JPS5946149A - 電磁式粉砕混合等処理装置 - Google Patents
電磁式粉砕混合等処理装置Info
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- JPS5946149A JPS5946149A JP15534982A JP15534982A JPS5946149A JP S5946149 A JPS5946149 A JP S5946149A JP 15534982 A JP15534982 A JP 15534982A JP 15534982 A JP15534982 A JP 15534982A JP S5946149 A JPS5946149 A JP S5946149A
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- processing container
- processing
- container
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は固体、粉体、液体等の彼処理物と一諸に強磁
性あるいは非磁性導電材で作られたワーキングピースを
処理容器内に収容し、これに外部より移動磁界を作用さ
せることによってワーキングピースに激しいランダム運
動を生起させて、被処理物の粉砕、混合、攪拌等の処理
を行う電磁式処理装置の改良に関する。
性あるいは非磁性導電材で作られたワーキングピースを
処理容器内に収容し、これに外部より移動磁界を作用さ
せることによってワーキングピースに激しいランダム運
動を生起させて、被処理物の粉砕、混合、攪拌等の処理
を行う電磁式処理装置の改良に関する。
この種の処理装置として第１図および第２図に示すよう
な装置がすでに提案されている。すなわち第１図におい
て、１は被処理物２とともに強磁性あるいは非磁性導電
材で作られた例えばスピンドル形状の多数のワーキング
ピース３を収容した処理容器であり、この容器１を中央
に挟んで、その上下には移動磁界発生装置４、５が対向
配置されており、その発生磁界の移動方向は矢印φ１、
φ２で示すように互に逆方向に定められている。この移
動磁界発生装置４、５はいわゆるリニアモータとしてよ
く知られており、（以下「移動磁界発生装置」を「リニ
アモータ」と呼称する。）例えば３相交流巻線６を鉄心
７に沿って多極を形成するように巻装して構成され、多
相交流電源より給電を受けて移動磁界φ１とφ２を生成
する。
な装置がすでに提案されている。すなわち第１図におい
て、１は被処理物２とともに強磁性あるいは非磁性導電
材で作られた例えばスピンドル形状の多数のワーキング
ピース３を収容した処理容器であり、この容器１を中央
に挟んで、その上下には移動磁界発生装置４、５が対向
配置されており、その発生磁界の移動方向は矢印φ１、
φ２で示すように互に逆方向に定められている。この移
動磁界発生装置４、５はいわゆるリニアモータとしてよ
く知られており、（以下「移動磁界発生装置」を「リニ
アモータ」と呼称する。）例えば３相交流巻線６を鉄心
７に沿って多極を形成するように巻装して構成され、多
相交流電源より給電を受けて移動磁界φ１とφ２を生成
する。
第１図の構成により、移動磁界φ１とφ２の作用する磁
場の中に置かれたワーイングピース３は磁化および渦電
流の作用による電磁力が働き、ワーキングピー３はそれ
自身の重心のまわりで回転運動を行うとともに、移動磁
界φ１、φ２によるその移動磁界方向に向けての推進力
および浮上力に加えて、ワーキングピース同士の衝突、
容器壁面との間の衝突も加わって、容器１の中で激しく
ランダムな運動を生起する。そしてこのランダム運動に
より、被処理物２はワーキングピース３との衝突等によ
り粉砕あるいは混合、攪拌が進行する。
場の中に置かれたワーイングピース３は磁化および渦電
流の作用による電磁力が働き、ワーキングピー３はそれ
自身の重心のまわりで回転運動を行うとともに、移動磁
