JPS5967258A - ビス(4−ヒドロキシアルコキシフエニル)スルホンの製法 - Google Patents
ビス(4−ヒドロキシアルコキシフエニル)スルホンの製法Info
- Publication number
- JPS5967258A JPS5967258A JP57177503A JP17750382A JPS5967258A JP S5967258 A JPS5967258 A JP S5967258A JP 57177503 A JP57177503 A JP 57177503A JP 17750382 A JP17750382 A JP 17750382A JP S5967258 A JPS5967258 A JP S5967258A
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- Japan
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- sulfone
- bis
- reaction
- alkaline catalyst
- hydroxyphenyl
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明ハビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホンとア
ルキレンオキサイドから高純度のビス(4−ヒドロキシ
アルコキシフェニル)スルホンを収率良く製造する方法
に関する。
ルキレンオキサイドから高純度のビス(4−ヒドロキシ
アルコキシフェニル)スルホンを収率良く製造する方法
に関する。
ビス(4−ヒドロキシアルコキシフェニル)スルホンは
ジオール依分として、ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等のエンジ
ニアリングプラスチック5f−:として杼めて有用々物
性で、ポリマーの耐p、性、耐熱化性、楼5械的特性等
を著しく向上させる。又、平滑剤、界面活性剤等のイ!
梯合成化学の中間体としても有用か化合物であり、その
為に高純度で高収率の製法が要望されている。
ジオール依分として、ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等のエンジ
ニアリングプラスチック5f−:として杼めて有用々物
性で、ポリマーの耐p、性、耐熱化性、楼5械的特性等
を著しく向上させる。又、平滑剤、界面活性剤等のイ!
梯合成化学の中間体としても有用か化合物であり、その
為に高純度で高収率の製法が要望されている。
−rに、フェノール性水酸基にアルキレンオキサイドを
付加させる方法としては、無溶媒或いは有機溶媒中でア
ルカリ性触媒の存在下で反応させる事が公知であるが、
ピア(4−ヒドロキシフェニル)スルホンは融点が25
0℃と高い為、f■溶媒での反応は大変用が「である。
付加させる方法としては、無溶媒或いは有機溶媒中でア
ルカリ性触媒の存在下で反応させる事が公知であるが、
ピア(4−ヒドロキシフェニル)スルホンは融点が25
0℃と高い為、f■溶媒での反応は大変用が「である。
又多量の有機溶媒、例えば、メチルアルコール、イソプ
ロピルアルコール、ベンゼン勢を用いて、加圧条件下1
τ長時間を要して反応させる必要があり、溶媒の浪費、
多弁の副生物の生成等工業的生産には達してい々い。
ロピルアルコール、ベンゼン勢を用いて、加圧条件下1
τ長時間を要して反応させる必要があり、溶媒の浪費、
多弁の副生物の生成等工業的生産には達してい々い。
本発明者らは工業的生産に向く高純度のビス(4−ヒド
ロキシアルコキシフェニル)スルホンの製造方法を鋭章
研究した結果本発明に到達した。
ロキシアルコキシフェニル)スルホンの製造方法を鋭章
研究した結果本発明に到達した。
本発明け、一般の有枦溶謀を全く使用せずに、水溶媒中
アルカリ性卸りj媒の存在下、60℃以上100℃以下
の湿度で短時間の反応によシ高収率高純度のビス(4−
ヒドロキシアルコキシフェニル)スルホンを工業的に製
造する方法を提供するものである。
アルカリ性卸りj媒の存在下、60℃以上100℃以下
の湿度で短時間の反応によシ高収率高純度のビス(4−
ヒドロキシアルコキシフェニル)スルホンを工業的に製
造する方法を提供するものである。
本発明に有用なビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホ
ンは次の一般式で示されるものである。
ンは次の一般式で示されるものである。
また、アルキレンオキサイドRは炭弊数2〜4のアルキ
レン基を有するエチレンオキサイド、プロピレンオキサ
イド、ブチレンオキサイドである。
レン基を有するエチレンオキサイド、プロピレンオキサ
イド、ブチレンオキサイドである。
(3)
本発明に用いられる触媒は、一般のアルカリ性触媒、望
捷しくけ弱アルカリ性金属触媒である。
捷しくけ弱アルカリ性金属触媒である。
例えは、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のギ酸均、
