JPS5952956B2 - 真空蒸着用ヒ−タ− - Google Patents
真空蒸着用ヒ−タ−Info
- Publication number
- JPS5952956B2 JPS5952956B2 JP55022979A JP2297980A JPS5952956B2 JP S5952956 B2 JPS5952956 B2 JP S5952956B2 JP 55022979 A JP55022979 A JP 55022979A JP 2297980 A JP2297980 A JP 2297980A JP S5952956 B2 JPS5952956 B2 JP S5952956B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating layer
- heater
- vacuum evaporation
- wire
- silver
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、真空蒸着用ヒーター、特に導電性セ。
ラミツクス材料からなる真空蒸着用ヒーターの溶融した
金又は銀と接触する面に特定の材料からなる二層の被覆
層を強固に形成させた金又は銀を真空蒸着させる真空蒸
着用ヒーターに関する。従来、真空蒸着用ヒーターは導
電性セラミックｊス、例えば窒化硼素（ＢＮ）、二層化
チタン（ＴｉＢ０）を主成分とし、これに少量の窒化ア
ルミニウム（ＡＩＮ）等を含有させたセラミック粉末を
ホットプレス成型した容器又は成形体や、黒鉛等の炭素
質材料からなる容器又は成型体などが知られている。し
かし、これらの真空蒸着用ヒーターを金又は銀の真空蒸
着に使用する場合、真空蒸着用ヒーターの表面において
溶融した金又は銀との濡れが悪く、その表面への拡がり
が十分でなく玉状となつて蒸発速度が小さく実用的では
なかつた。
金又は銀と接触する面に特定の材料からなる二層の被覆
層を強固に形成させた金又は銀を真空蒸着させる真空蒸
着用ヒーターに関する。従来、真空蒸着用ヒーターは導
電性セラミックｊス、例えば窒化硼素（ＢＮ）、二層化
チタン（ＴｉＢ０）を主成分とし、これに少量の窒化ア
ルミニウム（ＡＩＮ）等を含有させたセラミック粉末を
ホットプレス成型した容器又は成形体や、黒鉛等の炭素
質材料からなる容器又は成型体などが知られている。し
かし、これらの真空蒸着用ヒーターを金又は銀の真空蒸
着に使用する場合、真空蒸着用ヒーターの表面において
溶融した金又は銀との濡れが悪く、その表面への拡がり
が十分でなく玉状となつて蒸発速度が小さく実用的では
なかつた。
そのため、真空蒸着用ヒーターの表面に溶融した金又は
銀と濡れの良い特定の材料からなる被覆層を形成するこ
とが提案されている。
銀と濡れの良い特定の材料からなる被覆層を形成するこ
とが提案されている。
例えば、真空蒸着用ヒーターの溶融した金又は銀と接す
る表面にモリブデン（Ｍｏ）粉末の水性分散体を塗布し
、これを１５００℃程度の高温で焼付する方法、または
Ｍｏを溶射する方法などがある。前者はセラミックスと
Ｍｏとの接着強度が小さく短時間で層剥離し、後者はＭ
ｏ層は溶射と同時にエッチングされるためＭｏの被覆層
を得ることが困難である。また、Ｍｏ、タングステン（
Ｗ）、タンタル（Ｔａ）等の高融点金属を線爆溶射して
強固な被覆層を真空蒸着用ヒーターの表面に形成させ、
金又は銀を効率より真空蒸着させる方法があるが、これ
ら被覆層を形成させるＭｏ、Ｗ、Ｔａは真空蒸着用ヒー
ターの基体材料であるＢＮ、ＴｉＢ。
る表面にモリブデン（Ｍｏ）粉末の水性分散体を塗布し
、これを１５００℃程度の高温で焼付する方法、または
Ｍｏを溶射する方法などがある。前者はセラミックスと
Ｍｏとの接着強度が小さく短時間で層剥離し、後者はＭ
ｏ層は溶射と同時にエッチングされるためＭｏの被覆層
を得ることが困難である。また、Ｍｏ、タングステン（
Ｗ）、タンタル（Ｔａ）等の高融点金属を線爆溶射して
強固な被覆層を真空蒸着用ヒーターの表面に形成させ、
金又は銀を効率より真空蒸着させる方法があるが、これ
ら被覆層を形成させるＭｏ、Ｗ、Ｔａは真空蒸着用ヒー
ターの基体材料であるＢＮ、ＴｉＢ。
などを主成分とする導電性セラミックスと反応し、これ
