JPS5953205B2 - 高純度の二酸化塩素を製造する方法 - Google Patents
高純度の二酸化塩素を製造する方法Info
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- JPS5953205B2 JPS5953205B2 JP56075553A JP7555381A JPS5953205B2 JP S5953205 B2 JPS5953205 B2 JP S5953205B2 JP 56075553 A JP56075553 A JP 56075553A JP 7555381 A JP7555381 A JP 7555381A JP S5953205 B2 JPS5953205 B2 JP S5953205B2
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- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
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- C01B11/02—Oxides of chlorine
- C01B11/022—Chlorine dioxide (ClO2)
- C01B11/023—Preparation from chlorites or chlorates
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアルカリ金属塩素酸塩を塩素イオンを用いて還
元し、二酸化塩素を製造する方法において、錯体触媒の
存在下で、過酸化水素を添加し、高純度の二酸化塩素を
安全かつ効率よく、連続的に製造する方法に関するもの
である。
元し、二酸化塩素を製造する方法において、錯体触媒の
存在下で、過酸化水素を添加し、高純度の二酸化塩素を
安全かつ効率よく、連続的に製造する方法に関するもの
である。
二酸化塩素は大規模な装置を用いて、大量にパルプの漂
白剤として使用されている。
白剤として使用されている。
また脂肪の脱色、工業廃棄物中よりフェノール分の除去
、排煙脱硝などの環境保全、公害防止の分野にも広く使
用されている。
、排煙脱硝などの環境保全、公害防止の分野にも広く使
用されている。
上水道の殺菌処理に塩素が使用されているが、塩素処理
による発ガン性物質であるトリハロメタンの生成が問題
となっている。
による発ガン性物質であるトリハロメタンの生成が問題
となっている。
塩素の代替えとしてトリハロメタンの生成しない二酸化
塩素が有望視されている。
塩素が有望視されている。
しかしながら二酸化塩素は常温でガス状であり、爆発の
危険性があるために二酸化塩素は使用場所において製造
されている。
危険性があるために二酸化塩素は使用場所において製造
されている。
この理由から二酸化塩素の発生が安全かつ容易に行なわ
れると同時に必要に応じて容易に所望量の制御可能な高
純度の二酸化塩素の製造方法が切望されている。
れると同時に必要に応じて容易に所望量の制御可能な高
純度の二酸化塩素の製造方法が切望されている。
二酸化塩素は塩素酸塩、例えば塩素酸ナトリウムに還元
剤として塩酸を使用させる際には（１）式の化学反応式
により生成する。
剤として塩酸を使用させる際には（１）式の化学反応式
により生成する。
また前記（１）式の反応と共に二酸化塩素の生成しない
下記（２）式の副反応が起る。
下記（２）式の副反応が起る。
ＮａＣｌＯ３＋６ＨＣ１→３Ｃ１□十ＮａＣ１＋３Ｈ２
０・・・・・・（２）従来、副生ずる塩素を最少限にす
るために、（１）式の反応を促進する触媒を添加する方
法が提案されているが、（２）式の副反応が起らないと
しても、発生する二酸化塩素の純度 は６６．７％以上にはならない。
０・・・・・・（２）従来、副生ずる塩素を最少限にす
るために、（１）式の反応を促進する触媒を添加する方
