析によって行ないうる。これら他のアダクツは、
上記実施例1によって生成したMg(hfa)2のエー
テル・水アダクツを選ばれた配位子りと反応させること
により得られるものであり、これによって式Mg (h
fa) 2・xLであられされるアダクトされた錯化合
物を生成する。ここでLは所定の配位子、又は生成物中
に存在する配位子分子の数である。
80ミリリツトルのジエチルエーテルを磁気的攪拌器を
備えたフラスコ中に入れ、次に所定の配位子02ミリリ
ツトルを上記エーテルに攪拌しながら加える。次にMg
(hfa)2・1,5Et20・H20のサンプル2グ
ラムを攪拌しながら加え、夜通し攪拌を継続する。攪拌
後、各溶液を蒸発させて乾燥し白色粉末まだはオイルを
得る。
備えたフラスコ中に入れ、次に所定の配位子02ミリリ
ツトルを上記エーテルに攪拌しながら加える。次にMg
(hfa)2・1,5Et20・H20のサンプル2グ
ラムを攪拌しながら加え、夜通し攪拌を継続する。攪拌
後、各溶液を蒸発させて乾燥し白色粉末まだはオイルを
得る。
このようにして得らハだアダクトされた錯化合物の例は
下記の表1に示されている。ジメチルホルムアミド(D
MF)アダクツを除き他のすべてのものは粉末として得
られるが、DMFアダクツはオイルとして遊離され、空
気中で乾燥することにより粉末となる。すべての生成物
は、表1に示された温度において真空中で昇華しうる。
下記の表1に示されている。ジメチルホルムアミド(D
MF)アダクツを除き他のすべてのものは粉末として得
られるが、DMFアダクツはオイルとして遊離され、空
気中で乾燥することにより粉末となる。すべての生成物
は、表1に示された温度において真空中で昇華しうる。
各錯化合物に存在するアダクトされた配位子の割合(前
記Xの値)は確定さhないが、KBrディスクに混合さ
1 れたサンプルの4000〜400Cm 間の赤外スペ
クトル分析によれば、昇華したサンプルの配位子の存在
が確認された。
記Xの値)は確定さhないが、KBrディスクに混合さ
1 れたサンプルの4000〜400Cm 間の赤外スペ
クトル分析によれば、昇華したサンプルの配位子の存在
が確認された。
表 1
配位子 アダクトされた錯化合物 昇華温度(真
空中)ピリジン Mg (hfa)2 ” C5H5
N 800〜120℃(残留物あり) アセトシニト Mg (hfa)2 ” CH3CN
135°〜155℃リル
(残留物あり)PCt3
Mg(hfa)2・PCt6 190′C以下
では昇華せず ジオキサン Mg(hfa)2− C4H3O,213
0’〜160’C(残留物あり) 第1図は、Mg (hfa) 2 ・2THFの揮発性
および安定性を表1に記載された他のアダクツと比較し
て示す熱重量分析曲線である。これら曲線を得るだめの
データは、各アダクツを昇華させることにより得られた
が、p ci5アダクツは直ちには昇華しなかった。
空中)ピリジン Mg (hfa)2 ” C5H5
N 800〜120℃(残留物あり) アセトシニト Mg (hfa)2 ” CH3CN
135°〜155℃リル
(残留物あり)PCt3
Mg(hfa)2・PCt6 190′C以下
では昇華せず ジオキサン Mg(hfa)2− C4H3O,213
0’〜160’C(残留物あり) 第1図は、Mg (hfa) 2 ・2THFの揮発性
および安定性を表1に記載された他のアダクツと比較し
て示す熱重量分析曲線である。これら曲線を得るだめの
データは、各アダクツを昇華させることにより得られた
が、p ci5アダクツは直ちには昇華しなかった。
第1図を参照すると、錯化合物の良好な安定性は、狭い
温度範囲内で100%の重量損失を生じ、かつきわめて
高い温度においてももはや重量損失が生じないという急
速な重量損失の発生によって示されている。サンプルの
%が蒸発する温度(T3A)によって、そのアダクトさ
れた錯化合物の揮発性を良くあられすことができる。
温度範囲内で100%の重量損失を生じ、かつきわめて
高い温度においてももはや重量損失が生じないという急
速な重量損失の発生によって示されている。サンプルの
%が蒸発する温度(T3A)によって、そのアダクトさ
れた錯化合物の揮発性を良くあられすことができる。
他のMg (h f a )2のアダクツとの比較によ
り。
り。
Mg(hfa)2・2 TlHFの優れた安定性と顕著
な揮発性は第1図より明らかである。THFアダクツの
熱分解現象はみられず、このサンプルは200℃におい
て約99.5 %の蒸発を示す。下記の表2には、種々
のアダクツの50係揮発温度(T34)カ1ジケトン化
合物(リーーイス酸)と反応してアダクツまたは錯化合
