JPS596859U - 半導体レ−ザ複合素子 - Google Patents

半導体レ−ザ複合素子

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Publication number
JPS596859U
JPS596859U JP10060182U JP10060182U JPS596859U JP S596859 U JPS596859 U JP S596859U JP 10060182 U JP10060182 U JP 10060182U JP 10060182 U JP10060182 U JP 10060182U JP S596859 U JPS596859 U JP S596859U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
type
xalxas
type gaas
semiconductor laser
Prior art date
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Pending
Application number
JP10060182U
Other languages
English (en)
Inventor
徹也 高橋
Original Assignee
株式会社日立製作所
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Filing date
Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例の複合素子の機能図、第2図
は同じく複合素子の構造図、第3図は同じく複合素子の
効果を示す線図である。 A:陽極、B:ベース、E:エミッタ、1:L/−ザ発
−振部、2:トランレスタ、6:Zn選択拡散層(スト
ライブ状 11:ベース電極。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. n型GaAs基板上に、n−Ga1−xAlxAs層と
    、nまたはp型Ga□yA1yAs層(y<x)と、前
    記n型Ga1−xAlxAs層と同一のA1混晶比Xを
    有するp型’   Ga□−xAlxAs層と、n型G
    aAS層とを、液相エピタキシャル成長法により順次連
    続的に積層形成すると共に、前記n型GaAs基板の反
    対面に同様にp型GaAs層を液相エピタキシャル成長
    法により積層形成させた後、前記の型GaAs層表面か
    らp型Ga□−xAlxAs層の一部に達する深さのス
    トライブ状の亜鉛選択拡散i域を形成し、また、一方前
    記p型GaAs層には所要の深さ所要の個数、幅のスト
    ライプ状のテルル選択拡散領域を形成したことを特徴と
    する半導体レーザ・トランジスタ複合素子。
JP10060182U 1982-07-05 1982-07-05 半導体レ−ザ複合素子 Pending JPS596859U (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6173372U (ja) * 1984-10-18 1986-05-19

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6173372U (ja) * 1984-10-18 1986-05-19
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