JPS5952534B2 - 電子線描画装置 - Google Patents
電子線描画装置Info
- Publication number
- JPS5952534B2 JPS5952534B2 JP52125843A JP12584377A JPS5952534B2 JP S5952534 B2 JPS5952534 B2 JP S5952534B2 JP 52125843 A JP52125843 A JP 52125843A JP 12584377 A JP12584377 A JP 12584377A JP S5952534 B2 JPS5952534 B2 JP S5952534B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- distance
- deflection
- sample stage
- sample table
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電子線照射位置の温度補償手段を備えた電子
線描画装置に関する。
線描画装置に関する。
ＩＣ製造用フォトマスクなどの微細パターンを電子線照
射によつて作成することが行なわれている。
射によつて作成することが行なわれている。
第１図を参照して、このような電子線描画装置の概略を
説明する。１は電子線、２は対物レンズ、３は偏向器、
４は試料台、６は反射電子検出器、７は基準マーク、８
は増幅器、９は符号化機構、１０はコンピュータ、１２
は試料台駆動機構、１４はフォトマスク、１５は偏向電
源である。
説明する。１は電子線、２は対物レンズ、３は偏向器、
４は試料台、６は反射電子検出器、７は基準マーク、８
は増幅器、９は符号化機構、１０はコンピュータ、１２
は試料台駆動機構、１４はフォトマスク、１５は偏向電
源である。
いま、試料台４に取付けられたフォトマスク１４上に微
細パターンの書込みを行なう場合、電子線１を対物レン
ズ２によつて細く絞つてフォトマスク１４上に照射する
。一方、コンピュータ１０より微細パターンに依存した
偏向信号が偏向電源１５を通して偏向器３に供給され、
所望のパターンがマスク１４上に得られる。通常ＩＣを
作成する場合は、上記手段で得られたフォトマスクの種
々のパターンを数枚のシリコンウェハ上に順次写真蝕刻
を行なつて種々のパターンを積み上げて行く。マスクに
はガラスが用いられているが、ガラスの線膨張係数は約
１×１０−０であり、１０ｃｍ角のガラスマスクを用い
たとすると、温度が１℃変化した時の変化量△ｌは（１
）式で表わされる。△ｌμｍ■（ｌ×１０−５）× （
ｌｘｌ０５）μｍ＝１１をｍ０゛゛’゛゜（１）ｊパタ
ーンが微細化するに従い△ｌを少さくすることが必要と
なるが、試料台４上の温度変化を±０．１℃以下に制御
することはきわめて困難である。
細パターンの書込みを行なう場合、電子線１を対物レン
ズ２によつて細く絞つてフォトマスク１４上に照射する
。一方、コンピュータ１０より微細パターンに依存した
偏向信号が偏向電源１５を通して偏向器３に供給され、
所望のパターンがマスク１４上に得られる。通常ＩＣを
作成する場合は、上記手段で得られたフォトマスクの種
々のパターンを数枚のシリコンウェハ上に順次写真蝕刻
を行なつて種々のパターンを積み上げて行く。マスクに
はガラスが用いられているが、ガラスの線膨張係数は約
１×１０−０であり、１０ｃｍ角のガラスマスクを用い
たとすると、温度が１℃変化した時の変化量△ｌは（１
）式で表わされる。△ｌμｍ■（ｌ×１０−５）× （
ｌｘｌ０５）μｍ＝１１をｍ０゛゛’゛゜（１）ｊパタ
ーンが微細化するに従い△ｌを少さくすることが必要と
なるが、試料台４上の温度変化を±０．１℃以下に制御
することはきわめて困難である。
温度変化があると試料台４上のフォトマスク１４が伸縮
するので、精度のよいフォトマスクを；製造するために
は、温度変化一すなわちフォトマスク１４の伸縮に応じ
て電子線１の偏向量を修正しなければならない。従来の
電子線描画装置では、電子線照射位置を検知するための
基準マーク７が試料台４上の１ケ所にしか設けられない
たθめ、温度変化による試料台４やフォトマスク１４の
伸縮を検出することができず、ひいては電子線偏向量の
補償修正ができない欠点がある。本発明は前述の欠点を