らの炭化物、硼化物、窒化物等を形成し、次第に被覆層
を形成させた効果がなくなる。本発明は、これらの欠点
を解決することを目的としたもので、真空蒸着用ヒータ
ーの表面と高融点金属からなる被覆層との間に、金属炭
化物からなる被覆層を形成させ溶融した金又は銀との濡
れを良好とし、高融点金属からなる被覆層と基体材料と
の反応を防止して、長寿命な真空蒸着用ヒーターを提供
しようとするものである。
らの炭化物、硼化物、窒化物等を形成し、次第に被覆層
を形成させた効果がなくなる。本発明は、これらの欠点
を解決することを目的としたもので、真空蒸着用ヒータ
ーの表面と高融点金属からなる被覆層との間に、金属炭
化物からなる被覆層を形成させ溶融した金又は銀との濡
れを良好とし、高融点金属からなる被覆層と基体材料と
の反応を防止して、長寿命な真空蒸着用ヒーターを提供
しようとするものである。
すなわち、本発明は導電性セラミックス製の真空蒸着用
ヒーターの、小なくとも溶融した金又は銀に接する表面
にチタンカーバイド（ＴｉＣ）、タングステンカーバイ
ド（ＷＣ）、モリブデンカーバイド（ＭＯＣ）から選ば
れた１種以上の被覆層（以下第１被覆層という）と、更
に前記被覆層の表面にＷ，ＭＯ，Ｔａから選ばれた１種
以上の被覆層（以下第２被覆層という）をそれぞれ線爆
溶射して形成させたことを特徴とする。
ヒーターの、小なくとも溶融した金又は銀に接する表面
にチタンカーバイド（ＴｉＣ）、タングステンカーバイ
ド（ＷＣ）、モリブデンカーバイド（ＭＯＣ）から選ば
れた１種以上の被覆層（以下第１被覆層という）と、更
に前記被覆層の表面にＷ，ＭＯ，Ｔａから選ばれた１種
以上の被覆層（以下第２被覆層という）をそれぞれ線爆
溶射して形成させたことを特徴とする。
以下、本発明の内容を詳細に説明する。
本発明において基体であるボートやルツボなど，の真空
蒸着用ヒーターの材質は、金属炭化物を線爆溶射したと
きに十分なる接着強度を有する層を形成せしめるもので
、かつ導電性を有するものであれば何らその成分あるい
はその成形方法について制限されるものではないが、通
常はＢＮとＴｉＢ２，を主成分とした導電性セラミツク
、又は黒鉛等の炭素質材料などを用いる。
蒸着用ヒーターの材質は、金属炭化物を線爆溶射したと
きに十分なる接着強度を有する層を形成せしめるもので
、かつ導電性を有するものであれば何らその成分あるい
はその成形方法について制限されるものではないが、通
常はＢＮとＴｉＢ２，を主成分とした導電性セラミツク
、又は黒鉛等の炭素質材料などを用いる。
この真空蒸着用ヒーターの表面に直接第１被覆層を形成
させるには、通常線爆溶射材であるＴｉＣ，ＷＣ，ＭＯ
Ｃからなる直径１ｍｍ以下の線材を用い、その溶射に際
しては、５市販の線爆溶射装置を使用する。溶射条件は
真空蒸着用ヒーターの材質および線爆溶射材によつて異
なるが通常、充電容量は１００μＦ以下、充電電圧は１
０ｋＶ以下の範囲で調節する。また溶着される被覆層の
厚さは基体である真空蒸着用ヒーターの表面の面粗さ（
面精度）によつて異なるが、通常加〜ヌψｍ程度であれ
ば十分な接着強度を有する筆二１１Ｈ◆養ことがで９き
る。線爆溶射材であるＴｉＣ，Ｗｑ，ＭＯＣは、それ単
独でのみならずこれらを併用した場合にも単独の場合と
同様容易に被覆層が形成させることができ、第２被覆層
の基体との反応が良好に防止可能である。
させるには、通常線爆溶射材であるＴｉＣ，ＷＣ，ＭＯ
Ｃからなる直径１ｍｍ以下の線材を用い、その溶射に際
しては、５市販の線爆溶射装置を使用する。溶射条件は
真空蒸着用ヒーターの材質および線爆溶射材によつて異
なるが通常、充電容量は１００μＦ以下、充電電圧は１
０ｋＶ以下の範囲で調節する。また溶着される被覆層の
厚さは基体である真空蒸着用ヒーターの表面の面粗さ（
面精度）によつて異なるが、通常加〜ヌψｍ程度であれ
ば十分な接着強度を有する筆二１１Ｈ◆養ことがで９き
る。線爆溶射材であるＴｉＣ，Ｗｑ，ＭＯＣは、それ単
独でのみならずこれらを併用した場合にも単独の場合と
同様容易に被覆層が形成させることができ、第２被覆層
の基体との反応が良好に防止可能である。
次に第２被覆層を形成させるには、直径１ｍｍ以下のＷ
，ＭＯ，Ｔａからなる線爆溶射材を用い、金属炭化物か
