JPS589091B2 - ベンジリデンカンフア−誘導体の製造法 - Google Patents
ベンジリデンカンフア−誘導体の製造法Info
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- JPS589091B2 JPS589091B2 JP1341982A JP1341982A JPS589091B2 JP S589091 B2 JPS589091 B2 JP S589091B2 JP 1341982 A JP1341982 A JP 1341982A JP 1341982 A JP1341982 A JP 1341982A JP S589091 B2 JPS589091 B2 JP S589091B2
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/40—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing nitrogen
- A61K8/41—Amines
- A61K8/416—Quaternary ammonium compounds
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は特定範囲の紫外線を吸収しうる新規化合物の製
造法に関し、この化合物は化学線の有害な作用から人の
皮膚を保護するための抗太陽光線化粧組成物および光線
波にさらすことによる分解あるいは変色を受けやすい化
粧製剤用保存剤としての使用に理想的に適合するもので
ある。
造法に関し、この化合物は化学線の有害な作用から人の
皮膚を保護するための抗太陽光線化粧組成物および光線
波にさらすことによる分解あるいは変色を受けやすい化
粧製剤用保存剤としての使用に理想的に適合するもので
ある。
たとえば、日焼げまた紅斑(erythema)が太陽
光線に人の皮膚を過度にさらすことによって生ずること
、およびしばしば[紅斑帯 (erythematous zone)jと呼ばれる
280−315ミリミクロンの範囲内の光線の波長がそ
のような日焼けを導くことは知られている。
光線に人の皮膚を過度にさらすことによって生ずること
、およびしばしば[紅斑帯 (erythematous zone)jと呼ばれる
280−315ミリミクロンの範囲内の光線の波長がそ
のような日焼けを導くことは知られている。
この波長範囲以下では太陽光線はどのような特定の危険
も存在しない。
も存在しない。
というのはそれらは大気中のオゾンによって沢過される
からである。
からである。
しかしながら、望ましい−焼けをおこしまたはそれを導
く紫外線は315から400ミリミクロンの範囲内の帯
のものである。
く紫外線は315から400ミリミクロンの範囲内の帯
のものである。
従って、もしも太陽光線照射にさらされることを望むな
らば、紅斑帯内の紫外線を吸収する物質を含有する組成
物の助けで皮膚を保護し、それによって望ましくない日
焼けを避けることが重要である。
らば、紅斑帯内の紫外線を吸収する物質を含有する組成
物の助けで皮膚を保護し、それによって望ましくない日
焼けを避けることが重要である。
しかしながらその組成物はまた望ましい日焼けを得るた
めに315から400ミリミクロンの範囲内の波長の光
線を通すものである。
めに315から400ミリミクロンの範囲内の波長の光
線を通すものである。
特に、紅斑なしに皮膚の最高の褐色化を付与する340
ミリミクロン近辺の波長の光線を通すことが必要である
。
ミリミクロン近辺の波長の光線を通すことが必要である
。
従って、保護剤は280−315ミリミクロンのあいだ
で高度の吸収力そして315ミリミクロン以上で弱い吸
収力を発揮しなければならない。
で高度の吸収力そして315ミリミクロン以上で弱い吸
収力を発揮しなければならない。
この臨界的吸収力に加えて、保護剤は他の性質を有しな
ければならず、特にそれは外部要素に対しよい抵抗性を
発揮しなければならず、即ちよい光化学的安定性、よい
熱安定性を発揮しなげればならず、そして発汗によりあ
るいは少なくとも洗滌により除去されまたは分解されな
いような皮膚に対する充分な親和性および充分な化学安
定性を有しなければならない。
ければならず、特にそれは外部要素に対しよい抵抗性を
発揮しなければならず、即ちよい光化学的安定性、よい
熱安定性を発揮しなげればならず、そして発汗によりあ
るいは少なくとも洗滌により除去されまたは分解されな
いような皮膚に対する充分な親和性および充分な化学安
定性を有しなければならない。
更に、各種の化粧製剤、とりわけ、たとえば着色毛髪染
料およびラッカー、シャンプーおよび着色、ヤーセット
ローションのような毛髪用組成物、およびたとえば爪エ
ナメル組成物や着色クリームのような或る種の他の化粧
組成物中にしばしば含有されている或る種の染料は必ず
しも充分な光安定性を有するとはかぎらないことも知ら
れている。
料およびラッカー、シャンプーおよび着色、ヤーセット
ローションのような毛髪用組成物、およびたとえば爪エ
ナメル組成物や着色クリームのような或る種の他の化粧
組成物中にしばしば含有されている或る種の染料は必ず
しも充分な光安定性を有するとはかぎらないことも知ら
れている。
それら化粧組成物は透明ガラスまたは透明プラスチック
容器中に包装された溶液、乳液、ゲル、懸濁液または分
散液の形でしばしば供され、従って使用中のみならず保
存中にもまた光線にさらされうる。