法が提案されているが、（２）式の副反応が起らないと
しても、発生する二酸化塩素の純度 は６６．７％以上にはならない。
また高純度の二酸化塩素を生成する一つの方法は特開昭
５５−１６２４０４に記載されているように塩素酸ナト
リウムを亜硫酸ガスで還元する方法が提案されている。
５５−１６２４０４に記載されているように塩素酸ナト
リウムを亜硫酸ガスで還元する方法が提案されている。
この反応は（３）式により示されるが、反応が遅いＮａ
ＣｌＯ３＋１／２Ｓ０２→ＣｌＯ２＋１／２Ｎａ２ＳＯ
４”””（３）ために９．５〜１１規定の高酸性度が必
要であり、そして塩素酸ナトリウムの二酸化塩素への転
化率が低く、未反応の亜硫酸ガスが二酸化塩素の純度を
低下させる。
ＣｌＯ３＋１／２Ｓ０２→ＣｌＯ２＋１／２Ｎａ２ＳＯ
４”””（３）ために９．５〜１１規定の高酸性度が必
要であり、そして塩素酸ナトリウムの二酸化塩素への転
化率が低く、未反応の亜硫酸ガスが二酸化塩素の純度を
低下させる。
また亜硫酸ガスの気化、など複雑な装置が必要である。
高濃度の排酸が出るなど多くの欠点がある。
本発明の目的は上記欠点をともなわないで、高純度の二
酸化塩素を安全に、容易に、かつ安価に製造する方法を
提供することにある。
酸化塩素を安全に、容易に、かつ安価に製造する方法を
提供することにある。
本発明者らは上記目的を達成するために種々研究を行な
った結果、単一の発生晶出槽を用いてパラジウムを中心
金属とする錯体触媒の存在下で過酸化水素を添加するこ
とにより高純度の二酸化塩素を安全にかつ容易に製造す
る方法を見い出した。
った結果、単一の発生晶出槽を用いてパラジウムを中心
金属とする錯体触媒の存在下で過酸化水素を添加するこ
とにより高純度の二酸化塩素を安全にかつ容易に製造す
る方法を見い出した。
すなわち、本発明は酸性水溶液中でアルカリ金属塩素酸
塩を塩素イオンを用いて還元し、二酸化塩素を製造する
際、単一の発生晶出槽中において、温度２５℃ないし９
０℃、圧力２０ｍｍないし４００ｍｍ水銀柱の条件下で
、パラジウムを中心金属とする錯体触媒の存在下でアル
カリ金属塩素酸塩を塩素イオンにより還元し、該単−の
発生晶出槽中に過酸化水素を添加することを特徴とする
高純度の二酸化塩素の製造法である。
塩を塩素イオンを用いて還元し、二酸化塩素を製造する
際、単一の発生晶出槽中において、温度２５℃ないし９
０℃、圧力２０ｍｍないし４００ｍｍ水銀柱の条件下で
、パラジウムを中心金属とする錯体触媒の存在下でアル
カリ金属塩素酸塩を塩素イオンにより還元し、該単−の
発生晶出槽中に過酸化水素を添加することを特徴とする
高純度の二酸化塩素の製造法である。
更に詳しく説明すると、本発明の方法における酸性水溶
液としては通常硫酸または塩酸を用いる。
液としては通常硫酸または塩酸を用いる。
硫酸を用いた場合の酸濃度は０．５ｍｏｌハから２．５
ｍ０ｌハの範囲にする。
ｍ０ｌハの範囲にする。
また塩酸を用いた場合は０． Ｏ１ｍｏｌハから１．
Ｏｍｏｌハの範囲に、好マシくは０．０５ｍｏｌハから
０．５ｍｏｌハの範囲とする。
Ｏｍｏｌハの範囲に、好マシくは０．０５ｍｏｌハから
０．５ｍｏｌハの範囲とする。
硫酸の場合０．５ｍｏｌハより小さく、また塩酸の場合
０、 Ｏ１ｍｏｌハより小さい濃度では反応が充分な速
度で進行しない。
０、 Ｏ１ｍｏｌハより小さい濃度では反応が充分な速
度で進行しない。
また硫酸の場合２．５ｍｏ１月より大きい濃度ではセス
キ芒硝が単一の発生晶出槽に析出し、酸の損失となる。
キ芒硝が単一の発生晶出槽に析出し、酸の損失となる。
塩酸の場合１． Ｏｍｏｌ／ １より大きい濃度では二
酸化塩素の発生速度が著しく増加し、危険な状態となる
。
酸化塩素の発生速度が著しく増加し、危険な状態となる
。
本発明の方法におけるアルカリ金属塩素酸塩としては通
常塩素酸ナトリウム、塩素酸カリウムなどを用い、その
濃度は０．１ｍｏｌハから５ｍｏｌハの範囲である。
