JPS5964028A - Ｘ線装置 - Google Patents
Ｘ線装置Info
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- JPS5964028A JPS5964028A JP57173921A JP17392182A JPS5964028A JP S5964028 A JPS5964028 A JP S5964028A JP 57173921 A JP57173921 A JP 57173921A JP 17392182 A JP17392182 A JP 17392182A JP S5964028 A JPS5964028 A JP S5964028A
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- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 24
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002601 radiography Methods 0.000 description 1
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、Ｘ線ＣＴスキャナを利用したスキャノグラフ
ィあるいはラインセンサ形ディジタルラジオグラフィ装
置等における解像度向上に好適するＸ線装置に関するも
のである。
ィあるいはラインセンサ形ディジタルラジオグラフィ装
置等における解像度向上に好適するＸ線装置に関するも
のである。
Ｘ線源および検出器列間に被検体を位置させ、前記検出
器列に直交、する方向に被検体へのＸ線走査を行ってそ
の走査方向に連続するＸ線吸収係数の二次元分布データ
を得るＸａ装置、例えば第１図に示すようなＸ線ＣＴ装
置利用のスキャノグラフィにおいて、検出器（Ｘ線検出
器）列ｌの各検出器並設方向（図面に垂直な方向）Ｘの
解像度は各検出器の間隔で決まる。また、検出器列ｌに
直交するＸ線走査方向、換言すればベッドないし被検体
の移動方向（図中ｙ方向）の解像度はＸ線源２からのＸ
線ビーム３のＸ線走査方向ｙの幅ないし検出器列ｌ側の
コリメータ４の幅で決まっていたゎこのため、第２図に
示すように投射データのサンプリング点（図中黒丸で示
す）の間隔がＸ線走査方向ｙの検出器開口幅Ｗとほぼ同
様またはそれ以上に設定された従来のサンプリング方法
において、Ｘ線走査方向ｙの解像度を上げるには、（１
）Ｘ線源２側に幅の狭いコリメータ５を置いてＸａビー
ム３のＸ線走査方向ｙの幅を狭くするか、 （２）検出器列ｌ側のコリメータ４０幅を狭める方法が
ある。
器列に直交、する方向に被検体へのＸ線走査を行ってそ
の走査方向に連続するＸ線吸収係数の二次元分布データ
を得るＸａ装置、例えば第１図に示すようなＸ線ＣＴ装
置利用のスキャノグラフィにおいて、検出器（Ｘ線検出
器）列ｌの各検出器並設方向（図面に垂直な方向）Ｘの
解像度は各検出器の間隔で決まる。また、検出器列ｌに
直交するＸ線走査方向、換言すればベッドないし被検体
の移動方向（図中ｙ方向）の解像度はＸ線源２からのＸ
線ビーム３のＸ線走査方向ｙの幅ないし検出器列ｌ側の
コリメータ４の幅で決まっていたゎこのため、第２図に
示すように投射データのサンプリング点（図中黒丸で示
す）の間隔がＸ線走査方向ｙの検出器開口幅Ｗとほぼ同
様またはそれ以上に設定された従来のサンプリング方法
において、Ｘ線走査方向ｙの解像度を上げるには、（１
）Ｘ線源２側に幅の狭いコリメータ５を置いてＸａビー
ム３のＸ線走査方向ｙの幅を狭くするか、 （２）検出器列ｌ側のコリメータ４０幅を狭める方法が
ある。
しかしながらこれら＋１） 、 １２１の方法共にＸ線
の利用効率を低下させてしまう。また、特に（１）の方
法では得られる投射データのＳＮ比を同上するためＸ線
強度を上げる必要があり、さらに（２）の方法では投射
データに寄与しないＸ線を被検体に曝射することになり
、その分、被ｉｌｌ線量が増大する等の問題点があった
。
の利用効率を低下させてしまう。また、特に（１）の方
法では得られる投射データのＳＮ比を同上するためＸ線
強度を上げる必要があり、さらに（２）の方法では投射
データに寄与しないＸ線を被検体に曝射することになり
、その分、被ｉｌｌ線量が増大する等の問題点があった
。
本発明は上記のような実情に鑑みてなされたもので、Ｘ
線走査方向の検出器開口幅やコリメータ幅、延いてはＸ
線ビーム幅を狭めることなく、従って上記問題点が生じ
ることなくＸ線走査方向の解像度を上げることができる
新規なＸ線装置を提供することを目的とする。
線走査方向の検出器開口幅やコリメータ幅、延いてはＸ
線ビーム幅を狭めることなく、従って上記問題点が生じ
ることなくＸ線走査方向の解像度を上げることができる