酢酸塩、プロピオン酸塩、シェラ酸塩、マロン酸塩等で
それの単独あるいけ併用で使用する。
酢酸塩、プロピオン酸塩、シェラ酸塩、マロン酸塩等で
それの単独あるいけ併用で使用する。
アルカリ性の強い触媒を使1Nすると、反応性は高くな
るが、副反応物が生成1〜て純度が低下すると表がある
。
るが、副反応物が生成1〜て純度が低下すると表がある
。
本発明を実施する場合、常圧気相法及びオートクレーブ
法のいすねでも良いが、反応温度は60℃以上100℃
以下、好捷しくけ70〜90℃である。100℃以上と
力ると、反応は早いが純度が低下し、60℃以下と々る
と反応速度が遅くなる。
法のいすねでも良いが、反応温度は60℃以上100℃
以下、好捷しくけ70〜90℃である。100℃以上と
力ると、反応は早いが純度が低下し、60℃以下と々る
と反応速度が遅くなる。
本発明は、有機溶媒を全く使用しない事により、工場で
の毒性、引火性等の危険が全く々く、安全且つ経済的に
有利な、工業的生産に極めて適するものである。以下に
例をもって本発明を説明する。
の毒性、引火性等の危険が全く々く、安全且つ経済的に
有利な、工業的生産に極めて適するものである。以下に
例をもって本発明を説明する。
尚、例中「%」は爪間%を示す。
実施例1
ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン500(4)
g1水]000wj及び水酸什ナトリウム5gを撹拌枦
を付したステンレスg43 tオートクレーブに入わ、
反応混合物を85℃に加熱し、2Kq/cm2の圧力下
に、撹拌しながらエチレンオキサイド220gを1時間
で導入する。更に反応温度を80〜90℃に保持させな
がら、反応を1時間続ける。反応終了後、反応物を十分
に水洗い口過して、乾操すルト、ビス(4−ヒドロキシ
エトキシフェニル)スルホンが65o g ?4iられ
た。結果を表1に示す。
を付したステンレスg43 tオートクレーブに入わ、
反応混合物を85℃に加熱し、2Kq/cm2の圧力下
に、撹拌しながらエチレンオキサイド220gを1時間
で導入する。更に反応温度を80〜90℃に保持させな
がら、反応を1時間続ける。反応終了後、反応物を十分
に水洗い口過して、乾操すルト、ビス(4−ヒドロキシ
エトキシフェニル)スルホンが65o g ?4iられ
た。結果を表1に示す。
実7i!i例2〜4
実施例】の方法において、触媒の量及び和1類を変えて
反復操作を行々った。結果を表1に示す。
反復操作を行々った。結果を表1に示す。
比較例1
ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン500g1イ
ソプロパツール100〇−及び水酸什1ナトリウム5g
を撹拌機を付した2tのフラスコに入れて、反応混合物
を85℃に加熱し、撹拌し々からエチレンオキサイド2
20gを2時間で吹込む。更に反応温度を80〜90℃
に保持させ々から反応を1時間続ける。反応終了後イソ
プロパツールを留失し、反応物を十分に水洗し、口過し
て、軒忰するト、ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニ
ル)スルホンが620g得らねた。結果を表Iに示す。
ソプロパツール100〇−及び水酸什1ナトリウム5g
を撹拌機を付した2tのフラスコに入れて、反応混合物
を85℃に加熱し、撹拌し々からエチレンオキサイド2
20gを2時間で吹込む。更に反応温度を80〜90℃
に保持させ々から反応を1時間続ける。反応終了後イソ
プロパツールを留失し、反応物を十分に水洗し、口過し
て、軒忰するト、ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニ
ル)スルホンが620g得らねた。結果を表Iに示す。
比較例2
実施例1の方法において、反応湿度を100°〜110
℃に変えて打力っだ。結果を表1に示す。
℃に変えて打力っだ。結果を表1に示す。
以下余日
(7)
組成はガスクロマトグラフィーによる分析結果である。
。
2モル11加俸が目的とする反応生成物である。
実施例5
ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン500g1水
7501nl′IfIび酢酸カリウム25gを3tのオ
ートクレーブに入れ、反応混、合物を85℃に加熱して
、’l、 5 Kg/cm2の圧力下に、撹拌し々から
、プロピレンオキサイド350gを1時間で導入する。
7501nl′IfIび酢酸カリウム25gを3tのオ
ートクレーブに入れ、反応混、合物を85℃に加熱して
、’l、 5 Kg/cm2の圧力下に、撹拌し々から
、プロピレンオキサイド350gを1時間で導入する。
更に反応温度を80〜90℃に保持させながら、反応を
1時間30分続ける。反応終了後、反応物を十分に水洗
し、脱水し、乾燥すると、ビス(4−ヒドロキシプロポ
キシフェニル)スルホンが710g得られた。収率 9
7ρ%。
