JPS59500374A - ２−（１−オキソ−アルキル）−５−フエニル−２，４−ペンタジエン酸エステルの濾光材としての使用 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ２−（１−オキソ−アルキル）−５ −フェニル−２，４−ペンタジェン 酸エステルのｒ光材としての使用 人間の皮膚に対する光による害作用は戸先材料によって阻止または軽減できる。

太陽光線は二つの波長帯域に分けられる輻射部分から成っている。可視光線を超 えるものには赤外（ＩＲ）ｇよび紫外（ＵＶ）線かある。太陽光線に含まれる高 エネルギーＵＶ線は皮膚の褐色化のみならず日焼（紅斑）の原因となる〔ダブリ ユウ、ブルーン、ドイツチェ。

アポテーケルーツアイトウンク、１１７．１１５９〜１１６２．１３６２〜１３ ６６．１８７２〜１８７６（１９７７）参照〕。

太陽光線の紫外部は次の三つの帯域に分けられる。

−直接変色により皮膚の褐色化を午せしめるλ＝３１５−４００　ｎｍ　（ＵＶ −Ａ）の波長１７）ＵＶ線−紅斑を生ぜしめ、更に高い露光下では重症（日焼け ）をも起すλ＝２８０〜３１５　ｎｍ　（ＵＶ−Ｂ　）の波長ノＵｖ線−殆んど 大気中に吸収され、従って皮膚には実質的な影響を及ぼさないλ＝２４０　２８ ０ｎ＋ｎ　（ＵＶ−Ｃ）の波長のＵＶ！１ 現在までの知識では、ＵＶ−Ｂ帯域には強い吸収を示すが（日焼の防止）、ＬＩ Ｖ−Ａｉ［Ｍは訪客せずに作用させるままとする（皮膚の褐色化の促進）ような ｒ光材料を選択するのが好ましいとされている。従′つて、業界では、複数種類 の（２） 材料カ製造され現狂世界的に使用されている〔タブリュウ・ブルーフ、ドイツチ ェ・アポテーケルーツアイトウンク、１１７．１３６２（１９７７）参照］。

過去数年の皮膚病理研究によれは、皮膚ケラチンおよびエラスチシンに対する損 傷はまたＵＶ−Ａ、ＩＪｉこよってももたらされる。これにより皮Ｍの弾力およ び保水分作用は減じ皮膚は脆弱になり皺か庄じ易くなる。またデオキシリボ核酸 およびリボ核酸をも著しく損傷せしめ、それに応じてメラニンの生成を行なう「 回復機能」をも損傷せしめる。強い太陽光線照射を受けた部分の皮膚かんの発生 率は顕著に高い（エイチ・ディー・アラ−ディ、レポート・オブ・ザ・イレブン ス・インターナショナＪし・ＩＦ５Ｃ０−コンブレス（コスメチックス・リサー チ・エンド・テクノロジー」ヴエンス・１９８０年９月、アブストラクツ、２６ ３頁）。従って、ＬＩＶ−Ａ帯域をｔ別する戸先材料を選択使用することか必要 なことは明らかである。

ＩＪＶ−Ａ吸収能に加え、化粧料用の沖光材料は次のような要件を具備すべきで ある。即ち、高い吸光性、光安定性、酸化安定性、乳剤安定性、無毒性、低臭性 、低自己着色性である。これらの要件を具備した材料は式２〔ドイツ特許公開第 ２５４４１８０号〕（λｍＱｘ＝３４０ｎｒｎ）および式３（λａ＋ａｘ＝３５ ５　ｒ＋ｌ１１）で示されるようなジベンゾイルメタン誘導体である。こわらの 物質は比較的容易な合成法により製造できる。

（３） 西独公開特許公報２８１６８１９　（１９７８年４月１８日出願）には比較的高 価なアニサルデヒドをシアン酢酸エステルと縮合させて得られる式４のＰ−メト キシ−桂皮酸エステルがｔｌＶ−Ａｐ光材料として特許請求されている。