新規なＸ線装置を提供することを目的とする。
以下第３図ないし第１０図を参照して本発明の詳細な説
明する。第３図は本発明における被検体の投射データの
サンプリング方法を説明するための図で、図中ｙは被検
体（図示せず）へのＸ＃！走査方向、Ｗはその方向ｙの
検出器開口幅、黒丸は前記被検体の投射データのサンプ
リング点を示す。
明する。第３図は本発明における被検体の投射データの
サンプリング方法を説明するための図で、図中ｙは被検
体（図示せず）へのＸ＃！走査方向、Ｗはその方向ｙの
検出器開口幅、黒丸は前記被検体の投射データのサンプ
リング点を示す。
この第３図から分かるように本発明では被検体へのＸ線
走査方向ｙの検出器開口幅Ｗより小さい間隔で各検出器
について被検体の投射データをサンプリングし、サンプ
リング密度を高める。しかしこれにより得られたデータ
をそのまま従来と同様に演算処理すると、像表示したと
き、その像のＸ線走査方ｒＢＪｙにスムージング効果に
よる−ぼけ〃が生じる。このため本発明では、前述サン
プリング手段により得られた被検体のＸａ走査方向ｙの
サンプリング倣動（以下、実測サンプリング位動という
）に対し、被検体のＸ線走査方向ｙに関する前記検出器
の開口特性の逆関数を用いて演算処理して得られたデー
タ列により、被検体のＸ線走査方向ｙに連続するＸ線吸
収係数の理想二次元分布データ近似の二次元分布データ
を得るようにしたものである。以下これについて詳述す
る。
走査方向ｙの検出器開口幅Ｗより小さい間隔で各検出器
について被検体の投射データをサンプリングし、サンプ
リング密度を高める。しかしこれにより得られたデータ
をそのまま従来と同様に演算処理すると、像表示したと
き、その像のＸ線走査方ｒＢＪｙにスムージング効果に
よる−ぼけ〃が生じる。このため本発明では、前述サン
プリング手段により得られた被検体のＸａ走査方向ｙの
サンプリング倣動（以下、実測サンプリング位動という
）に対し、被検体のＸ線走査方向ｙに関する前記検出器
の開口特性の逆関数を用いて演算処理して得られたデー
タ列により、被検体のＸ線走査方向ｙに連続するＸ線吸
収係数の理想二次元分布データ近似の二次元分布データ
を得るようにしたものである。以下これについて詳述す
る。
いま、検出器開口が例えば第３図に示すように矩形であ
るとする。そして、検出器出力（測定値、換言すれば前
記実測サンプリング位動）をｈ（ｙ） （第４図参照）
、検出器開口特性の関数（以下、検出器開口関数と略称
する）をｐ（ｙ） （第５図参照）および極めて微小な
検出器開口とその開口幅にほぼ等しいサンプリング間隔
で得られる理想サンプリング位動をｆ（ｙ）（第６図参
照）とすると、前記検出器出力ｈ（ｙ）は一般に検出器
開口関数ｐ（ｙ）と理想サンプリング位動ｆ （ｙ）と
のコンボリューションとなる。
るとする。そして、検出器出力（測定値、換言すれば前
記実測サンプリング位動）をｈ（ｙ） （第４図参照）
、検出器開口特性の関数（以下、検出器開口関数と略称
する）をｐ（ｙ） （第５図参照）および極めて微小な
検出器開口とその開口幅にほぼ等しいサンプリング間隔
で得られる理想サンプリング位動をｆ（ｙ）（第６図参
照）とすると、前記検出器出力ｈ（ｙ）は一般に検出器
開口関数ｐ（ｙ）と理想サンプリング位動ｆ （ｙ）と
のコンボリューションとなる。
すなわち、
ｈ−ｐ黄ｆ ・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・（１）で表される◎ ここで、第４図ないし第６図の横軸に付された目盛は被
検体の投射データのサンプリング点を示す。第５図から
分かるように、ここでは、検出器開口幅Ｗのほぼ上の間
隔で投射データのサンプリングが行われ、Ｘ線走査時、
同時に５つの点のサンプリング値の和がその走査位置で
のサンプリング値とされ、それを１つのサンプリング点
毎にずらして得、その値の連続を第４図に示した検出器
出力（実測サンプリング位動） ｈ（ｙ）としたもので
ある０すなわち、ここでは、開口関数ｐ（ｙ）は理想サ
ンプリング位動ｆ（ｙ）に対して５点平均操作のように
作用する。
・・・・・・・・・・・・・（１）で表される◎ ここで、第４図ないし第６図の横軸に付された目盛は被
検体の投射データのサンプリング点を示す。第５図から
分かるように、ここでは、検出器開口幅Ｗのほぼ上の間
隔で投射データのサンプリングが行われ、Ｘ線走査時、
同時に５つの点のサンプリング値の和がその走査位置で
のサンプリング値とされ、それを１つのサンプリング点
毎にずらして得、その値の連続を第４図に示した検出器
出力（実測サンプリング位動） ｈ（ｙ）としたもので
ある０すなわち、ここでは、開口関数ｐ（ｙ）は理想サ
ンプリング位動ｆ（ｙ）に対して５点平均操作のように
作用する。
さて、上記（１）式からは、デコンボリューション処理