容器中に包装された溶液、乳液、ゲル、懸濁液または分
散液の形でしばしば供され、従って使用中のみならず保
存中にもまた光線にさらされうる。
ヘヤーラッカーは特に消費者が所望の色を見て、選択て
きるように透明蒸気化容器中にしばしば包装される。
きるように透明蒸気化容器中にしばしば包装される。
それら化粧組成物の染料成分の多く、特にたとえばクリ
スタルバイオレット、メチルバイオレツトおよびメチル
グリーンの使用の場合には光線に対する充分な安定性を
有しないので、そのような化粧組成物は急速な劣化をし
ばしば受けることが知られている。
スタルバイオレット、メチルバイオレツトおよびメチル
グリーンの使用の場合には光線に対する充分な安定性を
有しないので、そのような化粧組成物は急速な劣化をし
ばしば受けることが知られている。
この欠点はまた他の多数の染料でまた経験され、それら
はある濃度条件下では安定であるけれども、比較的低い
濃度で使用されるときには著しい光感受性を発揮する。
はある濃度条件下では安定であるけれども、比較的低い
濃度で使用されるときには著しい光感受性を発揮する。
本質的に無色の化粧組成物たとえば無色の爪エナメルは
若干の変化を経験し、そして長時間の露光後に黄色にな
ることも観察された。
若干の変化を経験し、そして長時間の露光後に黄色にな
ることも観察された。
従って、着色または無色のそのような化粧組成物は、一
般に僅か数週間程度のある限定された期間のみ貯蔵でき
ることが分った。
般に僅か数週間程度のある限定された期間のみ貯蔵でき
ることが分った。
これらの欠点を克服するために、それら組成物中に光線
を沢過しうる化合物を添加することが提案された。
を沢過しうる化合物を添加することが提案された。
しがしながら、そのような化合物はよい沢過特性を発揮
するばかりでなくそれら化粧組成物中に通常使用される
担体中でよい安定性および充分な溶解性をまた有するも
のでなければならない。
するばかりでなくそれら化粧組成物中に通常使用される
担体中でよい安定性および充分な溶解性をまた有するも
のでなければならない。
本発明は上記の欠点に有効に打ち勝つそれらの異なった
規準を満たす新規化合物を提供する。
規準を満たす新規化合物を提供する。
本発明の目的は、式■
〔式中、
Rは水素又は炭素原子1−12個を有するアルキルを示
し; Yはハロゲン、メチル又は水素を示し;そしてXはハラ
イド、アリールスルホネート、アルキルスルホネート、
カンホスルホネート又はアルキルサルフエートを示す〕
を有する化合物の製造において、 式 (式中、Yは上記定義の通りである)を有するpージメ
チルアミノ安息香酸アルデヒドを不活性溶媒中カンファ
ーのナトリウム塩と縮合させ、生成した第3級アミンを
式RX(RとXは上記定義の通りである)の化合物と反
応させることを特徴とする、上記化合物を製造すること
にある。
し; Yはハロゲン、メチル又は水素を示し;そしてXはハラ
イド、アリールスルホネート、アルキルスルホネート、
カンホスルホネート又はアルキルサルフエートを示す〕
を有する化合物の製造において、 式 (式中、Yは上記定義の通りである)を有するpージメ
チルアミノ安息香酸アルデヒドを不活性溶媒中カンファ
ーのナトリウム塩と縮合させ、生成した第3級アミンを
式RX(RとXは上記定義の通りである)の化合物と反
応させることを特徴とする、上記化合物を製造すること
にある。
式(I)の化合物は非常に興味深い溶解性を発揮し、そ
して或る種の媒質または担体中で式(I)の化合物はペ
ンジリデンカンファーよりも著しくよい溶解性を有する
。
して或る種の媒質または担体中で式(I)の化合物はペ
ンジリデンカンファーよりも著しくよい溶解性を有する
。
たとえば、通常の化粧担体との公知の沢過剤の使用はそ
れらと過剤の不充分な溶解性特徴によってしばしば限定
されることが知られている。
れらと過剤の不充分な溶解性特徴によってしばしば限定
されることが知られている。
しかしながら多数の式(I)の化合物は、水中または水
一アルコール媒質中でのそれらの溶解性がより通常使用
されている沢過剤のいくつかよりも著しく優れているの
で、特に有効である。
一アルコール媒質中でのそれらの溶解性がより通常使用
されている沢過剤のいくつかよりも著しく優れているの
で、特に有効である。
この点を説明するために、次の表は次の化合物の水中、
エタノール中、およひ50:50水一エタノール混合物
中における溶解度の値を示す: (A)4−C(2−オキンー3−ボルニリデン)メチル
〕−フエニルトリメチルアンモニウムメチルスルフエー
ト(式Iの化合物)、 (B)4−((2−オキソー3−ボルニリデン)メチル
〕−フエニルトリメチルアンモニウムp−トルエンスル
ホネート(式Iの化合物)、(C)4−:(2−オキソ
−3−ボルニリデン)メチル〕−フエニルトリメチルア
ンモニウムメタンスルホネート(式■の化合物)、 cD)4−((2−オキソ−3−ボルニリテン)メチル
〕−フエニルトリメチルアンモニウムクロライド(式I
の化合物)、および (E)1・7・7−トJメチル−3−ペンジリデン〔2
・2・1〕ビシクロ−2−ヘプタノン(ペンジリテンカ
ンファー一式■の化合物、通常の抗太陽光線剤)。
エタノール中、およひ50:50水一エタノール混合物
中における溶解度の値を示す: (A)4−C(2−オキンー3−ボルニリデン)メチル
〕−フエニルトリメチルアンモニウムメチルスルフエー
ト(式Iの化合物)、 (B)4−((2−オキソー3−ボルニリデン)メチル