らなる被覆層に線爆溶射することにより得られる。
，ＭＯ，Ｔａからなる線爆溶射材を用い、金属炭化物か
らなる被覆層に線爆溶射することにより得られる。
溶射にあたつては、第１被覆層を形成させた場合と同様
に行なえば十分である。またその被覆層の厚みは２０〜
５０μｍ程度であればよい。高融点金属であるＷ，ＭＯ
，Ｔａは単独でのみならす２種以上を併用した場合も同
様に被覆層を形成させることができ、溶融した金又は銀
は良好に第２被覆層上に濡れが拡がる。
に行なえば十分である。またその被覆層の厚みは２０〜
５０μｍ程度であればよい。高融点金属であるＷ，ＭＯ
，Ｔａは単独でのみならす２種以上を併用した場合も同
様に被覆層を形成させることができ、溶融した金又は銀
は良好に第２被覆層上に濡れが拡がる。
以上、説明したように本発明の金又は銀用の真空蒸着用
ヒーターは、その表面に溶融した金又は銀と濡れやすに
高融点金属からなる第２被覆層と真空蒸着用ヒーターの
基体材料との反応を防止かつ接着強度の大きい中間の第
１被覆層を形成したものであり、本発明品を使用するこ
とにより金又は銀の真空蒸着が効率よく、しかも長時間
の使用に耐える利点がある。
ヒーターは、その表面に溶融した金又は銀と濡れやすに
高融点金属からなる第２被覆層と真空蒸着用ヒーターの
基体材料との反応を防止かつ接着強度の大きい中間の第
１被覆層を形成したものであり、本発明品を使用するこ
とにより金又は銀の真空蒸着が効率よく、しかも長時間
の使用に耐える利点がある。
この理由は単なる機械的投錨効果によるのみではなく真
空蒸着用ヒーターの基体材質と線爆溶射材及び線爆溶射
材相互の一部が溶解混合し、溶融拡散することによつて
強固な結合が得られたものであると推定される。以下、
本発明を実施例に従つて説明する。
空蒸着用ヒーターの基体材質と線爆溶射材及び線爆溶射
材相互の一部が溶解混合し、溶融拡散することによつて
強固な結合が得られたものであると推定される。以下、
本発明を実施例に従つて説明する。
実施例 １
成分としてＢＮ２５重量％、ＡｌＮ３Ｏ重量％及びＴｉ
Ｂ２４５重量％を含有するホツトプレス成形体から寸法
１６×８Ｘ１００ｍｍの真空蒸着用ヒーターを作成し、
その溶融した金と接触する凹部の表面に、直径１ｍｍ（
７）ＭＯＣ焼結体を線爆溶射材とし、充電容量１００μ
Ｆ、充電電圧１０ｋＶの条件で線爆溶射し、厚さ２０μ
ｍの第１被覆層を形成した。
Ｂ２４５重量％を含有するホツトプレス成形体から寸法
１６×８Ｘ１００ｍｍの真空蒸着用ヒーターを作成し、
その溶融した金と接触する凹部の表面に、直径１ｍｍ（
７）ＭＯＣ焼結体を線爆溶射材とし、充電容量１００μ
Ｆ、充電電圧１０ｋＶの条件で線爆溶射し、厚さ２０μ
ｍの第１被覆層を形成した。
更に該第１被覆層の上面に、直径０．８ｍｍ（７）ＭＯ
線を線爆溶射材とし、充電容量１００μＦ、充電電圧１
０ｋＶの条件で線爆溶射して厚さ１０μｍの第２被覆層
を形成した。この真空蒸着用ヒーターを使用して、８０
ｎ１ｇの金を印加電圧９Ｖで真空蒸着を実施したところ
、最大電流は１０４Ａで３６秒で終了した。
線を線爆溶射材とし、充電容量１００μＦ、充電電圧１
０ｋＶの条件で線爆溶射して厚さ１０μｍの第２被覆層
を形成した。この真空蒸着用ヒーターを使用して、８０
ｎ１ｇの金を印加電圧９Ｖで真空蒸着を実施したところ
、最大電流は１０４Ａで３６秒で終了した。
溶融した金は被覆層上で良好な濡れ状態を示した。更に
同様の真空蒸着を繰り返したが、これらの被覆層は１８
３回の真空蒸着に耐えたが、直径０．８ｍｍのＭ。
同様の真空蒸着を繰り返したが、これらの被覆層は１８
３回の真空蒸着に耐えたが、直径０．８ｍｍのＭ。
線のみ線爆溶射して形成した高融点金属のみからなる被
覆層は１２０回の真空蒸着にしか耐えなかつた。実施例
２ 実施例１で用いたと同種の真空蒸着用ヒーターを用い、
その溶融した銀と接触する凹部の表面に、直径１ｍｍ（
７）ＴｉＣ焼結体を線爆溶射材とし、充電容量１００μ
Ｆ、充電電圧１０ｋＶの条件で線爆溶射”し、厚さ２０
μｍの第１被覆層を形成した。
覆層は１２０回の真空蒸着にしか耐えなかつた。実施例
２ 実施例１で用いたと同種の真空蒸着用ヒーターを用い、
その溶融した銀と接触する凹部の表面に、直径１ｍｍ（
７）ＴｉＣ焼結体を線爆溶射材とし、充電容量１００μ
