JPS5965810A - 回折格子の製作方法 - Google Patents
回折格子の製作方法Info
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- JPS5965810A JPS5965810A JP17613882A JP17613882A JPS5965810A JP S5965810 A JPS5965810 A JP S5965810A JP 17613882 A JP17613882 A JP 17613882A JP 17613882 A JP17613882 A JP 17613882A JP S5965810 A JPS5965810 A JP S5965810A
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- Japan
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- replica
- diffraction grating
- film
- matrix
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
し発明の利用分野〕
本発明は仮製による回折格子の製造方法に関するもので
ある。
ある。
〔従来技術J
回折格子は通常、ガラス金基板とし、接着あるいは蒸着
した金属面上に非常に多くの格子が形成されたものであ
り、機械刻線による回折格子は通常、次のような工gk
経て製作されている。
した金属面上に非常に多くの格子が形成されたものであ
り、機械刻線による回折格子は通常、次のような工gk
経て製作されている。
ガラス基板に真空蒸着したアルミニウム薄膜上に回折格
子彫刻装+11使用して格子mヶ形成することによりマ
スター回折格子が製作される。このマスターケ母型とし
て、その格子向上に離形剤として薄く油膜を形成し、そ
の上に真空蒸着によりアルミニウム薄膜全形成した後、
このアルミニウム薄膜上にガラス基板全接着剤ケ介して
接着し、接着剤の硬化後、ガラス基板ケ母型より剥離す
ることによシアルミニウム薄膜はガラス基板側に移り、
母型の複製回折格子(レプリカ)が得られる。
子彫刻装+11使用して格子mヶ形成することによりマ
スター回折格子が製作される。このマスターケ母型とし
て、その格子向上に離形剤として薄く油膜を形成し、そ
の上に真空蒸着によりアルミニウム薄膜全形成した後、
このアルミニウム薄膜上にガラス基板全接着剤ケ介して
接着し、接着剤の硬化後、ガラス基板ケ母型より剥離す
ることによシアルミニウム薄膜はガラス基板側に移り、
母型の複製回折格子(レプリカ)が得られる。
このような転写複製工程を数代にわたって繰り返すこと
によp、その裏作に普通−週間以上の逆時間全必要とす
るマスター回折格子から多くのレプリカが製作され、回
折格子の量産が行なわれる。
によp、その裏作に普通−週間以上の逆時間全必要とす
るマスター回折格子から多くのレプリカが製作され、回
折格子の量産が行なわれる。
ところで、通常の分光装置では回折16子は室温で使用
されるため、耐熱温度が100r以下の接着剤を使用す
る従来技術によるレプリカでも、その耐熱性が問題とな
ることはあまりなかった。しかし、近年、研究が盛んに
なってきた、シンクロトロン放射光で代表されるような
大出力光用回折格子に、照射による温度上昇に耐えると
共に、超胃真仝中に設置されることが多いので、ベーキ
ングが6丁能であることが菫ましい。このような条件を
満たすものとしてマスター回折格子があるが、実際上、
レプリカ並に量産することは不可能で、きわめて高価な
ものであり、ベーク可能なレプリカの開発が強く望まれ
ていた。
されるため、耐熱温度が100r以下の接着剤を使用す
る従来技術によるレプリカでも、その耐熱性が問題とな
ることはあまりなかった。しかし、近年、研究が盛んに
なってきた、シンクロトロン放射光で代表されるような
大出力光用回折格子に、照射による温度上昇に耐えると
共に、超胃真仝中に設置されることが多いので、ベーキ
ングが6丁能であることが菫ましい。このような条件を
満たすものとしてマスター回折格子があるが、実際上、
レプリカ並に量産することは不可能で、きわめて高価な
ものであり、ベーク可能なレプリカの開発が強く望まれ
ていた。
そこで、本発明者等は、従来技術で使用呑れている接着
剤の代シに耐熱性接着剤?便用してベーカプルレプμ力
回折格子の與作金試みたが、回折格子として最低限具備
していなければいけない格子表面の面精度が劣化すると
いう新たな問題が生じた。
剤の代シに耐熱性接着剤?便用してベーカプルレプμ力
回折格子の與作金試みたが、回折格子として最低限具備
していなければいけない格子表面の面精度が劣化すると
いう新たな問題が生じた。
本発明の目的は、従来技術での上記した問題点と、該問
題点?解決すべく1試み次耐熱性依着剤の使用にともな
って新たに生じた問題点?共に解決し、格子表面精度が
良好で、しかもベーキングが可能なレプリカ回折で6子
の製造方法?提供するこ。
題点?解決すべく1試み次耐熱性依着剤の使用にともな
って新たに生じた問題点?共に解決し、格子表面精度が
良好で、しかもベーキングが可能なレプリカ回折で6子
の製造方法?提供するこ。
とにある。
〔発明の概要]
耐熱性接着剤の使用にともなって生じるレプリカの表向
(精度の劣化現象ケ詳細に検討した結果、その原因は接
着剤ヶ硬化させるための加熱の際に生じるガラス基板の
熱歪であり、ま九、表面精度がほとんど劣化しないよう
な加熱条注があることも研究しえた。すなわち、作業上
の制約から回折格子の複製に使用できる接着剤は限定さ
れ、使用6f能な市販品の耐熱性接着剤の多くは高温硬