改善するために、試料台上の離れた位置に少なくとも２
個の基準マークを’５装着し、２つのマーク間の距離を
レーザ干渉測長計などの測長計を用いて正確に測長し、
マスク、ウェハ等に電子線を照射する際に、作業温度す
なわち伸縮に応じた電子線照射位置の温度補償を行なう
ようにしたものである。
するので、精度のよいフォトマスクを；製造するために
は、温度変化一すなわちフォトマスク１４の伸縮に応じ
て電子線１の偏向量を修正しなければならない。従来の
電子線描画装置では、電子線照射位置を検知するための
基準マーク７が試料台４上の１ケ所にしか設けられない
たθめ、温度変化による試料台４やフォトマスク１４の
伸縮を検出することができず、ひいては電子線偏向量の
補償修正ができない欠点がある。本発明は前述の欠点を
改善するために、試料台上の離れた位置に少なくとも２
個の基準マークを’５装着し、２つのマーク間の距離を
レーザ干渉測長計などの測長計を用いて正確に測長し、
マスク、ウェハ等に電子線を照射する際に、作業温度す
なわち伸縮に応じた電子線照射位置の温度補償を行なう
ようにしたものである。
このために本発明においては、第１、第２図に示したよ
うに、基準マーク７の他に２つの基準マーク７Ｘ，７Ｙ
を付設し、またレーザ千渉測長計１１．試料台４に取付
けられたミラー５の反射面５Ｘ，５Ｙに測長用レーザ光
１６を投射させるためのミラー１３，］３Ｘ，１３Ｙを
設けている。本発明において温度補償を行なうには、ま
ず、基準マーク７の位置を反射電子検出器６によつて検
出し、符号化機構９を経由してコンピユータ１０に取り
込み、同時に反射面５Ｘとミラー１３Ｘとの距離１ｘ０
および反射面５Ｙとミラー１３Ｙとの距離１Ｙ０を測長
してコンピユータ１０に入力する。
うに、基準マーク７の他に２つの基準マーク７Ｘ，７Ｙ
を付設し、またレーザ千渉測長計１１．試料台４に取付
けられたミラー５の反射面５Ｘ，５Ｙに測長用レーザ光
１６を投射させるためのミラー１３，］３Ｘ，１３Ｙを
設けている。本発明において温度補償を行なうには、ま
ず、基準マーク７の位置を反射電子検出器６によつて検
出し、符号化機構９を経由してコンピユータ１０に取り
込み、同時に反射面５Ｘとミラー１３Ｘとの距離１ｘ０
および反射面５Ｙとミラー１３Ｙとの距離１Ｙ０を測長
してコンピユータ１０に入力する。
次に試料台１４をもう一方の基準マータ例え２ば７Ｘへ
移動し、そのときの距離１Ｘ１を同様にレーザ干渉測長
計］１によつて検出し、温度変化に伴なう試料台１４の
伸縮および作業温度における所要偏向量をコンピユータ
］０で後述のように計算して、偏向器３へ所要の偏向電
圧を与えて電子二線１の照射位置の補正を行なう。すな
わち、基準温度における電子線の設計偏向量をｌ、マー
ク間距離をｄ、作業温度でのマーク間距離をＤとすると
、作業温度で実際に必要な電子線偏向量Ｌは（２）式で
与えられるので、この演算をコンピユータ１０で行なつ
て偏向量を補正することができる。
移動し、そのときの距離１Ｘ１を同様にレーザ干渉測長
計］１によつて検出し、温度変化に伴なう試料台１４の
伸縮および作業温度における所要偏向量をコンピユータ
］０で後述のように計算して、偏向器３へ所要の偏向電
圧を与えて電子二線１の照射位置の補正を行なう。すな
わち、基準温度における電子線の設計偏向量をｌ、マー
ク間距離をｄ、作業温度でのマーク間距離をＤとすると
、作業温度で実際に必要な電子線偏向量Ｌは（２）式で
与えられるので、この演算をコンピユータ１０で行なつ
て偏向量を補正することができる。
続いて試料台１４を基準マーク７Ｙの方へ移動させれば
、Ｙ方向の補正を全く同様の手法によつて行なうことが
できる。レーザ干渉測長計の位置分解能は０．０１μｍ
であり、０．１μｍ以下の試料台位置精度が得られる。
以上のように本発明によれば、試料台の温度変化にも拘
わらず、０．１μｍの電子線照射位置精度が得られる。
なお、２つのマーク間の距離の測定には、前述したレー
ザ干渉測長計以外の測長手段を用い得ることは明らかで
ある。又、マーク位置は図示例に限らず、７Ｘ，７Ｙの
いずれか一方を省略したり、それ以外の位置例えば基準
マーク７を通る対角線上に設けてもよい。
、Ｙ方向の補正を全く同様の手法によつて行なうことが
できる。レーザ干渉測長計の位置分解能は０．０１μｍ