Ｆ、充電電圧１０ｋＶの条件で線爆溶射”し、厚さ２０
μｍの第１被覆層を形成した。
更に該第１被覆層の上面に、直径０．８ｍｍ（７）Ｗ線
を線爆溶射材とし、充電容量１００μＦ、充電電圧１０
ｋＶの条件で線爆溶射して厚さ１０μｍの第２被覆層を
形成した。この真空蒸着用ヒーターを使用して、８０ｍ
ｇの銀を印加電圧９Ｖで真空蒸着を実施したところ、最
大電流９１Ａで２９秒で終了した。
を線爆溶射材とし、充電容量１００μＦ、充電電圧１０
ｋＶの条件で線爆溶射して厚さ１０μｍの第２被覆層を
形成した。この真空蒸着用ヒーターを使用して、８０ｍ
ｇの銀を印加電圧９Ｖで真空蒸着を実施したところ、最
大電流９１Ａで２９秒で終了した。
溶融した銀は被覆層上で良好な濡れ状態を示した。更に
同様の真空蒸着を繰り返したが、これらの被覆層は２４
４回の真空蒸着に耐えたが、直径０．８ｍｍのＷ線のみ
線爆溶射して形成した高融点金属のみからなる被覆層で
は１７５回の真空蒸着にしか耐えなかつた。
同様の真空蒸着を繰り返したが、これらの被覆層は２４
４回の真空蒸着に耐えたが、直径０．８ｍｍのＷ線のみ
線爆溶射して形成した高融点金属のみからなる被覆層で
は１７５回の真空蒸着にしか耐えなかつた。
Claims (1)
- １ 導電性セラミックス製の真空蒸着用ヒーターにおい
て、少くとも溶融した金または銀と接触する面に、チタ
ンカーバイド、タングステンカーバイド、モリブデンカ
ーバイドから選ばれた１種以上からなる被覆層と、さら
にその被覆層の上にタングステン、モリブデン、タンタ
ルから選ばれた１種以上からなる被覆層を線爆溶射して
形成させてなる真空蒸着用ヒーター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55022979A JPS5952956B2 (ja) | 1980-02-26 | 1980-02-26 | 真空蒸着用ヒ−タ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55022979A JPS5952956B2 (ja) | 1980-02-26 | 1980-02-26 | 真空蒸着用ヒ−タ− |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56119773A JPS56119773A (en) | 1981-09-19 |
| JPS5952956B2 true JPS5952956B2 (ja) | 1984-12-22 |
Family
ID=12097668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55022979A Expired JPS5952956B2 (ja) | 1980-02-26 | 1980-02-26 | 真空蒸着用ヒ−タ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5952956B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0584232U (ja) * | 1992-04-23 | 1993-11-16 | ナスステンレス株式会社 | キャビネット |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0740487Y2 (ja) * | 1991-08-23 | 1995-09-20 | アキレス株式会社 | 前 掛 |
-
1980
- 1980-02-26 JP JP55022979A patent/JPS5952956B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0584232U (ja) * | 1992-04-23 | 1993-11-16 | ナスステンレス株式会社 | キャビネット |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56119773A (en) | 1981-09-19 |
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