〕−フエニルトリメチルアンモニウムp−トルエンスル
ホネート(式Iの化合物)、(C)4−:(2−オキソ
−3−ボルニリデン)メチル〕−フエニルトリメチルア
ンモニウムメタンスルホネート(式■の化合物)、 cD)4−((2−オキソ−3−ボルニリテン)メチル
〕−フエニルトリメチルアンモニウムクロライド(式I
の化合物)、および (E)1・7・7−トJメチル−3−ペンジリデン〔2
・2・1〕ビシクロ−2−ヘプタノン(ペンジリテンカ
ンファー一式■の化合物、通常の抗太陽光線剤)。
A B
C D E水100ml中の溶解度 10
0% 0.2% 50% 80% 不溶エタ
ノー泣100ml中 70% 1% 50%
95% 14%の溶解度 水50mlxタ/−ル 100% 10% 5
0% 120% 0.5%50ml中の溶解度 従って、本発明の化合物はペンジリデン力ンフアーより
も一般によい水中およひ50−50水一エタノール中に
おける溶解性特徴を有することが認められうる。
C D E水100ml中の溶解度 10
0% 0.2% 50% 80% 不溶エタ
ノー泣100ml中 70% 1% 50%
95% 14%の溶解度 水50mlxタ/−ル 100% 10% 5
0% 120% 0.5%50ml中の溶解度 従って、本発明の化合物はペンジリデン力ンフアーより
も一般によい水中およひ50−50水一エタノール中に
おける溶解性特徴を有することが認められうる。
更に本発明の化合物のそれら溶解性特徴は、皮膚上への
それらの低い保持水準を伴なわない。
それらの低い保持水準を伴なわない。
反対に、本発明の化合物は皮膚に対するそれらの永続性
(substantivity)において著しい改善を
示す。
(substantivity)において著しい改善を
示す。
本発明の式(I)の化合物が高度に望ましい光線吸収特
徴を発揮することは、式(I)の2種の代表化合物(上
記AおよびB)の各々エタノール(96度力価)中の1
.5%溶液中、厚さ0.01mmにおける%透過データ
ーを示す以下の表に認めうるであろう。
徴を発揮することは、式(I)の2種の代表化合物(上
記AおよびB)の各々エタノール(96度力価)中の1
.5%溶液中、厚さ0.01mmにおける%透過データ
ーを示す以下の表に認めうるであろう。
λミリミクロン A%透過 B%透過
270 12 30
275 9 21
280 8 20
285 7.5 19
290 8 20
295 14 30
300 19 41
310 40 58
320 86 85
更に、式(I)の化合物はより熱および光化学安定性を
所有することが認められた。
所有することが認められた。
たとえば、紫外線太陽灯に対する3時間の露出、あるい
は60℃における1週間の光に対する露出は透過曲線を
変化させなかった。
は60℃における1週間の光に対する露出は透過曲線を
変化させなかった。
更に、皮膚毒性試験の結果はそれら化合物の無害性を確
証した。
証した。
式(I)の化合物はヘラー(Haller)の方法に従
い、置換または未置換のp−ジメチルアミノベンズアル
デヒドをカンファーとナトリウムまたは強塩基たとえば
ナトリウムアルコレート、ナトリウムアミドまたはナト
リウムヒドリドとの反応によって製造されたカンファー
のナトリウム塩と、不活性溶媒たとえばベンゼン、トル
エン、エーテル、ジメチルホルムアミドおよびジメトキ
シエタン中で縮合することによって製造できる。
い、置換または未置換のp−ジメチルアミノベンズアル
デヒドをカンファーとナトリウムまたは強塩基たとえば
ナトリウムアルコレート、ナトリウムアミドまたはナト
リウムヒドリドとの反応によって製造されたカンファー
のナトリウム塩と、不活性溶媒たとえばベンゼン、トル
エン、エーテル、ジメチルホルムアミドおよびジメトキ
シエタン中で縮合することによって製造できる。
生成物はついで四級化または造塩に付す。
例1
式■
を有する1・7・7−トリメチル−4−ジメチルアミノ
ー3−ペンジリデン(2・2・1)ビシクロ−2−ヘプ
タノン、即ち4−ジメチルアミノベンジリデンカンファ
ーの製造 無水トルエン中で合成カンファ−577.5P(3.8
モル)およびナトリウムメチレート2051を30分間
還流加熱する。
ー3−ペンジリデン(2・2・1)ビシクロ−2−ヘプ
タノン、即ち4−ジメチルアミノベンジリデンカンファ
ーの製造 無水トルエン中で合成カンファ−577.5P(3.8
モル)およびナトリウムメチレート2051を30分間
還流加熱する。
室温まで冷却した後、p−ジメチルアミノベンズアルデ
ヒド5661を1度に加える。
ヒド5661を1度に加える。
生成した混合物をついで4時間還定加熱し、その後、そ
れを室温まで冷却する。
れを室温まで冷却する。
反芯混合物をついで水で抽出し、トルエン層を回収し、
そして蒸発乾固して、固体の黄色残渣1013gが生成
する。
そして蒸発乾固して、固体の黄色残渣1013gが生成
する。
この残渣をついで無水エタノールうら再結晶して、融点
110℃の輝黄色結晶711gが生成する。
110℃の輝黄色結晶711gが生成する。
尾素分析:
C% H% N%言慎直
80,56 8,83 4.94測定値 80
.54 9。
80,56 8,83 4.94測定値 80
.54 9。
04 4.87式(I)の化合物は例1で製造された
式(I)の4−ジメチルアミノベンジリデンカンファー
から出発し引続く四級化または造塩によって得られるo 使用できる代表的な四級化剤は次のものを包含する: a)アルキルスルフエート、たとえばメチルスルフエー