常塩素酸ナトリウム、塩素酸カリウムなどを用い、その
濃度は０．１ｍｏｌハから５ｍｏｌハの範囲である。
Ｏ，１ｍｏｌハより小さい濃度では二酸化塩素の発生速
度が遅くなり、二酸化塩素の純度が低下する。
度が遅くなり、二酸化塩素の純度が低下する。
５ ｍｏｌハより大きい濃度では二酸化塩素発生速度が
増大し、危険な状態となるばかりでなく、アルカリ金属
塩素酸塩が単一の発生晶出槽に析出し、アルカリ金属塩
素酸塩の損失量が多くなる。
増大し、危険な状態となるばかりでなく、アルカリ金属
塩素酸塩が単一の発生晶出槽に析出し、アルカリ金属塩
素酸塩の損失量が多くなる。
本発明の方法におけるパラジウムを中心金属とする錯体
触媒はパラジウム（ＩＩ） とアミノ酸（同一出願人に
よる特公昭５５−４５４８３号）、β−ジケトン誘導体
（同一出願人による特公昭５４−４４２７８号、同５５
−４３４０１号）または塩素イオン（同一出願人による
特公昭５４−４２８３９号）とからなる錯体である。
触媒はパラジウム（ＩＩ） とアミノ酸（同一出願人に
よる特公昭５５−４５４８３号）、β−ジケトン誘導体
（同一出願人による特公昭５４−４４２７８号、同５５
−４３４０１号）または塩素イオン（同一出願人による
特公昭５４−４２８３９号）とからなる錯体である。
該錯体触媒の濃度が０．００００１ｍｏｌハから０、
Ｏ１ｍｏｌハの範囲で用いる。
Ｏ１ｍｏｌハの範囲で用いる。
好ましくは０．００００４ｍｏｌハから０．００１ ｍ
ｏｌハの範囲で用いる。
ｏｌハの範囲で用いる。
０、００００１ｍｏｌハより小さい濃度では触媒無添加
と比較して、触媒効果に顕著な差は認められず、二酸化
塩素の純度が低下する。
と比較して、触媒効果に顕著な差は認められず、二酸化
塩素の純度が低下する。
一方０． Ｏ１ｍｏｌハより大きい濃度で添加しても二
酸化塩素発生の効率は特に上昇せず、不経済である。
酸化塩素発生の効率は特に上昇せず、不経済である。
アミノ酸としてはたとえば次のものがある。
グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン
、セリン、トレオニン、システィン、シスチン、メチオ
ニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、リシン、アルギ
ニン、フェニルアラニン、チロシン、ヒスチジン、トリ
プトファン、プロリン、オキシプロリン、β−アミノプ
ロピオン酸、γ−アミノ酪酸、アントラニル酸またはそ
れらのアルカリ金属塩。
、セリン、トレオニン、システィン、シスチン、メチオ
ニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、リシン、アルギ
ニン、フェニルアラニン、チロシン、ヒスチジン、トリ
プトファン、プロリン、オキシプロリン、β−アミノプ
ロピオン酸、γ−アミノ酪酸、アントラニル酸またはそ
れらのアルカリ金属塩。
β−ジケトン誘導体としては２・４−ペンタンジオン；
１−フェニル−１・３−ブタンジオン；１・３−ジフェ
ニル−１・３−ブタンジオン；１・３−ジフェニル−１
・３−プロパンジオン；１・１・１・５・５・５−ヘキ
サフルオロ−２・４−ペンタンジオン；１−りロロー２
・４−ペンタンジオン；３−メチル−２・４−ペンタン
ジオン；４・６−ウンテ゛カンジオンなどで゛ある。
１−フェニル−１・３−ブタンジオン；１・３−ジフェ
ニル−１・３−ブタンジオン；１・３−ジフェニル−１
・３−プロパンジオン；１・１・１・５・５・５−ヘキ
サフルオロ−２・４−ペンタンジオン；１−りロロー２
・４−ペンタンジオン；３−メチル−２・４−ペンタン
ジオン；４・６−ウンテ゛カンジオンなどで゛ある。
パラジウム（ＩＩ）と塩素イオンとからなる錯体触媒は
タロロバラジネイトであり、その最大吸収波長が４７０
ｎｍ以上にあるものが好ましい。
タロロバラジネイトであり、その最大吸収波長が４７０