であり、０．１μｍ以下の試料台位置精度が得られる。
以上のように本発明によれば、試料台の温度変化にも拘
わらず、０．１μｍの電子線照射位置精度が得られる。
なお、２つのマーク間の距離の測定には、前述したレー
ザ干渉測長計以外の測長手段を用い得ることは明らかで
ある。又、マーク位置は図示例に限らず、７Ｘ，７Ｙの
いずれか一方を省略したり、それ以外の位置例えば基準
マーク７を通る対角線上に設けてもよい。
第１図は本発明の概略図、第２図は要部の上面図である
。 １・・・・・・電子線、２・・・・・・対物レンズ、３
・・・・・・偏向器、４・・・・・・試料台、５，１３
Ｘ，１３Ｙ・・・・・・ミラ、６・・・・・・反射電子
検出器、７，７Ｘ，７Ｙ・・・・・・基準マーク、９・
・・・・・符号化機構、１０・・・・・・コンピユータ
、１１・・・・・ルーザ干渉測長計、１２・・・・・・
試料台駆動器、１４・・・・・・マスク、１５・・・・
・・偏向電源。
。 １・・・・・・電子線、２・・・・・・対物レンズ、３
・・・・・・偏向器、４・・・・・・試料台、５，１３
Ｘ，１３Ｙ・・・・・・ミラ、６・・・・・・反射電子
検出器、７，７Ｘ，７Ｙ・・・・・・基準マーク、９・
・・・・・符号化機構、１０・・・・・・コンピユータ
、１１・・・・・ルーザ干渉測長計、１２・・・・・・
試料台駆動器、１４・・・・・・マスク、１５・・・・
・・偏向電源。
Claims (1)
- １ 試料台を少なくとも一平面内で移動させる試料台移
動機構と、試料台上の所望位置に電子線を照射するため
の偏向器および偏向用電源と、試料台上の少なくとも２
個所に設けられた基準マークと、２つの基準マーク間の
距離を測定する手段と、基準温度における基準マーク間
距離および設計偏向量ならびに前記測定手段によつて得
られた作業温度における基準マーク間距離から作業温度
における所要偏向量を算出する手段と、その算出結果に
したがつて偏向電源を制御する手段とを具備したことを
特徴とする電子線描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52125843A JPS5952534B2 (ja) | 1977-10-21 | 1977-10-21 | 電子線描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52125843A JPS5952534B2 (ja) | 1977-10-21 | 1977-10-21 | 電子線描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5459884A JPS5459884A (en) | 1979-05-14 |
| JPS5952534B2 true JPS5952534B2 (ja) | 1984-12-20 |
Family
ID=14920310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52125843A Expired JPS5952534B2 (ja) | 1977-10-21 | 1977-10-21 | 電子線描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5952534B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60254615A (ja) * | 1984-05-30 | 1985-12-16 | Toshiba Mach Co Ltd | 電子ビーム露光における温度測定方法 |
| JPS642437U (ja) * | 1987-06-24 | 1989-01-09 | ||
| JPH07111954B2 (ja) * | 1989-03-15 | 1995-11-29 | 光計測技術開発株式会社 | 電子ビーム露光装置 |
-
1977
- 1977-10-21 JP JP52125843A patent/JPS5952534B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5459884A (en) | 1979-05-14 |
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