トまたはエチルスルフエート; b)アルキル置換アルキルスルホネート、たとえばメチ
ルメタンスルホネート、および C)アルキル置換アリールスルホネート、たとえばメチ
ル−p−}ルエンスルホネートまたはメ升ルブロモベン
ゼンスルホネ−J。
式(I)の4−ジメチルアミノベンジリデンカンファー
から出発し引続く四級化または造塩によって得られるo 使用できる代表的な四級化剤は次のものを包含する: a)アルキルスルフエート、たとえばメチルスルフエー
トまたはエチルスルフエート; b)アルキル置換アルキルスルホネート、たとえばメチ
ルメタンスルホネート、および C)アルキル置換アリールスルホネート、たとえばメチ
ル−p−}ルエンスルホネートまたはメ升ルブロモベン
ゼンスルホネ−J。
構造式(I)のアニオンX一はまたアニオン交負により
、たとえば式(I)の化合物をX一以外リア二オンを含
有するアニオン交換樹脂上に通過させることによって得
ることができる。
、たとえば式(I)の化合物をX一以外リア二オンを含
有するアニオン交換樹脂上に通過させることによって得
ることができる。
本発明の組成物はまた、式(I)の水溶性保護剤の1種
もしくはそれ以上を、他の沢過剤たとえば他の水溶性沢
過または抗太陽光線剤の1種もしくはそれ以上、あるい
は脂溶性抗太陽光線剤の1種もしくはそれ以上でさえも
、組合せにおいて含有しうる。
もしくはそれ以上を、他の沢過剤たとえば他の水溶性沢
過または抗太陽光線剤の1種もしくはそれ以上、あるい
は脂溶性抗太陽光線剤の1種もしくはそれ以上でさえも
、組合せにおいて含有しうる。
本発明の組成物が乳液の形で提供されるとき、水溶性お
よび脂溶性の抗太陽光線剤の両方の存在は、保護が乳液
の水性層および油性層の両方に同時に得られるので非常
に有利である。
よび脂溶性の抗太陽光線剤の両方の存在は、保護が乳液
の水性層および油性層の両方に同時に得られるので非常
に有利である。
更に、皮膚に対する本発明の組成物の高度に望ましい親
和性特徴は、組成物が本発明のそれよりも皮膚に対する
実在性に劣る他の水溶性抗太陽光線剤をまた含有すると
きもつと改善されうろことが観察された。
和性特徴は、組成物が本発明のそれよりも皮膚に対する
実在性に劣る他の水溶性抗太陽光線剤をまた含有すると
きもつと改善されうろことが観察された。
次の例は式(I)の化合物の製造および適用を示す:
製造例
例2
次式
の4−C(2−オキソー3−ボルニリデン)メチル〕フ
エニルトリメチルアンモニウムメチルスルフエートの製
造 4〜ジメチルアミノベンジリデンカンファ−(例1で製
造した)750fおよびメチルスルフエー}334Pを
酢酸エチル中で還流まで徐々に加熱する。
エニルトリメチルアンモニウムメチルスルフエートの製
造 4〜ジメチルアミノベンジリデンカンファ−(例1で製
造した)750fおよびメチルスルフエー}334Pを
酢酸エチル中で還流まで徐々に加熱する。
発熱性の沈殿が突然生成し、そしてそれが鎮まったとき
、反応混合物を3時間還流加熱する。
、反応混合物を3時間還流加熱する。
淡黄色の固体が沈殿し、それをついでp過咳し、酢酸エ
チルで洗滌し、そしてベンゼンーアセトニトリル混合物
中で再結晶して、融点210℃の白色生成物866gが
生成する。
チルで洗滌し、そしてベンゼンーアセトニトリル混合物
中で再結晶して、融点210℃の白色生成物866gが
生成する。
元素分析:C2、H3、NO5S分子量409として
C% H% N% S%計算値
61.61 7.58 3,42 7.82測定値
61.31 7,75 3,40 7.93例3 次式 の4−((2−tキシ−3−ボルニリデン)メチル〕フ
エニルトリメチルアンモニウムp−トルエンスルホネー
トの製造 4−ジメチルアミノベンジリデンカンファ一(例1で製
造した)283?およびメチルp−}ルエンスルホネ−
ト186gをトルエン中でよく攪拌しつつ8時間還流加
熱する。
C% H% N% S%計算値
61.61 7.58 3,42 7.82測定値
61.31 7,75 3,40 7.93例3 次式 の4−((2−tキシ−3−ボルニリデン)メチル〕フ
エニルトリメチルアンモニウムp−トルエンスルホネー
トの製造 4−ジメチルアミノベンジリデンカンファ一(例1で製
造した)283?およびメチルp−}ルエンスルホネ−
ト186gをトルエン中でよく攪拌しつつ8時間還流加
熱する。
沈殿した白色固体をつしで沢過し、そして乾燥して、生
成物417gが生成し、それをエタノール中で再結晶し
た後融点305℃を有する白色結晶362gを得る。
成物417gが生成し、それをエタノール中で再結晶し
た後融点305℃を有する白色結晶362gを得る。
元素分析:C27H35NO4S
C% H% N%計算値 6
9,08 7.46 2.98測定値 69.08
7.50 2.90例4 次式 の4−((2−オキソ−3−ボルニリデン)メチル〕フ
エニルトリメチルアンモニウムメタンスルホネートの製
造 例1で製造した4−ジメチルアミノベンジリデンカンフ
ァ−28.3gおよびメチルメタンスルホネート16.
5g の混合物をトルエン50ml中でよ く攪拌しつつ10時間還流加熱する。
9,08 7.46 2.98測定値 69.08
7.50 2.90例4 次式 の4−((2−オキソ−3−ボルニリデン)メチル〕フ
エニルトリメチルアンモニウムメタンスルホネートの製
造 例1で製造した4−ジメチルアミノベンジリデンカンフ
ァ−28.3gおよびメチルメタンスルホネート16.