５　（Ｃｌｌｌ８２１Ｑ　Ｏ）ｘ−ＣｎＨｚｎ＋ｒＣｍ＋ｎ＝３−８　、Ｘ＝１ −３３ Ｒ２＝＝　Ｃ，−Ｃ，、アルキル 本発明は一般式１で示される２−（ｌ−オ千ソーアルキル）−５−フェニル−２ ，４−ペンタジェン酸エステルに（４） 関する。これらの化合物は最大吸収λ−３３０ｎｍを有し、強い吸光性（例えは Ｒ：　Ｅｔ　；λ＝１３０）を有する。照射安定性は人工日光（ウルトラビタル ックス・ランプ）ヲ用いた長時間照射によって試験した。第１図は長時間照射後 （１，３および６時間）エチル・エステル（Ｒ１＝エチル、Ｒ２−メチル）が吸 光における低下が比較的低いことを示す。

式１に示される他のエステルも同様の発色基のためにＵ−Ｖ−最大３３０　ｎｍ を示す、勿論分子量の相違のためそれぞれ他の化成光性を持つ。照射安定性はエ チルエステルのそれに相当する。

式１においてＲ１は炭素原子数１−８の直鎖または分校アルキル基、合計炭素原 子数４のアルコキシアルキル基、その他ｃ、−ｃｓのアルキルまたは（ＣｍＨ＋ ＋ｍ−０）　ＣｎＨ２ｎ＋＋　、但しｍ＋ｎ＝４、が好ましく、Ｒ２はメチルで あるのが好ましい。

一般式１の物質は液状であり、各種の化粧料に容易に加工でき、かつ乳剤は安定 である。自己臭および自己変色性は低い。

一般式１の化合物は太陽光線に長く曝露されてもその影響により変性したり変色 したりすることは殆んどないからこれらか配合された材料やこれらが積層された ものは長時間にわたり保護されることになる。

このような性質のために、一般式１の化合物は、単独でまたは他のＵＶ−吸収剤 や通常の基材、展延剤、充填剤および助剤と組み合わせて日焼止め化粧料の各種 の形態（油、クリーム、乳剤、スプレィ）につき使用できる。かかる材料の例と しては次のものかある。

一天然および合成のグリセライド、天然および合成のワックス、パラフィン、鯨 ろう、脂肪酸、脂肪族アルコール（ステアリル、オレイル、パルミチル、セチル アルコール等）、エラセリン（５％ラノリンアルコールおヨヒ９５％脂肪族炭化 水素）、ラノリン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリエチレンソルビタン脂肪酸 エステル、脂肪族アルコールポリグリコールエーテルおよびエステル、カルボキ シビニル重合体、ゼラチン、トラガカント、ペクチン、寒天、メチル−、エチル −またはカルボキシメチルセルローズまたはポリアクリル酸（基材として）−エ タノール、インプロパツールの如き低級アルコール、グリコール、ポリアルコー ル（エチレングリコール、グリセリン）または水（溶媒として） −イオンまたは非イオン性材料、カチオンまたはアニオンまたは両性乳化剤、防 腐剤、着色剤、香料組成物（助剤として・ン 一般式１で示される化合物はまた綿または羊毛の如き天然繊維用のｒ光処理剤（ 繊維の漂白を防止するための）として、合成材料製のフィルム、箔、糸、繊維、 その他の成形物用枦処理剤として、また写真用もしくは包装材料の戸先および保 護フィルム用に有用である。