物を生成するリューイス塩基の式とともに示されている
。
な揮発性は第1図より明らかである。THFアダクツの
熱分解現象はみられず、このサンプルは200℃におい
て約99.5 %の蒸発を示す。下記の表2には、種々
のアダクツの50係揮発温度(T34)カ1ジケトン化
合物(リーーイス酸)と反応してアダクツまたは錯化合
物を生成するリューイス塩基の式とともに示されている
。
表 2
アダクツの揮発性
リューイス塩基 TM(℃)
THF(C4H80) 180CH3CN
200C5H5N212 C4H802235 (CH3)2NCOH235 PC13熱分解 安定したMg(hfa)2のTHF アタソッは、他
の多くのアダクトされたβ−ジケトン化合物に比較して
きわめて高い蒸気圧を示す。第2図はこの錯化合物の蒸
気圧を約80〜175℃の温度範囲に亘る温度の関数と
して示したものである。この錯化合物の蒸気圧は上記温
度範囲において約4〜200mmHgの範囲にあった。
200C5H5N212 C4H802235 (CH3)2NCOH235 PC13熱分解 安定したMg(hfa)2のTHF アタソッは、他
の多くのアダクトされたβ−ジケトン化合物に比較して
きわめて高い蒸気圧を示す。第2図はこの錯化合物の蒸
気圧を約80〜175℃の温度範囲に亘る温度の関数と
して示したものである。この錯化合物の蒸気圧は上記温
度範囲において約4〜200mmHgの範囲にあった。
第6図および第4図は、テトラメチルシラン(TMS、
)を標準試料にして、cDct3溶剤中におけるMg
(hfa )2 ・2 THFおよびMg(hfa)2
・4THFの陽子核磁気共鳴スペクトルを示す。第6
図は真空中で昇華した後の2THFアダクツのものであ
シ、第4図は前記実施例1によって得られた4THFア
ダクツのものである。陽子核磁気共鳴分析のデータおよ
び元素分析によシ、各錯化合物に存在するTHFアダク
ツの割合は良好な確実性をもって確認されうる。
)を標準試料にして、cDct3溶剤中におけるMg
(hfa )2 ・2 THFおよびMg(hfa)2
・4THFの陽子核磁気共鳴スペクトルを示す。第6
図は真空中で昇華した後の2THFアダクツのものであ
シ、第4図は前記実施例1によって得られた4THFア
ダクツのものである。陽子核磁気共鳴分析のデータおよ
び元素分析によシ、各錯化合物に存在するTHFアダク
ツの割合は良好な確実性をもって確認されうる。
次にZn(hfa)2の水アダクツを得る方法は、前記
「ジャーナル・オプ・インオーガニック・ニュークリア
・ケミストリー(J、 Inorg、 Nucl、 C
hem、)」においてチャトラージ(Chattora
j )ほかが記載している。適切な方法は、水の存在の
下で酸化亜鉛とHhfa とを反応させることである。
「ジャーナル・オプ・インオーガニック・ニュークリア
・ケミストリー(J、 Inorg、 Nucl、 C
hem、)」においてチャトラージ(Chattora
j )ほかが記載している。適切な方法は、水の存在の
下で酸化亜鉛とHhfa とを反応させることである。
すなわち、10グラムのZnOと35.2ミリリツトル
のHhfaとを冷却器、磁気的攪拌器および加熱マンテ
ルを備えたフラスコに入れ、攪拌しなからZnを分散さ
せる。30ミリリツトルのH2Oを加え、加熱によI)
Hhfaの還流を行なう。この攪拌をすべての反応現
象がなくなるまで継続する。
のHhfaとを冷却器、磁気的攪拌器および加熱マンテ
ルを備えたフラスコに入れ、攪拌しなからZnを分散さ
せる。30ミリリツトルのH2Oを加え、加熱によI)
Hhfaの還流を行なう。この攪拌をすべての反応現
象がなくなるまで継続する。
次に30ミリリツトルの水と200ミリリツトルのエー
テルを加え、この混合物を1時間還流する。冷却後、余
分々Znを濾過によって取除き、ニー f ル相を4A
の分子シーブを加えることによって分離しかつ乾燥し1
次にエーテルを蒸発させて55グラムのZn(hfa)
2 ・2H20を得た。
テルを加え、この混合物を1時間還流する。冷却後、余
分々Znを濾過によって取除き、ニー f ル相を4A
の分子シーブを加えることによって分離しかつ乾燥し1
次にエーテルを蒸発させて55グラムのZn(hfa)
2 ・2H20を得た。
Zn(hfa)2のTHFアダクツは、下記の実施例2
の方法によって上記水化錯化合物から調製されうる。
の方法によって上記水化錯化合物から調製されうる。
実施例2
上記Zn(hfa)2 ・2H20のサンプル10グラ
ムを室温においてTHFに溶かす。次にTHF溶液を蒸
発させ、残留物を真空中で150℃の温度で昇華させて
乾燥した氷で冷却されたコールドトラップに導く。陽子