化が必要である。そこで、接着作業後、所定の温度まで
加熱するが、このとき、ガラス基板は熱変形し、この状
態で接着剤は硬化してしまうため、結果としてレプリカ
の表面形状は母型のそれとは異なつたものとなるわけで
ある。
(精度の劣化現象ケ詳細に検討した結果、その原因は接
着剤ヶ硬化させるための加熱の際に生じるガラス基板の
熱歪であり、ま九、表面精度がほとんど劣化しないよう
な加熱条注があることも研究しえた。すなわち、作業上
の制約から回折格子の複製に使用できる接着剤は限定さ
れ、使用6f能な市販品の耐熱性接着剤の多くは高温硬
化が必要である。そこで、接着作業後、所定の温度まで
加熱するが、このとき、ガラス基板は熱変形し、この状
態で接着剤は硬化してしまうため、結果としてレプリカ
の表面形状は母型のそれとは異なつたものとなるわけで
ある。
さらに、ガラス基板の熱歪が原因であるということに着
目し、前記加熱条件とは別に、低熱膨張係数のガラス基
板の使用を検討した結果、レプリカのべ面の劣化防止に
効果があることが判明した9このように本発明は、耐熱
接着剤金使用する際に問題となったレプリカ表面精度の
劣化ケ、最適加熱条件の深爪により、また低熱膨張係数
の基板。
目し、前記加熱条件とは別に、低熱膨張係数のガラス基
板の使用を検討した結果、レプリカのべ面の劣化防止に
効果があることが判明した9このように本発明は、耐熱
接着剤金使用する際に問題となったレプリカ表面精度の
劣化ケ、最適加熱条件の深爪により、また低熱膨張係数
の基板。
材料を使用することによシ防止し、ベーカブルなレプリ
カ回折)・6子の実現金図ったものである。
カ回折)・6子の実現金図ったものである。
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。ガラ
ス基板1にアルミニウム薄膜2を蒸着し7、これに多数
の平行溝全形成した母型表面に、離形剤としてきわめて
縛い油ノgと、レプリカ表囲才形成するアルミニウム薄
膜3を真空蒸着し、該アルミニウム薄膜3に未硬化の耐
熱性接着剤層4(例えば、EPOXY TECHNGL
O(JY INc、製EPO−TEC377など)を介
してガラス基板5を全面的に被覆圧漱した後、内部温度
が室温の恒温槽に移す。しかる後、恒温槽の内部温度を
、ガラス基板1と5とに熱歪が発生しないよう、約1分
間にlCの割合で徐々に120G−Eで上昇させ、接着
剤層4’に1時間加熱硬化させる。映化銑、ガラス基板
5を母型表面よシ剥離すると、アルミニウム薄膜3はガ
ラス基板5に移りレプリカが製作される。
ス基板1にアルミニウム薄膜2を蒸着し7、これに多数
の平行溝全形成した母型表面に、離形剤としてきわめて
縛い油ノgと、レプリカ表囲才形成するアルミニウム薄
膜3を真空蒸着し、該アルミニウム薄膜3に未硬化の耐
熱性接着剤層4(例えば、EPOXY TECHNGL
O(JY INc、製EPO−TEC377など)を介
してガラス基板5を全面的に被覆圧漱した後、内部温度
が室温の恒温槽に移す。しかる後、恒温槽の内部温度を
、ガラス基板1と5とに熱歪が発生しないよう、約1分
間にlCの割合で徐々に120G−Eで上昇させ、接着
剤層4’に1時間加熱硬化させる。映化銑、ガラス基板
5を母型表面よシ剥離すると、アルミニウム薄膜3はガ
ラス基板5に移りレプリカが製作される。
このようにして製作されたレプリカは、m型と同7じ高
精度の平面度全課ちながら、約200cまでの耐熱性を
持つ。
精度の平面度全課ちながら、約200cまでの耐熱性を
持つ。
なお、ガラス基板1と5とに、低熱膨張係数の基板(例
えば、耐熱性ガラス、石英など)音便用することによシ
、接層剤層4の加熱硬1ヒ時における基板の熱歪の発生
が防止さn、前述と同様の効果がある。
えば、耐熱性ガラス、石英など)音便用することによシ
、接層剤層4の加熱硬1ヒ時における基板の熱歪の発生
が防止さn、前述と同様の効果がある。
以上の如く本発明によれば、回折格子としての必要条件
の一つである格子の表面精度を劣化させることなく、耐
熱性?有するレプリカが製作回目ヒであり、本しプリカ
?大出力光の分光や超高真空を必要とする真空分光など
に使用した場合、照射による温度上昇に耐え、また、ベ
ーキングが1J能であるため超高真空が実現しやすいな
ど実用的効果は大きい。
の一つである格子の表面精度を劣化させることなく、耐
熱性?有するレプリカが製作回目ヒであり、本しプリカ
?大出力光の分光や超高真空を必要とする真空分光など
に使用した場合、照射による温度上昇に耐え、また、ベ
ーキングが1J能であるため超高真空が実現しやすいな
ど実用的効果は大きい。
第1図は、本発明に係る+−面回折格子を複#する方法
の説明図である。 1.5・・・ガラス基板、2.3・・・アルミニウム薄
膜、第 1 図
の説明図である。 1.5・・・ガラス基板、2.3・・・アルミニウム薄
膜、第 1 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、母型回折格子の表面に金属薄膜を形成し、上記金属
薄膜の而とレプリカ基板とr未硬化の接着剤層を介して
圧接し、上記接着剤層が硬化した後に上記母型回折格子
より上記レプリカ基板を剥離することにより上記金属薄
膜を反転接着せしめる回折格子の製作方法において、上
記接着剤層が耐熱性接着剤層からなり、上記接着剤層に
て圧接した上記母型回折格子と上記レプリカ基板と全上
記レプリカ基板に熱歪音生じさせない温度上昇速度で上
記接着剤層の硬化温j比まで加熱せしめて硬化させるこ
と’(r%徴とする回折格子の製作方法。 2、上記レプリカ基板が低熱膨張係数ケ有する基板材料
からなることt%徴とする特許請求の範囲第1項記載の