化粧料用および工業用としての一般式１の化合物の使用含量は臨界的ではなく所 望の用途に応じて広く変えうる。

（６） 上）とすることができる。

Ｓ　（ＣｍＨ２ｍ　Ｏ）ｘ　ＣｎＨｚｎ＋＋（ｍ十ｎ＝３−８　、ｘ−１−３） Ｒ２＝０１−０１８アルキル 式１の化合物は聞単に製造できる。２−メチル−５−フェニル−２，４−ペンタ ジェン酸エチルエステル（シンナミリデン−アセト酢酸エステル）はピペリジン の触媒量を用いてシンナマルデヒド（式５）およびアセト酢酸エステル（式５． １ｌｉｌ＝エチル、Ｒ２＝メチル）の反応にょリフオン、タネヴエナゲルの方法 〔ベリヒテ、３１　、７３４　（’１８９８）］により製造できる。同様の方法 により一般式１のすべてのエステルは弱有機酸の存在下にピペリジンまたはピロ リジンの如き強有機塩基を加えて、シンナマルデヒド（式５）および１−オキシ −アルキル−カルボン酸エステル゛（式６）から製造できる。ガスクロマドクラ ムおよびＩＨ−ＮＭＲ−スペクトルによればこれら化合物は異性体混合物（約２ ：３）（７） である。シンナミリジンーアセト酢酸エチルエステルのシンナマルデヒドおよび ジケトンからの製造はティー・カトゥ、ティー・チバおよびエム・サトウ〔ケミ カル・アンド・ファーマシュテイカル・プレチン、２６．３８７７（１９７８） ］により発表されている。新規性は１個より多い炭素原子を有するアルキル基を 有するより高い同族体とオキソ−アルキル−置換誘導体を用いることにある。式 １においてＲ２＝メチルの化合物を上述の方法によって製造するに当って、所望 の高級アルコールのアセト酢酸エステルは例えばクレイセンのエステル縮合法〔 オルガニクム、ＶＥＢドイツチェル、フェルラグ、デル、ライラセンシャツテン 、ベルリン１９６７．４５４頁〕や、相当するメチルケトンをヂエチルカーボネ ートとの反応法〔アー、プラントストＯム、Ａｃｔ、Ｃｈｅｍ、５ｑａｎｄ、　 ４　、１３１５　（１９５０））により製造できる。Ｒ２−Ｃ２−Ｃ１８の式ｌ の化合物をオキソ−アルキル−アセト酢酸エステルを用いて同様にして製造する に当っては、マロン酸ジエチルエステルを相当する酸クロライドでアルキル化し 〔オルガニクム、ＶＥＢドイツチェル、フェルラグ、デル、ライラセンシャフト 、ベルリン１９６７．４６１頁〕、次いで結合酸を鹸化し脱カルボキシル化する 〔アール・イー・ボウマン、ジャーナル・オン・ケミカル・ソサエティー１９５ ０．３２２］。エイチ・エル・ホルムスおよびディー・ジエイ　・カーリイはシ ンナミリデン−アセト酢酸−エチルエステルのスペクトルデータを発表している が〔カナディアン・ジャーナル−Ａ−”ｊ・ケ（８） ミスドリー、４７．４０７６　（１９６９）３、この材料がｔ光材料として有用 であることは知っていなり１つだ。米国特許ＩＧ２．３８１８８６号明細書には ２−アセチル−５−フェニル−２，４−ペンタジェン酸を自己乾燥性ラッカーの 成分として使用することが記載されている。しかし、−光材料としての使用は知 られていなかった。一般式１の多不飽和化合物かすぐれた光安定性２よび耐酸化 性を有することは予期されなかったことである。したかつて式１で示される化合 物かｔ光材料として使用しているという知見は新規なものである。これまで市販 されていた式２および３のＵＶ−Ａｐ光材料は最大吸収値λ＝３４０または３． ５５ｎｌＴｌであり、従ってｔＪＶ−ＩＪ１５光材料と組み合わせて使用しなく てはならない。これに対し、式１の化合物は特異な性質および最大吸収唾（半幅 ：５Ｑｎｍ、吸収帯域人＝３００−３６０ｎｍ）を有するためＵＶ−Ａおよびｔ ｌＶ、Ｂの双方に対するｔ光が可能であり、このため式１の化合物は広帯域ｒ光 フィルター（即ら、ＵＶ−Ｂｐ光材料の併用を必要とせずに）として圧用できる 。

式１の化合物は油、クリーム、ローションの如き各種の化粧料および工業用材料 につき使用するに当り０１乃至１０％、好ましくは０．５乃至５％の濃度で用い 得る。置換基Ｒ１およびＲ２には種々なものがあるので、式１の化合物は、類似 の発色基のために同様の吸収特性を示す一方、各種の物理的性質（例えは粘度） を持つ。したがって式１の化合物は各種の化粧！＋２よび工業用途に好都合に使 用できる。

以下実施例について本発明を説明する。

ペンタジェン酸−エチルエステル（シントルエン１．８１１！に６６０ｙ（５モ ル）のシンナマルデヒドおよび６５０ｙ（５モル）のアセト酢酸エステルヲ浴解 した溶液をトルエン０．２ｆに６０Ｆ　（１モル）の酢酸および１８２（２１− １０２モル）のピペリジンを溶解した溶液と混合し、水を分離しながら１時間沸 点で撹拌した。