1時間30分続ける。反応終了後、反応物を十分に水洗
し、脱水し、乾燥すると、ビス(4−ヒドロキシプロポ
キシフェニル)スルホンが710g得られた。収率 9
7ρ%。
組成は次の通りであった。
プロピレンオキサイド1モル付加体 0
7%プロピレンオキザイド2モル付加体(目的物)
976%プロピレンオキサイド3モル以上付加体
1.7%(8)
7%プロピレンオキザイド2モル付加体(目的物)
976%プロピレンオキサイド3モル以上付加体
1.7%(8)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ヒス(4−ヒドロキシフェニル)スルホンとアルキ
レンオキサイドを反応させてビス(4−ヒドロキシアル
コキシフェニル)スルホンを!!4造するに当り、水溶
奴中でアルカリ性触媒の存在下に、60℃以上100℃
以下の温バfにおいて反応させる事を特徴とする方法。 2 アルカリ性触媒として、アルカリ金属又はアルカリ
土類金属のギシ゛用、酢酸塩、プロピオン酸塩、シュウ
酸塩、マロン酸塩等の弱アルカリ性触媒が用いられる特
許請求の範囲第1′gU記載の方法。 3 反応温度が70〜90℃である特許請求の範囲第1
項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57177503A JPS602303B2 (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | ビス(4−ヒドロキシアルコキシフエニル)スルホンの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57177503A JPS602303B2 (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | ビス(4−ヒドロキシアルコキシフエニル)スルホンの製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5967258A true JPS5967258A (ja) | 1984-04-16 |
JPS602303B2 JPS602303B2 (ja) | 1985-01-21 |
Family
ID=16032039
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57177503A Expired JPS602303B2 (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | ビス(4−ヒドロキシアルコキシフエニル)スルホンの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS602303B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105949094A (zh) * | 2016-05-13 | 2016-09-21 | 江苏傲伦达科技实业股份有限公司 | 二[4-(2-羟基乙氧基)苯基]砜及其衍生物的制备方法及其催化剂 |
CN111153839A (zh) * | 2020-01-17 | 2020-05-15 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 一种含砜基二元醇及其制备方法 |
CN111171279A (zh) * | 2020-01-17 | 2020-05-19 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 一种含砜基的聚氨酯、其制备方法及应用 |
-
1982
- 1982-10-12 JP JP57177503A patent/JPS602303B2/ja not_active Expired
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105949094A (zh) * | 2016-05-13 | 2016-09-21 | 江苏傲伦达科技实业股份有限公司 | 二[4-(2-羟基乙氧基)苯基]砜及其衍生物的制备方法及其催化剂 |
CN111153839A (zh) * | 2020-01-17 | 2020-05-15 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 一种含砜基二元醇及其制备方法 |
CN111171279A (zh) * | 2020-01-17 | 2020-05-19 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 一种含砜基的聚氨酯、其制备方法及应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS602303B2 (ja) | 1985-01-21 |
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