5g の混合物をトルエン50ml中でよ く攪拌しつつ10時間還流加熱する。
形成した沈殿をつい豐遜し、そしてトルエンで洗滌し、
ついでベンゼンおよびアセトニトリルの混合物中で南晶
化して、融点265℃の白色結晶26.6Pが生成する
。
ついでベンゼンおよびアセトニトリルの混合物中で南晶
化して、融点265℃の白色結晶26.6Pが生成する
。
元素分析;C21H31N04S
C% H% N%
計算値 64.l2 7,88 3.56測淀値 64
.16 7,62 3.53例5 次式 の4−((2−オキソ〜3−ボルニリデン)メチル〕フ
エニルトリメチルアンモニウムクロライドの製造 水20ml中の例2で製造された抗太陽光線剤10gの
溶液をクロライドイオン形のアニオン交換樹脂に負荷す
る。
.16 7,62 3.53例5 次式 の4−((2−オキソ〜3−ボルニリデン)メチル〕フ
エニルトリメチルアンモニウムクロライドの製造 水20ml中の例2で製造された抗太陽光線剤10gの
溶液をクロライドイオン形のアニオン交換樹脂に負荷す
る。
樹脂をついで水で溶出し、そして生成した溶出液を減圧
下乾燥により濃縮する。
下乾燥により濃縮する。
かく得られた固体の残渣をエタノールおよびベンゼンの
混合物中で結晶化して、融点240℃の白色結晶6。
混合物中で結晶化して、融点240℃の白色結晶6。
42が回収される。元素分析:C2oH28CINO
C% H% N% Cl%計
算値 71,96 8.39 4.19 10.64測
定値 71,78 8,37 4.11 10.84例
6 3−メチル−4−((2−オキソー3−ボルニリデン)
メチル〕フエニルトリメチルアンモニウムメチルスルフ
エートの製造 工桐(a):次式 の1・7・7−トリメチル−3−(4−ジメチルアミノ
ー2−メチルベンジリデン)〔2・2・1〕ビシクロ−
2−ヘプタノンの製造 ナトリウム2.31を沸騰トルエン100ml中で激し
く振盪する。
算値 71,96 8.39 4.19 10.64測
定値 71,78 8,37 4.11 10.84例
6 3−メチル−4−((2−オキソー3−ボルニリデン)
メチル〕フエニルトリメチルアンモニウムメチルスルフ
エートの製造 工桐(a):次式 の1・7・7−トリメチル−3−(4−ジメチルアミノ
ー2−メチルベンジリデン)〔2・2・1〕ビシクロ−
2−ヘプタノンの製造 ナトリウム2.31を沸騰トルエン100ml中で激し
く振盪する。
ついでトルエンを傾斜し、そして生成したナトリウム粒
を無水硫酸エーテル100mlで回収する。
を無水硫酸エーテル100mlで回収する。
ついでかく回収されたナトリウム粒に振盪しそして冷却
により温度を25℃に維持しながら、カンファ−15.
2Pを加える。
により温度を25℃に維持しながら、カンファ−15.
2Pを加える。
すべてのナトリウムが反応したとき(4ないし5時間)
、反応混合物を0℃に冷却する。
、反応混合物を0℃に冷却する。
4−ジメチルアミノ−2−メチルベンズアルデヒド16
3グをついで加え、そして生成した混合物を先ず0℃で
3時間、ついでエーテルの還流において30分間振盪す
る。
3グをついで加え、そして生成した混合物を先ず0℃で
3時間、ついでエーテルの還流において30分間振盪す
る。
反応混合物をついで冷却し、その時点で水100mlを
それに加える。
それに加える。
エーテル層をついで分離し、硫酸ナトリウムで乾燥し、
その後エーテルを蒸発する。
その後エーテルを蒸発する。
生成した油状残渣を分画し、そしてlmmHg下に24
3℃で蒸留する画分(23.8g)を回収し、そして硫
酸エーテル中で結晶化により精製できて、融点115℃
の黄色結晶を提供する。
3℃で蒸留する画分(23.8g)を回収し、そして硫
酸エーテル中で結晶化により精製できて、融点115℃
の黄色結晶を提供する。
元素分析;C2oH27NO
C% H% N%
計算値 80.81 9,09 4.71測定値 80
.88 8,83 4.59工程(b):次式 の3−メチル−4−((2−オキソ−3−ボルニリデン
)メチル〕−フエニルトリメチルアンモニウムメチルス
ルフエートの製造 工程(a)で製造した化合物14.9gおよびメチルス
ルフエート6.3gを酢酸エチル中で3時間還流まで徐
々に加熱する。
.88 8,83 4.59工程(b):次式 の3−メチル−4−((2−オキソ−3−ボルニリデン
)メチル〕−フエニルトリメチルアンモニウムメチルス
ルフエートの製造 工程(a)で製造した化合物14.9gおよびメチルス
ルフエート6.3gを酢酸エチル中で3時間還流まで徐
々に加熱する。
生成した白色固体をついで涙過し、そして酢酸エチルで
洗滌して、融点245℃の白色結晶12iが生成する。
洗滌して、融点245℃の白色結晶12iが生成する。
元素分析;C22H33NO5S
C% H% N% S%計算
値 62.41 7.80 3,31 7.56測定値
61,78 7,88 3,24 7.63例7 3−クロロー4−C(2−オキソー3−ボルニリデン)
メチル〕フエニルトリメチルアンモニウムメチルスルフ
エートの製造 王稲(a):次式 の1・7・7−トリメチル−3−(1−ジメチルアミノ
−2−クロロペンジリデン)一〔2・2・1〕−ビシク
ロ−2−ヘプタノンの製造乾燥トルエン150ml中の
カンファ−76gおよびナトリウムアミド19.5gの
混合物を3時間還流しつつ振盪する。
値 62.41 7.80 3,31 7.56測定値
61,78 7,88 3,24 7.63例7 3−クロロー4−C(2−オキソー3−ボルニリデン)
メチル〕フエニルトリメチルアンモニウムメチルスルフ
エートの製造 王稲(a):次式 の1・7・7−トリメチル−3−(1−ジメチルアミノ
−2−クロロペンジリデン)一〔2・2・1〕−ビシク
ロ−2−ヘプタノンの製造乾燥トルエン150ml中の
カンファ−76gおよびナトリウムアミド19.5gの
混合物を3時間還流しつつ振盪する。
室温に冷却した後、ついで0−クロローp−ジメチルア
ミノベンズアルテヒド92gを加える。
ミノベンズアルテヒド92gを加える。
生成した混合物をいで5時間還流加熱する。
その後、混合物を冷却し、そして冷却された混合物に水
約400mlを加える。