室温に冷却後水で２回洗滌し、５０Ｃｒｎのヴイグロウ・カラムで蒸溜した。薄 黄色油としてのシンナミリジン酢酸エステル１０３５ｙ（８５％）を得た。訓点 （０８闘＞＝１６０℃、ＧＣおよびＩＨ−Ｎ昂Ｒは二つの幾何学異性体Ｃ４２： ５８Ｊを示した。

Ｕｖ−スペクトルニ第１図、ガスクロ７トクラム：第２図ＮＭＲ−スペクトル： 第３図、マススペクトル：第４図実施例　２ ２−アセチル−５−フェニル−２，４−ペンタジェン酸−（２−エチル−ヘキシ ル）−エステルの製造先ず７５ｙ（０，５モル）のエチルヘキサノール、次いで １７：Ｍ（１モル）の２−エチル−ヘキシル−アセテートを撹拌しながら、２０ ０＊のシクロヘキサン甲の３５　ｙの水素化ナトリ、ラム（パシフイン油中８０ ％）に滴加し、沸点で３時間撹拌した。冷却後１０ｒｎ１．の酢酸を注貢深く加 え（１０） 反応ぎせた。得られた粗製’７−ト酢酸−２−エチル−ヘキシルエステルを１４ ０ｙのシンナマルデヒドと実施例１の手法に従って縮合させた。こｚ−Ｌを迅速 に蒸溜して粘稠な薄黄色油としての２−アセチル−５−フェニル−２，４−ペン タジェン酸の２−エチルーヘキシルーエステル１９４Ｐ（７０％）を得た。ＧＣ （１０ｍＳＰ２１００．６０−２５０℃、４℃／分）　：ｔｒ＝　１９．０およ びｌ　９．３　ｍｉｎ　１ＵＶ（ＥｔＯＪ：＾ｍａｘ＝３５２（ε−１１２）、 ＮＭＲ（（：Ｃ１４）：δ＝０．９０．６．９−７．６　ｐｐｍ　、　ｍ　（オ レフィン士芳香族Ｈ）。

マススペクトル：第５図＋　Ｃ２□Ｈ２８０３（３２８，４）実施例　３ ２−プロピ万ニルー５−フェニル−２゜４−ペンタジェン酸エチルエステルの製 造無水エタノール１００ゴにマグネシウム巻脈４Ｂ、６ｙ（２モル）を加えたも のを１０−の四塩化炭素と混合し撹拌シタ。無水エタノール２００−に３２Ｏｒ （２モル）のマロン酸ジエチルエステルを溶解した溶液を加え、加温を開始し混 合物を強沸させた。マグネシウムの全部力≦溶解した時に１８５ｙ（２モル）の プロピオン酸クロライドを２０℃で（冷却しながら）滴加した。室温に１０時間 放置後、先ず８００１の氷、次いて５０ｙの濃硫酸を加えた。反応および蒸溜を 行なったところ３４０ｙ（７９％）のプロピ（１１） オニルマロン酸ジエチルニスｆル、沸点（２即）　＝　１００℃を得た。これを ７９ｙの県酸（無水）および０．１５艷の濃硫酸と混合し、沸、Ｑで３０分間撹 拌した。これを常圧下に３０ｃｒｎのヴイグロウ・カラムで蒸溜し蟻酸エチルを 溜去しく液温１２０−１４０°（）、更に２０６ｎのヴイク゛ロウ・カラムで蒸 溜した。プロピオニルアセト酢酸エチルエステルの収量１３５Ｆ　（３８％）、 ｆ沸点く０５節）−４９−５５℃。２−７”コピオニル−５−フェニル−２，４ −ペンタジェン酸エチルエステルは実施例１と同様にピペ曙」ジン／酢酸を用い てシンナマルデヒドと縮合させることにより得た。ＵＶ　（ＥｔＯＨ）　：輸ａ ｘ−３２５（ε’＝１２０ｃｍ／ｆｎｑ）。

ｔＲ：１７２０−１６８Ｇ（不飽和エステル十ケトン）。ＩＨ−ＮＭＲ：δ＝　 １．１０　：Ｌ−よび１．１５　、２　ｔ　、　Ｊ＝７　Ｒ２（−Ｃ０ＣＨ２− ＣＨ３）　、　３−６８および３．７１　、２　ｑ　、　Ｊ＝７　Ｈ７ＩＣ−Ｃ ０ＣＨ２−ＣＨ３）　、　４．２５および４．３２　、２　ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ（ −ＣＯ香族）ＭＳ；ｉ／ｚ　（９６１＝２５８　（３０、”）、２２９（７２） 。