ｎｍ以上にあるものが好ましい。
本発明における発生晶出槽中の過酸化水素濃度は０．０
０００５ないし０．１ ｍｏｌハの範囲で用いる。
０００５ないし０．１ ｍｏｌハの範囲で用いる。
０、００００５ｍｏｌハより少ない濃度では二酸化塩素
の純度が向上せず、又０．１ｍｏｌハより高い濃度では
過酸化水素が分解し、酸素を放出するため、発泡し好ま
しくない。
の純度が向上せず、又０．１ｍｏｌハより高い濃度では
過酸化水素が分解し、酸素を放出するため、発泡し好ま
しくない。
過酸化水素は、一般にパラジウムなどの金属が存在する
と、これらの金属が触媒となり、２Ｈ２０２＝２Ｈ２０
＋０□＋４６．２ｋＣａ１ノ如き激シイ分解カ起ルこと
が知られている（化学大辞典、２、昭和３５年６月３０
日発行、３６４頁）。
と、これらの金属が触媒となり、２Ｈ２０２＝２Ｈ２０
＋０□＋４６．２ｋＣａ１ノ如き激シイ分解カ起ルこと
が知られている（化学大辞典、２、昭和３５年６月３０
日発行、３６４頁）。
それ故、このようなパラジウム触媒の存在下で過酸化水
素が有効に作用させうろことは、従来の化学常識からは
全く予測できないことである。
素が有効に作用させうろことは、従来の化学常識からは
全く予測できないことである。
本発明の方法の一つの実施態様を添付図面に従って説明
すると、単一の発生晶出槽１０内にアルカリ金属塩素酸
塩水溶液をライン１２を通して、また塩酸または硫酸を
ライン１１を通して、それぞれ連続的に仕込む。
すると、単一の発生晶出槽１０内にアルカリ金属塩素酸
塩水溶液をライン１２を通して、また塩酸または硫酸を
ライン１１を通して、それぞれ連続的に仕込む。
パラジウムを中心金属とする錯体触媒は固体として反応
系外に取り出されるアルカリ金属塩化物または硫酸塩に
付着して、その微量が系外に取り出されるので、これに
見合う補足量をライン１１．ライン１２または別に用意
した流路より単一の発生晶出槽１０に連続的に仕込む。
系外に取り出されるアルカリ金属塩化物または硫酸塩に
付着して、その微量が系外に取り出されるので、これに
見合う補足量をライン１１．ライン１２または別に用意
した流路より単一の発生晶出槽１０に連続的に仕込む。
また過酸化水素水溶液はライン１３を通して、単一の発
生晶出槽１０に連続的に仕込む。
生晶出槽１０に連続的に仕込む。
単一の発生晶出槽からは二酸化塩素と水蒸気の混合ガス
をガス相で、ライン１６を通して、エゼクタ４０で水に
吸収し、１〜３ｇハの二酸化塩素水を製造し、貯槽５０
に貯える。
をガス相で、ライン１６を通して、エゼクタ４０で水に
吸収し、１〜３ｇハの二酸化塩素水を製造し、貯槽５０
に貯える。
また、単一の発生晶出槽内の圧力、反応液の温度を適宜
調節して、該発生晶出槽中の反応液量を実質上一定に保
つ。
調節して、該発生晶出槽中の反応液量を実質上一定に保
つ。
このために反応溶液からの水分の実質上の除去量は、こ
の反応によって生ずる量をも考慮して、この槽に供給さ
れる量に等しくする。
の反応によって生ずる量をも考慮して、この槽に供給さ
れる量に等しくする。
この量は多少は反応操作の各方面に影響を及ぼす。
例えば、二酸化塩素ガスが稀釈されてガス体が爆発限界
範囲内になることが避けられること、反応液面上より、
発生ガスを吹き払い反応溶液からガスの脱離を助けるこ
と、容易に減圧を発生させることなどがあげられる。
範囲内になることが避けられること、反応液面上より、
発生ガスを吹き払い反応溶液からガスの脱離を助けるこ
と、容易に減圧を発生させることなどがあげられる。
反応溶液からの水分の除去による熱の損失は反応溶液を
加熱装置３０ （例えば水蒸気をライン３１より通し、
ライン３２より排出する）を経て、循還することにより
補給される。
加熱装置３０ （例えば水蒸気をライン３１より通し、
ライン３２より排出する）を経て、循還することにより
補給される。
本発明の方法において、この水分の除去はエゼクタ４０