核磁気共鳴分析により、この昇華した生成物が分子式Z
n (h f a ) 2・nTHFを有するZn(h
fa)2のTHFアダクツであることが確認された。こ
こで、nは1〜2の範囲の値である。
ムを室温においてTHFに溶かす。次にTHF溶液を蒸
発させ、残留物を真空中で150℃の温度で昇華させて
乾燥した氷で冷却されたコールドトラップに導く。陽子
核磁気共鳴分析により、この昇華した生成物が分子式Z
n (h f a ) 2・nTHFを有するZn(h
fa)2のTHFアダクツであることが確認された。こ
こで、nは1〜2の範囲の値である。
大気中における示差走査熱量分析によって確認されたこ
の化合物の融点は165°Cである。この化合物の安定
性は、融点温度に60時間保った後に、僅かなガスの放
出と白色錯化合物の褪色によって。
の化合物の融点は165°Cである。この化合物の安定
性は、融点温度に60時間保った後に、僅かなガスの放
出と白色錯化合物の褪色によって。
きわめて僅かな分解が生じたことが観測される程度の優
れたものであった。
れたものであった。
Zn (hfa) 2のTHFアダクツの優れた安定性
と揮発性は、工(20アダクツと比較して示す第5図を
参照すれば明らかである。第5図はアルゴン雰囲気中に
おける2つのアダクツの熱重量分析曲線である。このデ
ータは、THFアダクツが水アダクツよりも完全な蒸発
特性を有することを示すのみでなく、水アダクツの50
チ揮発温度T%が155℃であるのに比し、THFアダ
クツのT%がより低い150℃であることも示している
。
と揮発性は、工(20アダクツと比較して示す第5図を
参照すれば明らかである。第5図はアルゴン雰囲気中に
おける2つのアダクツの熱重量分析曲線である。このデ
ータは、THFアダクツが水アダクツよりも完全な蒸発
特性を有することを示すのみでなく、水アダクツの50
チ揮発温度T%が155℃であるのに比し、THFアダ
クツのT%がより低い150℃であることも示している
。
陽子核磁気共鳴スペクトルにょシ、実施例2によって得
られる化合物が、TMS標準試料を用いると、 Zn’
(hf’a)2のTHFアダクツであることが確認され
る。この場合、この分析にcDct5溶剤を用いると、
データは分子式がZn (h f a ) 2・1.5
THFであることを示した。さらにこの分析にd6−ア
セントン溶剤を用いると、データは分子式がZn<hf
a)2 ・1.8 THFであることを示した。
られる化合物が、TMS標準試料を用いると、 Zn’
(hf’a)2のTHFアダクツであることが確認され
る。この場合、この分析にcDct5溶剤を用いると、
データは分子式がZn (h f a ) 2・1.5
THFであることを示した。さらにこの分析にd6−ア
セントン溶剤を用いると、データは分子式がZn<hf
a)2 ・1.8 THFであることを示した。
昇華したZn(hfa)2のTHFアタソッの元素分析
により、F、 CおよびZnが導かれ、錯化合物中の配
位子の数が確認された。この分析の結果は下記の表3に
示されている。表3には、分子式Zn(hfa)2 ・
2 THF (式量=634グラム1モル)を仮定した
場合のC,FおよびZnのパーセンテージおよびこれら
の各元素の測定されたパーセンテージが示されている。
により、F、 CおよびZnが導かれ、錯化合物中の配
位子の数が確認された。この分析の結果は下記の表3に
示されている。表3には、分子式Zn(hfa)2 ・
2 THF (式量=634グラム1モル)を仮定した
場合のC,FおよびZnのパーセンテージおよびこれら
の各元素の測定されたパーセンテージが示されている。
表 6
Zn(hfa)2 ・2THFの化学分析結果元素 計
算値(チ) 測定値(%)F 36.3 3
5.0 (34,9,35,1)C34,634,4(
34,3,32,8,36,0)Zn 10.5
10.4 (10,6,10,2)表3において、計算
値と測定値とが一致している点から、かつZn(hfa
)2・2H20と構造的に類似している点から、分子式
Zn(hfa)2・2THFをこのアダクトされた錯化
合物の正確な式と判断することができる。
算値(チ) 測定値(%)F 36.3 3
5.0 (34,9,35,1)C34,634,4(
34,3,32,8,36,0)Zn 10.5
10.4 (10,6,10,2)表3において、計算
値と測定値とが一致している点から、かつZn(hfa
)2・2H20と構造的に類似している点から、分子式
Zn(hfa)2・2THFをこのアダクトされた錯化
合物の正確な式と判断することができる。
以上の説明で明らかなように、Mg (hfa ) 2