２．３０（１１）、１８３　（２６）、１５５（２０）、１２８（４２）、１１ ５（１００）、５７（６０）。

Ｃｌ６Ｈ１８０３（２５８，３） 実施例　４ エコルー２．４−ペンタジエン酸の単一（ａ＋　２−アセチル−５−フェニル− ２，４−ペンタジェン酸−（１２） ３’　、　５’　、　５’　−）リメチルーヘキシルエステル〔実施例２と周様 にして製造）　：　ＵＶ　（ＥｔＯＨ）　：＾ｍａｘ　＝　３２８　ｗ　（ｅ’ ＝６８ｃＩｎ／ｍｙ）。ＩＲ（膜）：１７１０．１６８．５　（不飽和エステル およびケトン）、１６１０．１５Ｂ０，９７０７４５．５８５ｃｒｎ−’　（オ レフィン系）、ＩＨ−ＮＭＲ：１＝０９５および０．９７．２　Ｓ　（、３’　 、　５’　、　５’　−ＣＨ３）　、　２．３０および２．３９．２８（ＱＣＣ Ｈ３）、３．９−４−４ｍ（１’　−ＣＨ２）　、６．ｇ　−７，６Ｆ　、　ｍ 　（芳香族＋オレフィン系Ｈ）、ＭＳ　：ｍ／ＺＮｌ＝３４２　（２２、Ｍ”） 　、２１７（１５）。

２１６　（５１）、２１５　（５１）、２０ＣＩ＋、１９９　（４１）、１９８ （３５）、１７３（１８）、１７．１（２６）。

１７０（１４）、１５７（２２）、１５５（１２）。

１３１　（１７）、１２９（１８）、１２８（２４）、−−−−−１０３（１０ ０）、１０２（１８）、８５（４５）。

Ｃ２□堪。０３（３４２，５）。

（ｂＢ−アセチル−５−フェニル−２，４−ペンタジェン酸−イソオクチルデシ ルエステル〔実施例２と同様にして製Ｂ　）　：　ｕｖ　（ｇｔｏｕ）：＾１ｎ ａｘ　＝　３２７　ｎｍ　（ｔ’＝　５１　ｃｍ／ｍｑ）。

ＩＲ（膜）；１７１０，１６８０（不飽和エステルＴケトン）　、　１６１０． １５８５．９６５．７４０．６９０ｃＩｎ−’（オレフィン系）。１Ｂ　−ＮＭ Ｒ：　δ＝（１９２ｂｒ、ｓ　（ＯＨ３基）４．４０　、ｍ　（１’　ＣＨ２） 　、６．’９　７．６Ｆ　、ｍ　（オレフィン系士芳香族Ｈ）。ＭＳ：ｌｏ／ｚ ％Ｉ＝４６８　（７、Ｍ＋）。

ＣｊＩＨｚｓ”＊　（４６８，７） １０＋２−アセチル−５−フェニル−２，４−ペンタジェン酸−オクタ９ルエス テル（−ステアリルエステル）［実施例２と同様にして製造］　：　ＵＶ　（Ｅ ｔＯＨ）　：λｍａｘ＝３２６１”１（ε’　＝　４．９　ｃａｒ　／呵）。ｉ Ｒ（膜）：１７０５　．１６８０α−１（不飽和エステル十ケトン）。ＭＳ　： 　ｍ／２６％Ｉ＝４６８（３，Ｍ”）。”３ＬＨ４８０３（４６８，７）（ｄ１ ２−７．７アオリルー５−フェニル−２，４−ペンタジェン酸−エチルエステル 〔実施例３と同様にして製造〕：ＵＶ　（ＥｔＯＨ）　：λｗａｘ　＝　３．２ ６　ｎｍ　（ｅ’−５３ｃｒｉ　／　１ｒ＃　）、ＩＲ（膜）＋１７０５．１６ ８５　（不飽和エステル十ケトン）。