約400mlを加える。
ついでトルエン層を分離し、乾燥し、そして濃縮乾固す
る。
る。
生成した残渣をイングロパノール中で結晶化して、融点
128℃の黄色結晶82gが生成する。
128℃の黄色結晶82gが生成する。
元素分析;C19H24NOCI
C% H% N%
計算値 71,81 7,56 4.41測定値 71
.53 7,90 4.38工桐(b):次式 の3−クロロ−4−((2−オキソ−3−ボルニリテン
)メチル〕−フエニルトリメチルアンモニウムメチルス
ルフエートの製造 アセトニトリル400ml中の工程(a)の生成物42
gおよびメチルスルフエー}15.2gの混合物を12
時間還流加熱する。
.53 7,90 4.38工桐(b):次式 の3−クロロ−4−((2−オキソ−3−ボルニリテン
)メチル〕−フエニルトリメチルアンモニウムメチルス
ルフエートの製造 アセトニトリル400ml中の工程(a)の生成物42
gおよびメチルスルフエー}15.2gの混合物を12
時間還流加熱する。
生成した沈殿をついで沢過し、そしてベンゼンおよびア
セトニトリルの混合物中で結晶化して、融点210℃の
淡黄色板状晶が生成する。
セトニトリルの混合物中で結晶化して、融点210℃の
淡黄色板状晶が生成する。
元素分析:C21H30NO6CIS
N% S%
言Y直 3。
16 7.19測定値 3.12 7.18
例8
次式
の4−〔(2−オキンー3−ボルニリデン)メチル〕−
フエニルトリメチルアンモニウムカンホスルホネートの
製造 4−ジメチルアミノーベンジリデンーカンファ=(例1
で製造した)56.6fおよびメチルカンファースルホ
ネート4g,2Pを酢酸エチル300ml中、そしてよ
く攪拌しつつ15時間還流加熱する。
フエニルトリメチルアンモニウムカンホスルホネートの
製造 4−ジメチルアミノーベンジリデンーカンファ=(例1
で製造した)56.6fおよびメチルカンファースルホ
ネート4g,2Pを酢酸エチル300ml中、そしてよ
く攪拌しつつ15時間還流加熱する。
室温まで冷却した後、沈殿を沢過し、そして酢酸エチル
で洗滌し、ついでトルエンーアセトニ〉トリル混合物中
で再結晶して、融点265℃の雪白色結晶73iが生成
する。
で洗滌し、ついでトルエンーアセトニ〉トリル混合物中
で再結晶して、融点265℃の雪白色結晶73iが生成
する。
元素分析;C3oH4305NS
C% H% N% S%言慎
値 68,05 8.13 2,64 6.05測淀値
68,00 8.11 2,51 6.29例9 次式 の4−((2−オキソー3−ボルニリデン)メチル〕−
フエニルジメチルエチルアンモニウムエチルスルフエー
トの製造 4−ジメチルアミノーベンジリデンーカンファ=(例l
で製潰した)14gおよびジエチルスルフエート8gを
酢酸エチル100m!中でよく攪拌しつつ6時間還流加
熱する。
値 68,05 8.13 2,64 6.05測淀値
68,00 8.11 2,51 6.29例9 次式 の4−((2−オキソー3−ボルニリデン)メチル〕−
フエニルジメチルエチルアンモニウムエチルスルフエー
トの製造 4−ジメチルアミノーベンジリデンーカンファ=(例l
で製潰した)14gおよびジエチルスルフエート8gを
酢酸エチル100m!中でよく攪拌しつつ6時間還流加
熱する。
室温に冷却した後、沈殿を炉過し、そして酢酸エチルで
洗滌して、融点126−127℃のヒドロスコビック白
色結晶969Nが生成する。
洗滌して、融点126−127℃のヒドロスコビック白
色結晶969Nが生成する。
元素分析:
N% S%
計算値 3,21 7.32
測定値 2,93 7.52
例■0
次式
の4−((2−オキソー3−ボルニリデン)メチル〕−
フエニルジメチルドデシルアンモニウム)一}ルエンス
ルホネート製造 4−ジメチルアミノ−ベンジリデンーカンファ一(例1
で製造した)2、8gおよびラウトルトシレート3.4
gを130−140℃の温度で6.5時間加熱する。
フエニルジメチルドデシルアンモニウム)一}ルエンス
ルホネート製造 4−ジメチルアミノ−ベンジリデンーカンファ一(例1
で製造した)2、8gおよびラウトルトシレート3.4
gを130−140℃の温度で6.5時間加熱する。
全反応混合物をついで充分な量のインプロパノールに溶
かし、ついでイングロパノールを蒸発して、融点135
℃の上記式の生成物の白色結晶4.61が生成する。
かし、ついでイングロパノールを蒸発して、融点135
℃の上記式の生成物の白色結晶4.61が生成する。
元素分析;
N% S%
計算値 2,25 5.13
測定値 2.32 5.69
Rが水素原子を示す化合物は式(I)の化合物に対応す
る第三級アミンのプロトン化、たとえば強酸との反応に
よって得られる。
る第三級アミンのプロトン化、たとえば強酸との反応に
よって得られる。
使用例
例11
抗太陽光線ローションを次のように製造する:ラノリン
2,5gt‘ルヒドロキシ
アニソール 0.025?プチルヒドロキシトルエン
0.025?オクチルガレート o.
o125v炭素原子8−12個を有する 40
?脂肪酸のトリグリセライド 香料 1.25P4−((
2−オキソー3−ボ 4グルニリデン)メチ
ル〕−フェ ニルトリメチルアンモニウム メチルスルフエート エタノール(96度力価)、 全量1001適量 例12 抗太陽光線ローションを次のように製造する:グリセリ
ン 5グポリエチレングリ
コー#(分子 0.59量−400) エトキシル化ラノリン 12香料(溶
解性> 2I4−((2−オキ
ソー3−ボル 21ニリデン)メチル〕−フエ
ニル トリメチルアンモニウムメチル スルフエート エチルアルコール(96°力価) 50f水、適量
全量1009例13 抗太陽光線エアロゾル調合物を次のように製造する: 無水エチルアルコール 30?イソプロ
ピルミリステート 20グリシン油
2グラノリン
51香料
1グ4−((2−オキソ−3−ボルニリデン)
2?メチル〕−フエニルトリメチルアンモニ ウムメチルスルフエート ジクロ口ジフルオロメタン 402上
記組成物を通常のエアロゾール容器中に加圧下に包装す
る。
2,5gt‘ルヒドロキシ
アニソール 0.025?プチルヒドロキシトルエン
0.025?オクチルガレート o.