およびZn(hfa)2のTHFアダクツが優れた揮発
性と安定性を有することによシ、これらは、上記主族金
属の高揮発性金属錯化合物として特に望ま(7いもので
ある。したがって、これらの化合物は、金属を比較的低
い温度で供給する必要がある気相反応における金属源と
して適用するのに好適なものである。
およびZn(hfa)2のTHFアダクツが優れた揮発
性と安定性を有することによシ、これらは、上記主族金
属の高揮発性金属錯化合物として特に望ま(7いもので
ある。したがって、これらの化合物は、金属を比較的低
い温度で供給する必要がある気相反応における金属源と
して適用するのに好適なものである。
第1図はアダクトされたMg(hfa)2錯化合物の熱
重量分析曲線図、第2図は本発明によるアダクトされた
Mg(hfa)2錯化合物の蒸気圧を示す図、第6図お
よび第4図は本発明によるMg(hfa)2・nTHF
の陽子核磁気共鳴スペクトル、第5図はアダクトされた
Zn(hfa)2錯化合物の熱重量分析曲線である。 特許出願人 コーニング グラス ワークス代理人
弁理士 山元俊仁 F々l F々・2
重量分析曲線図、第2図は本発明によるアダクトされた
Mg(hfa)2錯化合物の蒸気圧を示す図、第6図お
よび第4図は本発明によるMg(hfa)2・nTHF
の陽子核磁気共鳴スペクトル、第5図はアダクトされた
Zn(hfa)2錯化合物の熱重量分析曲線である。 特許出願人 コーニング グラス ワークス代理人
弁理士 山元俊仁 F々l F々・2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 MをMgtたはZn、nを1〜4の範囲の値と
するとき1分子式 %式% であられされる、MgおよびZnよりなる群の中−から
選ばれた金属と1.、 1. 1. 5. 5. 5−
へキサフルオル−2,4−ペンタンジオンとのβ−ジケ
トン錯化合物のTHFアダクツよシなる揮発性金属錯化
合物。 2、特許請求の範囲第1項に記載された金属錯化合物に
おいて、前記MがMgよりなり、前記nが2〜4の範囲
の値よりなる前記金属錯化合物。 3、特許請求の範囲第1項に記載された金属錯化合物に
おいて、前記MがZnよりなシ、前記nが1〜2の範囲
の値よシなる前記金属錯化合物。 4、特許請求の範囲第1項に記載された金属錯化合物に
おいて、前記アダクツがMg (hfa、)2−2TH
Fよりなる前記金属錯化合物。 5、特許請求の範囲第1項に記載された金属錯化合物に
おいて、前記アダクツがZn(hfa)2・2THFよ
りなる前記金属錯化合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/418,061 US4500722A (en) | 1982-09-15 | 1982-09-15 | Volatile metal complexes |
US418061 | 1982-09-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5970690A true JPS5970690A (ja) | 1984-04-21 |
JPH0452276B2 JPH0452276B2 (ja) | 1992-08-21 |
Family
ID=23656527
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58167652A Granted JPS5970690A (ja) | 1982-09-15 | 1983-09-13 | 揮発性金属錯化合物 |
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---|---|
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EP (1) | EP0103446B1 (ja) |
JP (1) | JPS5970690A (ja) |
KR (1) | KR880002306B1 (ja) |
AT (1) | ATE21097T1 (ja) |
AU (1) | AU565520B2 (ja) |
BR (1) | BR8304867A (ja) |
CA (1) | CA1195336A (ja) |
DE (1) | DE3364959D1 (ja) |
DK (1) | DK418683A (ja) |
FI (1) | FI73690C (ja) |
HK (1) | HK14887A (ja) |
IL (1) | IL69702A (ja) |