１６２０．１５９０．９６５．７５０．６８５０−１（オレフィン系）。ＬＨ− ＭＮＲ：δ＝１．３０および１．３５．．２ｔ。

および芳香族Ｈ）。ＭＳ：ｍ／Ｚ（％ｌ−４６８（、１１、Ｍ＋）、Ｃ３１”４ ８０３　（４６８，７、） ［８１２−アセチル−５−フェニル−２，４−ペンタジェン酸−ノーエトキシメ チルエステル〔実施例２と同様にして製造］　：　ＵＶ（ＥｔＯＨ）　：輸ａｘ 　＝　３２９　ｎｍ　（ε’＝　９３　ｃｒｉｒ／ｒｒｖｒ）、ＩＲｌ）：１’ ７０５，１５８５ｃｒ＋＋−’　（不飽和エステル十ケトン）、’Ｈ−ＮＭＲ： δ＝１．２５　、ｔ　＋Ｊ＝７”ｚ（−〇−ＣＨ２”ｓ　）　、２．３０　オよ び２．３５　、２　Ｓ　（−Ｃｏ−ＣＨ，）万しフイン系十芳香族Ｈ）　、　Ｍ Ｓ　：ｍ、／ｚ　（９６１＝２７２（１５゜（１４） Ｃ→。ＣＨ７”２００３　（２７２，３）（ｆｌ　２−アセチル−５−フェニル −２，４−ペンタジェン酸−８′−フトキシートリエチレンーグリコールエステ ル〔実施例２と同様にして製造］　：　ＵＶ（ＥｔＯＨ）　：λ１ｌＩｌａ！＝ ３２７ｒ＋＋ｎ　（ｔ’＝　６２　ｏｊ　／”９　）、ＩＲ（膜）：１７１０− １６８０１：？ｌ＋”　（不飽和エステル十ケトン）　、ＩＨＬＮＭＲ：δ＝１ ．１３７．９Ｐ、ａ＋（オレフィン系＋芳香族Ｈ）。ＭＳ　：　ｍ　／　ｚ　（ ９６１−３５６（２、Ｍ　）。　Ｃ２３”３２０３　（３５６，５）（ｇｌビス −（２−アセチル−５−フェニル−２，４−ペンタジェン酸）−１，２−ジヒド ロキシエチルエステル〔実施例２と同様にして、エチレングリコール−ビス−ア セト酢酸から裂ｅ　］　：　ＵＶ　（ｚｔ、ｏＨ）　：λｍａｘ　＝　３３０　 ｎｍ　（−’＝１３０ｃ！ｎ／ｆｎｑ、ＩＲ（楔）＝１７０５−１５７０ｚ−’ 　（不飽和ケトン＋エステル）　、　”Ｈ−ＮＭＲ：δ＝２．３０＞よひ２．３ ５．２　ｓ（−ＧＯ−Ｃ！（１）　、４．１　（−０−（ＰＨ２−ＣＨ２−。

−）　、６．７−７．８Ｆ　、ｍ　（芳香族＋オレフィン系Ｈ）。

ＭＳ”／ｚ（９６１−４５８（２、Ｍ　）。０２ｇ”２６０６　（４５０，５） （ｈｌビス−（２−アセチル−５−フェニル−２，４−ペンタジェンｅ）−１， ４−ジヒドロキシブチルエステル〔１゜４−ブタンジオールービスーアセトアセ テードから製造〕：　ＵＶ　（ＥＩＯＢ　）　：＾ｍａｘ＝３２９ｎｍ（ε’− １２２ｃｍ／ｍｑ）、ＩＲ（膜）：　１７１０−１６８０ｃｒｎ−’　（不飽和 ケトン＋エステル）、ＩＨ−Ｎ：ｉｌＲ：δ−２３１および２．３６．２Ｓ（（ １５） −ＣＯ−ＣＨ，）　、６．７−７．７ＰＦ　、ｍ　（芳香族およびオレフィン系 Ｈ）。ＭＳ　：　ｍ／ｚ（９６１−４８６（３、Ｉｔ”）。Ｃ９ｏＨ，。０６落 花生油　４６０ｙ パラフイン油　４０．０’　９’ 香　油　０．５２ 上記成分を混合して日焼止め油を調製した。このものは直接またはスプレィとし て皮膚に施与できる。