によって逆にｆを再生することができる〇すなわち、 ｆ −ｐ’斧ｈ ・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・（２）でｆが与え
られる。この場合、ｐ′はｐ’＋ ｐ＋１となる特性関
数（検出器開口関数ｐの逆関数）であるＯ このようにｆは上記（２）式で与えられるが、実際の回
路構成上は、フーリエ変換および逆フーリエ変換を用い
た方が容易に得られるもので、以下、これについて説明
する。
によって逆にｆを再生することができる〇すなわち、 ｆ −ｐ’斧ｈ ・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・（２）でｆが与え
られる。この場合、ｐ′はｐ’＋ ｐ＋１となる特性関
数（検出器開口関数ｐの逆関数）であるＯ このようにｆは上記（２）式で与えられるが、実際の回
路構成上は、フーリエ変換および逆フーリエ変換を用い
た方が容易に得られるもので、以下、これについて説明
する。
まず、上記（１）式のフーリエ変換をとると、Ｈ−Ｐ
−Ｆ ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・（３）となる０この（３）
式から理想サンプル値列Ｆは、ｌ Ｆ−一・ Ｈ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・ｆ４）で与えられる。この（４
）式をフーリエ逆変換すると、 −１ ｆ−（１） ＋ｈ ・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・（５）となり、ｆが得られるこ
とになる。
−Ｆ ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・（３）となる０この（３）
式から理想サンプル値列Ｆは、ｌ Ｆ−一・ Ｈ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・ｆ４）で与えられる。この（４
）式をフーリエ逆変換すると、 −１ ｆ−（１） ＋ｈ ・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・（５）となり、ｆが得られるこ
とになる。
ここで、前記開口関数ｐ （ｙ）は第７図に示され、従
って上記（４）式中の１（開口関数ｐ（ｙ）の逆関数）
は第８図中の曲線イに示すようになる。しかし実際の測
定（サンプリング）では、高い周波数領域す るので、曲線口で示す百の近似値を用いて上記（４）式
が計算され、それを（５）式で表すようにフーリエ逆変
換し、ｆを得る。これにより得られた各データ列により
、被検体のＸＩｊ走査方向に連続するＸ線吸収係数の理
想二次元分布データ（理想サンプリング位動ｆ （ｙ）
による二次元分布データ）に近似の二次元分布データを
得るものである。
って上記（４）式中の１（開口関数ｐ（ｙ）の逆関数）
は第８図中の曲線イに示すようになる。しかし実際の測
定（サンプリング）では、高い周波数領域す るので、曲線口で示す百の近似値を用いて上記（４）式
が計算され、それを（５）式で表すようにフーリエ逆変
換し、ｆを得る。これにより得られた各データ列により
、被検体のＸＩｊ走査方向に連続するＸ線吸収係数の理
想二次元分布データ（理想サンプリング位動ｆ （ｙ）
による二次元分布データ）に近似の二次元分布データを
得るものである。
第９図は上述したようなフーリエ変換およびフーリエ逆
変換を用いて演算処理する本発明によるＸ線装置が適用
されたＸ＠ＣＴ装置利用のスキャノグラフィの一例を示
すブロック図で、図中１１は被検体、１２はＬΦ変換器
、１３は第１データメモリ、１４は演算処理装置、１５
はフーリエ変換回路、１６は乗算回路、１７はフーリエ
逆変換回路、１８はパラメータメモリ、１９は第２デー
タメモリ、加はＣＲＴディスプレイである。その他、第
１図と同一符号は同一または相当部分を示す。
変換を用いて演算処理する本発明によるＸ線装置が適用
されたＸ＠ＣＴ装置利用のスキャノグラフィの一例を示
すブロック図で、図中１１は被検体、１２はＬΦ変換器
、１３は第１データメモリ、１４は演算処理装置、１５
はフーリエ変換回路、１６は乗算回路、１７はフーリエ
逆変換回路、１８はパラメータメモリ、１９は第２デー
タメモリ、加はＣＲＴディスプレイである。その他、第
１図と同一符号は同一または相当部分を示す。
この場合、前記第１．第２データメモリは各々第１Ｏ図
に示すように、被検体１１の移動方向、すなわちＸ線走
査方向ｙについてＭ列、検出器列ｌの各検出器並設方向
ＸにＮ行のデータ記憶配列をもつＯ いま、被検体１１をｙ方向に移動させながら、その被検
体１１にＸ線源２からのＸ線ビーム３を照射したとする
と、検出器列ｌからの信号はＡ／Ｄ変換器によりディジ
タル信号に変換されて第１データメモリ１３に第１０図