回折格子の製作方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17613882A JPS5965810A (ja) | 1982-10-08 | 1982-10-08 | 回折格子の製作方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17613882A JPS5965810A (ja) | 1982-10-08 | 1982-10-08 | 回折格子の製作方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5965810A true JPS5965810A (ja) | 1984-04-14 |
Family
ID=16008322
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17613882A Pending JPS5965810A (ja) | 1982-10-08 | 1982-10-08 | 回折格子の製作方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5965810A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0220802A (ja) * | 1988-03-18 | 1990-01-24 | Instruments Sa | 透過型回折格子およびその製造方法 |
JPH05232307A (ja) * | 1992-02-18 | 1993-09-10 | Sony Magnescale Inc | 回折格子の作製方法 |
FR2779534A1 (fr) * | 1998-06-09 | 1999-12-10 | Commissariat Energie Atomique | Procede de fabrication de composants optiques par replication |
JP2001230069A (ja) * | 1999-12-08 | 2001-08-24 | Nec Corp | 有機el素子及びその製造方法 |
KR100312834B1 (ko) * | 1997-12-25 | 2001-12-12 | 모리시타 요이찌 | 전자부품의제조방법및박막의제조장치 |
JP2004014529A (ja) * | 1999-12-08 | 2004-01-15 | Nec Corp | 有機el素子 |
JP2006084885A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Shimadzu Corp | レプリカ回折格子の製造方法 |
-
1982
- 1982-10-08 JP JP17613882A patent/JPS5965810A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0220802A (ja) * | 1988-03-18 | 1990-01-24 | Instruments Sa | 透過型回折格子およびその製造方法 |
US5080465A (en) * | 1988-03-18 | 1992-01-14 | Instruments S.A. | Diffraction grating and method of making |
JPH05232307A (ja) * | 1992-02-18 | 1993-09-10 | Sony Magnescale Inc | 回折格子の作製方法 |
KR100312834B1 (ko) * | 1997-12-25 | 2001-12-12 | 모리시타 요이찌 | 전자부품의제조방법및박막의제조장치 |
FR2779534A1 (fr) * | 1998-06-09 | 1999-12-10 | Commissariat Energie Atomique | Procede de fabrication de composants optiques par replication |
WO1999064901A1 (fr) * | 1998-06-09 | 1999-12-16 | Commissariat A L'energie Atomique | Procede de fabrication de composants optiques par replication |
US6579477B1 (en) | 1998-06-09 | 2003-06-17 | Commissariat A L'energie Atomique | Method for making optical components by replication |
JP2001230069A (ja) * | 1999-12-08 | 2001-08-24 | Nec Corp | 有機el素子及びその製造方法 |
JP2004014529A (ja) * | 1999-12-08 | 2004-01-15 | Nec Corp | 有機el素子 |
US6734624B2 (en) | 1999-12-08 | 2004-05-11 | Nec Corporation | Organic electro-luminescence device and method for fabricating same |
JP2006084885A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Shimadzu Corp | レプリカ回折格子の製造方法 |
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