により単一の発生晶出槽１０内を減圧として行なう。
により単一の発生晶出槽１０内を減圧として行なう。
反応温度は反応系の圧力および液組成によって定まる。
本発明の方法における単一の発生晶出槽内の圧力は大気
圧より低い圧力で行ない、好ましくは２０ｍｍないし４
００ｍｍ水銀柱、温度は２５℃ないし９０℃の範囲とす
る。
圧より低い圧力で行ない、好ましくは２０ｍｍないし４
００ｍｍ水銀柱、温度は２５℃ないし９０℃の範囲とす
る。
圧力が４００ｍｍ水銀柱より高くなると、反応液の温度
は９０℃より高くなり、二酸化塩素が分解する危険があ
る。
は９０℃より高くなり、二酸化塩素が分解する危険があ
る。
圧力が２０ｍｍ水銀柱より低くなると温度が２５℃より
低くなり、二酸化塩素の発生速度が遅くなって工業上不
利となる。
低くなり、二酸化塩素の発生速度が遅くなって工業上不
利となる。
好ましくは、圧力８０ｍｍないし２００ｍｍ水銀柱で行
なう。
なう。
単一の発生晶出槽１０内で生成するアルカリ金属塩化物
又はアルカリ金属硫酸塩は該発生晶出槽内で晶出し、ラ
イン１５を通して抜き取られ、結晶分離器２０において
分離され、ライン２２を通して系外に排出する。
又はアルカリ金属硫酸塩は該発生晶出槽内で晶出し、ラ
イン１５を通して抜き取られ、結晶分離器２０において
分離され、ライン２２を通して系外に排出する。
また母液はライン２１を通して単一の発生晶出槽１０に
もどす。
もどす。
従来、排酸の出ない、簡単な高純度の二酸化塩素の製造
方法は知られていなかったが、本発明の方法の如く、単
一の発生晶出槽中で圧力２０ｍｍないし４００ｍｍ水銀
柱の条件下で、パラジウムを中心金属とする錯体触媒の
存在下でアルカリ金属塩素酸塩を塩素イオンにより還元
し、該単−の発生晶出槽中に過酸化水素を添加すること
により、排酸の出ない簡単な高純度の二酸化塩素の製造
法を確立することができた。
方法は知られていなかったが、本発明の方法の如く、単
一の発生晶出槽中で圧力２０ｍｍないし４００ｍｍ水銀
柱の条件下で、パラジウムを中心金属とする錯体触媒の
存在下でアルカリ金属塩素酸塩を塩素イオンにより還元
し、該単−の発生晶出槽中に過酸化水素を添加すること
により、排酸の出ない簡単な高純度の二酸化塩素の製造
法を確立することができた。
パラジウムを中心金属とする錯体触媒を使用することに
より、アルカリ金属塩素酸塩および酸の原単位が向上す
るばかりではなく過酸化水素の原単位も向上した。
より、アルカリ金属塩素酸塩および酸の原単位が向上す
るばかりではなく過酸化水素の原単位も向上した。
更に二酸化塩素の発生速度が速くなり、二酸化塩素を単
位量製造するための単一の発生晶出槽の容量を著しく小
さくでき、反応液中の酸の濃度を低くすることが可能と
なるため、二酸化塩素の発生の開始または停止を短時間
に行なうことができる。
位量製造するための単一の発生晶出槽の容量を著しく小
さくでき、反応液中の酸の濃度を低くすることが可能と
なるため、二酸化塩素の発生の開始または停止を短時間
に行なうことができる。
また反応温度を低くすることが可能となるため二酸化塩
素の異常発生および爆発を抑えることができ、安全かつ
安定な操業が可能となる。
素の異常発生および爆発を抑えることができ、安全かつ
安定な操業が可能となる。
更に二酸化塩素の発生を減圧で行なうことは装置が故障
した場合、有毒な二酸化塩素の大気への漏出を防止する
ことができるため有利となる。
した場合、有毒な二酸化塩素の大気への漏出を防止する
ことができるため有利となる。
次に実施例によって、本発明の詳細な説明する。
実施例 １〜４
円筒型のガラス製２．５１の単一の発生晶出槽に塩素酸
ナトリウムｌ、 Ｑｍｏｌ／ ｌ塩化ナトリウム４．５
ｍ０１ハ及びクロロバラシネイトＯ，ＯＯ０４７ｍｏｌ
ハを含。
ナトリウムｌ、 Ｑｍｏｌ／ ｌ塩化ナトリウム４．５
ｍ０１ハ及びクロロバラシネイトＯ，ＯＯ０４７ｍｏｌ
ハを含。