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US4558144A (en) * | 1984-10-19 | 1985-12-10 | Corning Glass Works | Volatile metal complexes |
US4955944A (en) * | 1987-02-10 | 1990-09-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Rotating electric machine |
US7282100B1 (en) * | 2002-01-28 | 2007-10-16 | Palm Beach Motoring Access Inc | Method of cleaning automobile painted surfaces and automobile glass surfaces |
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---|---|---|---|---|
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- 1982-09-15 US US06/418,061 patent/US4500722A/en not_active Expired - Fee Related
-
1983
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- 1983-09-05 DE DE8383305118T patent/DE3364959D1/de not_active Expired
- 1983-09-05 AT AT83305118T patent/ATE21097T1/de not_active IP Right Cessation
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- 1983-09-08 BR BR8304867A patent/BR8304867A/pt unknown
- 1983-09-13 JP JP58167652A patent/JPS5970690A/ja active Granted
- 1983-09-13 IL IL69702A patent/IL69702A/xx unknown
- 1983-09-14 FI FI833282A patent/FI73690C/fi not_active IP Right Cessation
- 1983-09-14 DK DK418683A patent/DK418683A/da not_active Application Discontinuation
- 1983-09-14 NO NO833304A patent/NO833304L/no unknown
- 1983-09-15 IN IN1128/CAL/83A patent/IN161670B/en unknown
- 1983-09-15 KR KR1019830004339A patent/KR880002306B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1986
- 1986-10-14 SG SG833/86A patent/SG83386G/en unknown
-
1987
- 1987-02-19 HK HK148/87A patent/HK14887A/xx unknown
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---|---|
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FI833282A0 (fi) | 1983-09-14 |
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US4500722A (en) | 1985-02-19 |
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DE3364959D1 (en) | 1986-09-04 |
ATE21097T1 (de) | 1986-08-15 |
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JPH0452276B2 (ja) | 1992-08-21 |
SG83386G (en) | 1987-07-03 |
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