o125v炭素原子8−12個を有する 40
?脂肪酸のトリグリセライド 香料 1.25P4−((
2−オキソー3−ボ 4グルニリデン)メチ
ル〕−フェ ニルトリメチルアンモニウム メチルスルフエート エタノール(96度力価)、 全量1001適量 例12 抗太陽光線ローションを次のように製造する:グリセリ
ン 5グポリエチレングリ
コー#(分子 0.59量−400) エトキシル化ラノリン 12香料(溶
解性> 2I4−((2−オキ
ソー3−ボル 21ニリデン)メチル〕−フエ
ニル トリメチルアンモニウムメチル スルフエート エチルアルコール(96°力価) 50f水、適量
全量1009例13 抗太陽光線エアロゾル調合物を次のように製造する: 無水エチルアルコール 30?イソプロ
ピルミリステート 20グリシン油
2グラノリン
51香料
1グ4−((2−オキソ−3−ボルニリデン)
2?メチル〕−フエニルトリメチルアンモニ ウムメチルスルフエート ジクロ口ジフルオロメタン 402上
記組成物を通常のエアロゾール容器中に加圧下に包装す
る。
例14
抗太陽光線フォーム組成物を次のように製造する:
シポールワックス(sipol wax) 3.5?ワ
セリン油 62イソ
プロピルミリステート 32防腐剤
〔ニパ(Nipa)エステ 0.3グル825
21)(ヒド七キシ安 息香酸のメチル、エチル、プチ ル、およびベンジルエステル混 合物) グリセリン 102香
料 0.324−
((2−オキソー3−ボル 2.5vニリデ
ン)メチル〕−フエニル トリメチルアンモニウムメチル スルフエート 水・適量 全量1002ジ
クロロジフルオロメタン 15g上記
組成物を通常のエアロゾル容器中に加圧下に包装した。
セリン油 62イソ
プロピルミリステート 32防腐剤
〔ニパ(Nipa)エステ 0.3グル825
21)(ヒド七キシ安 息香酸のメチル、エチル、プチ ル、およびベンジルエステル混 合物) グリセリン 102香
料 0.324−
((2−オキソー3−ボル 2.5vニリデ
ン)メチル〕−フエニル トリメチルアンモニウムメチル スルフエート 水・適量 全量1002ジ
クロロジフルオロメタン 15g上記
組成物を通常のエアロゾル容器中に加圧下に包装した。
例15
抗太陽光線クリームを次のように製造する:セチルステ
アリルアルコール 2pグリセロルモ
ノステアレート 47セチルアルコー
ル 42ワセリン油
52ブチルステアレート
52プロピレングリコール
7グシリコン油
0.125?商標名11ポリオソクス
3.51(POLYOX)”として販 売されている分子量 100000〜 1000000を有するエ チレンオキサイドポリマー 防腐剤(ニパエステル 0.318
2521) 香料 0.424
−((2−オキソー3− 42ボル
ニリデン)メチル〕− フェニルトリメチルアンモ ニウムメチルスルフェート 水、適量 全量100P例
16 抗太陽光線ミルクを次のように製造する:シポールワッ
クス 5グワセリン油
61イソプロピルミリ
ステート 31シリコン油
1グセチルアルコール
1ググリセリン
201防腐剤(“ニパエステル
0.3y82521) 香料 0.3y4
−C(2−オキソ−3−ボル 3グニリ
デン)メチル〕−フエニル トリメチルアンモニウムメチル スルフエート 水、適量 全量100g例
17 着色へヤーセットローションを次のように製造する: ビニールピロリドンービニ 2グー
ルアセテ−1(70/30) のコポリマー(分子量 40000) ダイ=ブルー・ビクトリア o.ooig(
Dye−Blue Victoria)BSA.CI4
4045 エチルアルコール 50グト
リエタノールアミン、適 pH7量 4−C(2−オキソー3− 0.22ボ
ルニリデン)メチル〕− フエニルトリメチルアンモ ニウムメチルスルフエート 水、適量 全量100cc例18 着色へヤーセットローションを次のように製造する: クロトン酸一ビニールアセテ 21ート(1
0/90)のコポリ マー(分子量50000) (テ・ラクロロエタン中の5 重量%溶液中で35℃におい て7−9cpsの粘度を有する) 染料−CIベーシック・パイ 0.0IPオレット
(Basic Violet) No.3、CI42555 エチルアルコール 50?トリエタ
ノールアミン、適量 pH74−((2−オキ
ソ−3−ボ 0.2グルニリデン)メチル〕−フ
エ ニルトリメチルアンモニウム p−トルエンスルホネート 水、適量 全量100cc例19 中程度の保護作用を有する抗太陽光線ミルクを次のよう
に製造する: エチレンオキサイド25モルと 57縮合した
セチルステアリルアル コーレ セチルアルコール 122−:0
チルドデシルアルコ− 151レ 1コテソク/(Codex)”型ワ 5グセリン油 ルーサン(Lucern)の不ケン 0.29化物 ペンジリテンーカンファ− 124−((
2−オキンー3−ボル 2.51ニリデン)メチル
〕−フエニル トリメチルアンモニウムメチル スルフエート 防腐剤“ニパエステル82521” 2.5P(p−ヒ
ドロキシ安息香酸のメ チル、エチル、ブチルおよびベ ンジル−エステルの混合物) 香料 0.52水、適量
全量10CI例20 強い保護作用を有する抗太陽光線クリームを次のように
製造する: 水素化ポリオキシエチレン化パ 5グーム油 エチレンオキサイド15モルと 52縮合した
セチルステアリルアル コーレ ラノリン 3グラノリン
のアルコール lグターネソール油(
Turnesol 5?oil) ワセリン油 102ベンジリ
テンカンファ− 2.514−((2−オキ
ソー3−ボル 41ニリデン)メチル〕−フエ
ニル トリメチルアンモニウムメチル スルフェート 防腐剤1ニパエステル82521” 適量プロピレ
ングリコール 5y香料
0.5グ水、適量
全量1001式(I)の各化合物または化合物の
混合物は例11ないし20の化粧組成物の各1つ中に該
組成物の重量に基づき0.05−10%の量において使
用できる。
アリルアルコール 2pグリセロルモ
ノステアレート 47セチルアルコー
ル 42ワセリン油
52ブチルステアレート
52プロピレングリコール
7グシリコン油
0.125?商標名11ポリオソクス
3.51(POLYOX)”として販 売されている分子量 100000〜 1000000を有するエ チレンオキサイドポリマー 防腐剤(ニパエステル 0.318