む水溶液１．６１を満し、圧力１９Ｏｎ＋ｍ水銀柱、温
度７０℃の条件下で二酸化塩素の発生および水分の蒸発
を連続的に行った。
度７０℃の条件下で二酸化塩素の発生および水分の蒸発
を連続的に行った。
ついで１２ｍｏｌハの塩酸、７００ｇハの塩素酸す）
＋７ウム水溶液および３５ｗｔ％過酸化水素水溶液を連
続的に添加し、反応液量及び組成を一定に保った。
＋７ウム水溶液および３５ｗｔ％過酸化水素水溶液を連
続的に添加し、反応液量及び組成を一定に保った。
３０分毎にガス相および反応液をサンプリングし、ガス
組成および反応液組成を分析した。
組成および反応液組成を分析した。
この結果より、次に定義したガス純度、塩素酸すｌ−’
Ｊウム原単位、過酸化水素原単位を計算した。
Ｊウム原単位、過酸化水素原単位を計算した。
結果を第１表に示した。
比較例 １
クロロバラシネイトおよび過酸化水素を添加しない以外
は実施例２に準じた。
は実施例２に準じた。
結果を第１表に示した。
比較例 ２
クロロバラシネイトを添加しない以外は実施例１に準じ
た。
た。
結果を第１表に示した。比較例１と２を比較すると過酸
化水素を添加するとガス純度は向上するが、ガス純度が
８０％を越えず、過酸化水素原単位および塩素酸ナトリ
ウム原単位が高い。
化水素を添加するとガス純度は向上するが、ガス純度が
８０％を越えず、過酸化水素原単位および塩素酸ナトリ
ウム原単位が高い。
実施例１〜４の如く、クロロパラシネイト触媒を添加す
ることにより、過酸化水素の供給量を減らし、その原単
位を低下させても、ガス純度は著しく向上し、更に塩素
酸ナトリウム原単位を低下させることができる。
ることにより、過酸化水素の供給量を減らし、その原単
位を低下させても、ガス純度は著しく向上し、更に塩素
酸ナトリウム原単位を低下させることができる。
実施例 ５〜７−１−
触媒をクロロバラシネイトからパラジウム（ＩＩ）とグ
リシンとからなる錯体に変え、反応液組成を変え、圧力
を１０５ｍｍ水銀柱、温度を５６℃にした以外は実施例
１〜４に準じた。
リシンとからなる錯体に変え、反応液組成を変え、圧力
を１０５ｍｍ水銀柱、温度を５６℃にした以外は実施例
１〜４に準じた。
結果を第２表に示した。
反応圧力を低下し、反応液中の塩素酸ナトリウムの濃度
を高くすることによりガス純度は高くなり、塩素酸ナト
リウムの原単位は低下する。
を高くすることによりガス純度は高くなり、塩素酸ナト
リウムの原単位は低下する。
実施例 ８
円筒型のガラス製２．５１の単一の発生晶出槽に塩素酸
ナトリウムｌ、Ｑｍｏ１月塩化ナトリウム１．０ｍ０ｌ
ハおよびパラジウム（ＩＩ）と２・４−ペンタンジオン
とからなる錯体触媒０．００００４５ｍｏｌハを含む水
溶液１．６１を満し、圧力１９０ｍｍ水銀柱、温度７０
℃の条件下で二酸化塩素の発生および水分の蒸”発を連
続的に行なった。
ナトリウムｌ、Ｑｍｏ１月塩化ナトリウム１．０ｍ０ｌ
ハおよびパラジウム（ＩＩ）と２・４−ペンタンジオン
とからなる錯体触媒０．００００４５ｍｏｌハを含む水
溶液１．６１を満し、圧力１９０ｍｍ水銀柱、温度７０
℃の条件下で二酸化塩素の発生および水分の蒸”発を連
続的に行なった。
ついで９８％硫酸、７００ｇ／ｌの塩素酸ナトリウム水
溶液、３００ｇ月の塩化ナトリウムおよび３５ｗｔ％過
酸化水素溶液を連続的に添加し、反応液量および組成を
一定に保った。
溶液、３００ｇ月の塩化ナトリウムおよび３５ｗｔ％過
酸化水素溶液を連続的に添加し、反応液量および組成を
一定に保った。
以下は実施例１〜４に準じた。結果を第３表に示した。
実施例 ９〜１１
反応組成を変えた以外は実施例８に準じた。
結果を第３表に示した。
酸として硫酸を用いた場合でも、塩酸を用いた場合と同
様に高純度の二酸化塩素が得られる。
様に高純度の二酸化塩素が得られる。
添付図面は本発明の一実施態様の工程図である。
１０・・・・・・単一の発生晶出槽、１１・・・・・・