に示す配列で記憶される。被検体１１の全走査終了後、
演算処理袋［１４は、第１データメモリ１３に記憶され
ているデータをｙ方向に１行読み出し、フーリエ変換回
路１５でフーリエ変換を行わせ、次に乗算回路１６でフ
ーリエ変換後のデータとパラメータメモリ１８内の開ロ
補正パラメ曲線口で示す上の近似値）との積を計算させ
、それをフーリエ逆変換回路１７でフーリエ逆変換を行
わせて第２データメモリー９の該当行（ｙ方向）に記憶
させる。引き続き同様の動作が検出器数（第１０図の例
ではＮ回）だけ行い、第２データメモリ１９においてＭ
列、Ｎ行のデータを記憶させる。このように全データが
第２データメモリー９に記憶されると、ＣＲＴディスプ
レイ加を動作させることにより、被検体１１のＸ線走査
方向ｙに連続するＸ１ｉｌ吸収係数の理想二次元分布デ
ータ（前記理想サンプリング位動ｆ （ｙ）による二次
元分布データ）に近似の二次元分布データが表示される
ものである。 ゛なお、フーリエ逆変換はフーリエ変
換回路１５を用いてもできるので、フーリエ変換回路１
５とフーリエ逆変換回路１７は同一の回路を用いること
かできる。
に示すように、被検体１１の移動方向、すなわちＸ線走
査方向ｙについてＭ列、検出器列ｌの各検出器並設方向
ＸにＮ行のデータ記憶配列をもつＯ いま、被検体１１をｙ方向に移動させながら、その被検
体１１にＸ線源２からのＸ線ビーム３を照射したとする
と、検出器列ｌからの信号はＡ／Ｄ変換器によりディジ
タル信号に変換されて第１データメモリ１３に第１０図
に示す配列で記憶される。被検体１１の全走査終了後、
演算処理袋［１４は、第１データメモリ１３に記憶され
ているデータをｙ方向に１行読み出し、フーリエ変換回
路１５でフーリエ変換を行わせ、次に乗算回路１６でフ
ーリエ変換後のデータとパラメータメモリ１８内の開ロ
補正パラメ曲線口で示す上の近似値）との積を計算させ
、それをフーリエ逆変換回路１７でフーリエ逆変換を行
わせて第２データメモリー９の該当行（ｙ方向）に記憶
させる。引き続き同様の動作が検出器数（第１０図の例
ではＮ回）だけ行い、第２データメモリ１９においてＭ
列、Ｎ行のデータを記憶させる。このように全データが
第２データメモリー９に記憶されると、ＣＲＴディスプ
レイ加を動作させることにより、被検体１１のＸ線走査
方向ｙに連続するＸ１ｉｌ吸収係数の理想二次元分布デ
ータ（前記理想サンプリング位動ｆ （ｙ）による二次
元分布データ）に近似の二次元分布データが表示される
ものである。 ゛なお、フーリエ逆変換はフーリエ変
換回路１５を用いてもできるので、フーリエ変換回路１
５とフーリエ逆変換回路１７は同一の回路を用いること
かできる。
以上述べたように本発明は、被検体へのＸ線走査方向の
検出器開口幅よシ小さい間隔で各検出器について被検体
の投射データをサンプリングし、このサンプリングによ
シ得られた被検体のＸ線走査方向のサンプリング位動に
対し、被検体のＸ線走査方向に関する前記検出器の開口
特性の逆関数を用いて演算処理して得られたデータ列に
より二次元分布データを得るようにしたので、Ｘ線走査
方向の検出器開口幅やコリメータ幅、延いてはＸ線ビー
ム幅を狭めることなく、従ってＸ線利用率の低下や被曝
線量の増大等が生じることなくＸ線走査方向の解像度を
上げることができるという効果がある。
検出器開口幅よシ小さい間隔で各検出器について被検体
の投射データをサンプリングし、このサンプリングによ
シ得られた被検体のＸ線走査方向のサンプリング位動に
対し、被検体のＸ線走査方向に関する前記検出器の開口
特性の逆関数を用いて演算処理して得られたデータ列に
より二次元分布データを得るようにしたので、Ｘ線走査
方向の検出器開口幅やコリメータ幅、延いてはＸ線ビー
ム幅を狭めることなく、従ってＸ線利用率の低下や被曝
線量の増大等が生じることなくＸ線走査方向の解像度を
上げることができるという効果がある。
第１図は従来装置の概略を示す図、第２図は従来装置で
の投射データのサンプリングについて説明するための図
、第３図は本発明装置での投射データのサンプリングの
一例を説明するための図、第４図ないし第８図は本発明
装置の原理を説明するための図、第９図は本発明による
Ｘ線装置が適用されたスキャノグラフィの一例を示すブ
ロック図、第１０図は第９図中の第１．第２データメモ
リのデータ記憶配列を示す図である。 ｌ・・・検出器列、２・・・Ｘ線源、３・・・Ｘａビー
ム、１１・・・被検体、１３ 、１９・・・データメモ
ｌＪ、１４・・・演算処理装置、１５・・・フーリエ変
換回路、１６・・・乗算ｉ路、１７・・・フーリエ逆変
換回路、１８・・・パラメータメモリ。 特許出願人 株式会社日立メデイコ 代理人 弁理士 秋 本 正 実第２図 第３図
の投射データのサンプリングについて説明するための図
、第３図は本発明装置での投射データのサンプリングの