セチル−およびステアリル−アルコール（１：１）　２．Ｏｆイソプロピルパル ミテート　６．０ｙ ステアリル−／セチルーポリグリコールエーテル　７．Ｏｙシリコーン油　Ｃ！ 　１００　０．５　ｙ（１６） 香　油　０５　タ 上記諸成分を７０℃で融解し混合した。この混合物を少しつつ強力な撹拌下に７ ５℃に加熱した水６６ｙに加えた。

えられる乳剤を撹拌しなから室温まで冷却した。

実施例　７ 日焼止め乳剤（液状乳剤） グリセリンモノステアレート　６．０２エチルアルコール−エトキシレート７． ０ｙパラフイン油　３．０ｙ ソルビトール溶液、７０％　３．０ｙ 香　油　１．０ｙ 上記諸成分を７０℃で、実施例４と同様にして乳化した。

（１７）　待人ｕｙ　５９−５００３７４　（６）アルキルポリグリコール乳化 剤　２ｏｙポリエチレングリコール２００　１４．７Ｆ１００．０　ｙ 浄書（内容に変更なし） 手続補正書（久や 事件との関係　牲ν「丸４均／； （） 国際調査報告

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ■　一般式１ ％式％ 式中Ｒ１は１−１８の炭素原子を有する直鎖、分枝または環式のアルキル基、炭 素原子数合計２−１６の（ポリ）−アルコキシ−アルキル基または炭素原子数２ −１２６）（ポリ）−アルコキシ基で更に２−（１−Ｔキソーアルキル）−５− フェニル−２＋４−ペンタジェン酸基でエステル化されたものを示し、Ｒ２は炭 素原子数１−１８の直鎖のまたは分枝したアルキル基を示し、波線は幾何異性体 を示す、を有する２−（１−オキソ−アルキル）−５−フェニル−２，４−ペン タジェン酸エステルのＰ光材料としてあ使用。 ２、　上式１中Ｒ１か２−エチル−ヘキシル−１３，５，５−（１９） トリメチル−ヘキシルまたはイソ−オクタデシル−基であす、Ｒ２カメチル基で ある２−（１−オキソ−アルキル）−５−フェニル−２，４−ペンタジェン酸エ ステルの沖光材料としての使用。 ３　上式１中Ｒ１がメチルまたはエチル基であり、Ｒ２がオクタデシル基である ２−（１−オキソ−アルキル）−５−フェニル−２，４−ペンタジェン酸エステ ルの沖光材料としての使用。 ４　上式１中Ｒ１が更に２−（１−オキソ−アルキル）−５−フェニル−２，４ −ペンタジェン酸基で更にエステル化された炭素原子数２−５のヒドロキシアル キル基でアリ、Ｒ２がメチル基である２−（１−オキソ−アルキル）−５−フェ ニル−２，４−ペンタジェン酸エステルのｒ光材料としての使用。 ５、上記式１中のＲ１が炭素原子数２−１０のアルコキシアルキル基、好マしく ハエチレングリコールモノーエチルエーテル、ジエチレングリコール七ノーエチ ルエーテル、トリエチレングリコールモノ−エチルエーテルまたはトリエチレン グリコールブチルエーテル基であり　Ｒ２かメチル基である２−（１−オキソ− アルキル）−５−フェニル−２゜４−ペンタジェン酸エステルの沖光材料として の使用。 ６　請求の範囲第１項記載の材料を単独で、または他の紫外線吸収剤および化粧 料の形成のための通常の基材料、展延剤、充填剤および助剤と組合わせて含有す る化粧料用ｒ光材料。 （２０） ７−　請求の範囲第１項記載の材料を単独で、または他の紫外線吸収剤および工 業用沖光装置の調製のための通常の基材料、展延剤、充填剤および助剤と組合わ せて含有する工業用戸先材料。 ８、式１で示したシンナミリデンアセト酢酸エステルの少くとも０．１０−１０ 重量％を含有する請求の範囲第２または３項記載の化粧料用または工業用戸先材 料。 ９、油、クリーム、乳液またはスプレィの形態の請求の範囲第２項または４項記 載の化粧料用を光材料。 １０　天然繊維、合ｒ５．繊維または合成材料製の他の製品の処理用の、または 写真用または包装材料用の沖光および保護フィルム用の請求の範囲第３または４ 項記載の工業用戸先材料。 １績唱９−５００３７４（２） 浄書（内容に変更なし） （１）