塩酸又は硫酸供給ライン、１２・・・・・・アルカリ金
属塩素酸塩水溶液供給ライン、１３・・・・・・過酸化
水素水溶液供給ライン、２０・・・・・・結晶分離器、
３０・・・・・・加熱装置、４０・・・・・・エゼエク
ター、５０・・・・・・貯槽。
塩酸又は硫酸供給ライン、１２・・・・・・アルカリ金
属塩素酸塩水溶液供給ライン、１３・・・・・・過酸化
水素水溶液供給ライン、２０・・・・・・結晶分離器、
３０・・・・・・加熱装置、４０・・・・・・エゼエク
ター、５０・・・・・・貯槽。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 酸性水溶液中でアルカリ金属塩素酸塩を塩素イオン
を用いて還元し、二酸化塩素を製造する際、単一の発生
晶出槽中において、温度２５℃ないし９０℃、圧力２０
ｍｍないし４００ｍｍ水銀柱の条件下で、パラジウム
を中心金属とする錯体触媒の存在下でアルカリ金属塩素
酸塩を塩素イオンにより還元し、該単−の発生晶出槽中
に過酸化水素を添加することを特徴とする高純度の二酸
化塩素の製造方法。 ２ 酸性溶液の酸濃度が硫酸の０．５ｍｏｌハないし２
、５ｍｏｌハの範囲にある特許請求の範囲第１項記載の
製造方法。 ３ 酸性溶液の酸濃度が塩酸の０． Ｏ１ｍｏｌハない
し１． Ｏｍｏｌハの範囲にある特許請求の範囲第１項
記載の製造方法。 ４ アルカリ金属塩素酸塩の濃度が０，１ｍｏｌハない
し５ｍ０１ハの範囲にある特許請求の範囲第１項記載の
製造方法。 ５ パラジウムを中心金属とする錯体触媒がパラジウム
（ＩＩ） とアミノ酸、β−ジケトン誘導体または塩
素イオンからなる特許請求の範囲第１項記載の製造方法
。 ６ アミノ酸がグリシン、ロイシン、システィン、アス
パラギン酸、グルタミン酸、アルギニンである特許請求
の範囲第５項記載の製造方法。 ７ β−ジケトン誘導体が２・４−ペンタンジオン；１
−フェニル−１・３−ブタンジオン；１・３−ジフェニ
ル−１・３−プロパンジオン；１・１・１・５・５・５
−へキサフルオロ−２・４−ペンタンジオン；１−クロ
ロ−２・４−ペンタンジオン；３−メチル−２・４−ペ
ンタンジオン；４・６−ウンデ勿ンジオンである特許請
求の範囲第５項記載の製造方法。 ８ パラジウムを中心金属とする錯体触媒の濃度が０．
００００１ｍｏｌハからＯ，Ｏ１ｍｏｌハの範囲である
特許請求の範囲第１項記載の製造方法。 ９ 発生晶出槽中の過酸化水素の濃度が０．００００５
ないし０．１ｍｏｌハである特許請求の範囲第１項記載
の製造方法。
Priority Applications (3)
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| JP56075553A JPS5953205B2 (ja) | 1981-05-19 | 1981-05-19 | 高純度の二酸化塩素を製造する方法 |
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| JP56075553A JPS5953205B2 (ja) | 1981-05-19 | 1981-05-19 | 高純度の二酸化塩素を製造する方法 |
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Family
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Family Applications (1)
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| JP56075553A Expired JPS5953205B2 (ja) | 1981-05-19 | 1981-05-19 | 高純度の二酸化塩素を製造する方法 |
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