2521) 香料 0.424
−((2−オキソー3− 42ボル
ニリデン)メチル〕− フェニルトリメチルアンモ ニウムメチルスルフェート 水、適量 全量100P例
16 抗太陽光線ミルクを次のように製造する:シポールワッ
クス 5グワセリン油
61イソプロピルミリ
ステート 31シリコン油
1グセチルアルコール
1ググリセリン
201防腐剤(“ニパエステル
0.3y82521) 香料 0.3y4
−C(2−オキソ−3−ボル 3グニリ
デン)メチル〕−フエニル トリメチルアンモニウムメチル スルフエート 水、適量 全量100g例
17 着色へヤーセットローションを次のように製造する: ビニールピロリドンービニ 2グー
ルアセテ−1(70/30) のコポリマー(分子量 40000) ダイ=ブルー・ビクトリア o.ooig(
Dye−Blue Victoria)BSA.CI4
4045 エチルアルコール 50グト
リエタノールアミン、適 pH7量 4−C(2−オキソー3− 0.22ボ
ルニリデン)メチル〕− フエニルトリメチルアンモ ニウムメチルスルフエート 水、適量 全量100cc例18 着色へヤーセットローションを次のように製造する: クロトン酸一ビニールアセテ 21ート(1
0/90)のコポリ マー(分子量50000) (テ・ラクロロエタン中の5 重量%溶液中で35℃におい て7−9cpsの粘度を有する) 染料−CIベーシック・パイ 0.0IPオレット
(Basic Violet) No.3、CI42555 エチルアルコール 50?トリエタ
ノールアミン、適量 pH74−((2−オキ
ソ−3−ボ 0.2グルニリデン)メチル〕−フ
エ ニルトリメチルアンモニウム p−トルエンスルホネート 水、適量 全量100cc例19 中程度の保護作用を有する抗太陽光線ミルクを次のよう
に製造する: エチレンオキサイド25モルと 57縮合した
セチルステアリルアル コーレ セチルアルコール 122−:0
チルドデシルアルコ− 151レ 1コテソク/(Codex)”型ワ 5グセリン油 ルーサン(Lucern)の不ケン 0.29化物 ペンジリテンーカンファ− 124−((
2−オキンー3−ボル 2.51ニリデン)メチル
〕−フエニル トリメチルアンモニウムメチル スルフエート 防腐剤“ニパエステル82521” 2.5P(p−ヒ
ドロキシ安息香酸のメ チル、エチル、ブチルおよびベ ンジル−エステルの混合物) 香料 0.52水、適量
全量10CI例20 強い保護作用を有する抗太陽光線クリームを次のように
製造する: 水素化ポリオキシエチレン化パ 5グーム油 エチレンオキサイド15モルと 52縮合した
セチルステアリルアル コーレ ラノリン 3グラノリン
のアルコール lグターネソール油(
Turnesol 5?oil) ワセリン油 102ベンジリ
テンカンファ− 2.514−((2−オキ
ソー3−ボル 41ニリデン)メチル〕−フエ
ニル トリメチルアンモニウムメチル スルフェート 防腐剤1ニパエステル82521” 適量プロピレ
ングリコール 5y香料
0.5グ水、適量
全量1001式(I)の各化合物または化合物の
混合物は例11ないし20の化粧組成物の各1つ中に該
組成物の重量に基づき0.05−10%の量において使
用できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 〔式中、 Rは水素又は炭素原子1−12個を有するアルキル基で
あり; Yはハロゲン、メチル又は水素であり; Xはハライド、アリールスルホネート、アルキルスルホ
ネート、カンホスルホネート又はアルキルサルフエート
である〕 を有する化合物の製造において、式 〔式中、 Yは上記定義の通りである〕 を有するp−ジメチルアミノ安息香酸アルデヒドを不活
性溶媒中カンファーのナトリウム塩と縮合させ、生成し
た第3級アミンを式RX(式中、RとXは上記定義の通
りである)の化合物と反応させることを特徴とする、上
記化合物の製造法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| LU66156 | 1972-09-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57163349A JPS57163349A (en) | 1982-10-07 |
| JPS589091B2 true JPS589091B2 (ja) | 1983-02-18 |
Family
ID=19727161
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10683773A Expired JPS5939404B2 (ja) | 1972-09-25 | 1973-09-21 | 抗太陽光線性化粧組成物 |
| JP1341982A Expired JPS589091B2 (ja) | 1972-09-25 | 1982-02-01 | ベンジリデンカンフア−誘導体の製造法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10683773A Expired JPS5939404B2 (ja) | 1972-09-25 | 1973-09-21 | 抗太陽光線性化粧組成物 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JPS5939404B2 (ja) |
| BE (1) | BE805203A (ja) |
| CA (1) | CA1015371A (ja) |
| CH (2) | CH588282A5 (ja) |
| DE (1) | DE2347928C2 (ja) |
| ES (1) | ES419029A1 (ja) |
| FR (1) | FR2199971B1 (ja) |
| GB (1) | GB1387520A (ja) |
| IT (1) | IT1048424B (ja) |
| LU (1) | LU66156A1 (ja) |
| NL (1) | NL177399C (ja) |
| SE (2) | SE394999B (ja) |
Families Citing this family (16)
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