一例を説明するための図、第４図ないし第８図は本発明
装置の原理を説明するための図、第９図は本発明による
Ｘ線装置が適用されたスキャノグラフィの一例を示すブ
ロック図、第１０図は第９図中の第１．第２データメモ
リのデータ記憶配列を示す図である。 ｌ・・・検出器列、２・・・Ｘ線源、３・・・Ｘａビー
ム、１１・・・被検体、１３ 、１９・・・データメモ
ｌＪ、１４・・・演算処理装置、１５・・・フーリエ変
換回路、１６・・・乗算ｉ路、１７・・・フーリエ逆変
換回路、１８・・・パラメータメモリ。 特許出願人 株式会社日立メデイコ 代理人 弁理士 秋 本 正 実第２図 第３図
Claims (1)
- Ｘ線源および検出器列間に被検体を位置させ、前記検出
器列に直交する方向に被検体へのＸ線走査を行ってその
走査方向に連続するＸ線吸収係数の二次元分布データを
得るＸ線装置において、被検体へのＸ線走査方向の検出
器開口幅より小さい間隔で各検出器について被検体の投
射データをサンプリングするサンプリング手段と、この
サンプリング手段によシ得られた被検体のＸ？ａ走査方
向のサンプリング倣動に対し、被検体のＸ線走査方向に
関する前記検出器の開口特性の逆関数を用いて演算処理
して得られた各データ列により、被検体のＸ線走査方向
に連続するＸ線吸収係数の理想二次元分布データに近似
の二次元分布データを得る演算手段とを具備することを
特徴とするＸ線装置０
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57173921A JPS5964028A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | Ｘ線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57173921A JPS5964028A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | Ｘ線装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5964028A true JPS5964028A (ja) | 1984-04-11 |
Family
ID=15969539
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57173921A Pending JPS5964028A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | Ｘ線装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5964028A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60250486A (ja) * | 1984-05-25 | 1985-12-11 | Hitachi Ltd | 画像処理方式 |
| JP2009080030A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Ishida Co Ltd | Ｘ線検査装置 |
| JP2010210409A (ja) * | 2009-03-10 | 2010-09-24 | Anritsu Sanki System Co Ltd | Ｘ線異物検出装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS3622682Y1 (ja) * | 1959-12-10 | 1961-08-30 |
-
1982
- 1982-10-05 JP JP57173921A patent/JPS5964028A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS3622682Y1 (ja) * | 1959-12-10 | 1961-08-30 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60250486A (ja) * | 1984-05-25 | 1985-12-11 | Hitachi Ltd | 画像処理方式 |
| JP2009080030A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Ishida Co Ltd | Ｘ線検査装置 |
| JP2010210409A (ja) * | 2009-03-10 | 2010-09-24 | Anritsu Sanki System Co Ltd | Ｘ線異物検出装置 |
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