界φ１、φ２によるその移動磁界方向に向けての推進力
および浮上力に加えて、ワーキングピース同士の衝突、
容器壁面との間の衝突も加わって、容器１の中で激しく
ランダムな運動を生起する。そしてこのランダム運動に
より、被処理物２はワーキングピース３との衝突等によ
り粉砕あるいは混合、攪拌が進行する。
ところで、前記処理容器１が置かれるリニアモータ４と
５との間の磁場空間における磁界強度の分布についての
解析を行ったところによれば、第３図に示すような磁界
分布を示すことが明らかになった。ここでリニアモータ
４、５はＵ、Ｖ、Ｗ３相の交流巻線が施されており、か
つともに同じ周波数の交流電源で励磁されるものとする
。すなわち鉄心７に巻装された巻線６の極ピッチをＰと
すれば、処理容器内の作用空間における磁界は、時間の
経過に関係なく定常的に、その絶対値が移動磁界方向に
沿って極ピッチＰの１／２の間隔で強、弱をくり返すよ
うな分布となる。このような磁界分布は、リニアモータ
４、５の各相巻線電流とこれによって生起される磁界の
関係を時間の進行にしたがって遂時追跡することによっ
て求められ、またこの分布は実際に測定した磁界分布と
も一致する。ここで前記の強磁界領域の中心をＡ、弱磁
界領域の中心をＢとして表わすと、ＡとＢが移動磁界方
向に沿って１／２極ピッチ間隔で交互に並ぶようになる
。
５との間の磁場空間における磁界強度の分布についての
解析を行ったところによれば、第３図に示すような磁界
分布を示すことが明らかになった。ここでリニアモータ
４、５はＵ、Ｖ、Ｗ３相の交流巻線が施されており、か
つともに同じ周波数の交流電源で励磁されるものとする
。すなわち鉄心７に巻装された巻線６の極ピッチをＰと
すれば、処理容器内の作用空間における磁界は、時間の
経過に関係なく定常的に、その絶対値が移動磁界方向に
沿って極ピッチＰの１／２の間隔で強、弱をくり返すよ
うな分布となる。このような磁界分布は、リニアモータ
４、５の各相巻線電流とこれによって生起される磁界の
関係を時間の進行にしたがって遂時追跡することによっ
て求められ、またこの分布は実際に測定した磁界分布と
も一致する。ここで前記の強磁界領域の中心をＡ、弱磁
界領域の中心をＢとして表わすと、ＡとＢが移動磁界方
向に沿って１／２極ピッチ間隔で交互に並ぶようになる
。
また、上記の磁界分布のもとで処理容器内を運動するワ
ーキンクピースの動きを高速度カメラで観察すると、ワ
ーキンクピースは強磁界領域では激しくランダム運動す
るが、弱磁界領域ではワーキングピースの動きが緩慢に
なることが認められた。この観察結果はそのまま実際に
砕料の粉砕処理を行った場合にも当てはまり、実機運転
テストからも、弱磁界領域に位置する処理容器１の四隅
では、粉砕動作が十分に進行せず、この部分に粒度の大
きな砕料がそのまま多く滞留していることが認められる
。つまり、第１図に示したこの種の処理装置は、一見し
たところでは処理容器内の全域で処理動作が均一に行わ
れているかのように見えるが、厳密に考察すると、容器
内には定常的に磁界強度が弱く、このためにワーキング
ピースの運動が活発でない不動作空間が部分的に存在し
ていることが明らかになった。
ーキンクピースの動きを高速度カメラで観察すると、ワ
ーキンクピースは強磁界領域では激しくランダム運動す
るが、弱磁界領域ではワーキングピースの動きが緩慢に
なることが認められた。この観察結果はそのまま実際に
砕料の粉砕処理を行った場合にも当てはまり、実機運転
テストからも、弱磁界領域に位置する処理容器１の四隅
では、粉砕動作が十分に進行せず、この部分に粒度の大
きな砕料がそのまま多く滞留していることが認められる
。つまり、第１図に示したこの種の処理装置は、一見し
たところでは処理容器内の全域で処理動作が均一に行わ
れているかのように見えるが、厳密に考察すると、容器
内には定常的に磁界強度が弱く、このためにワーキング
ピースの運動が活発でない不動作空間が部分的に存在し
ていることが明らかになった。
一方、上記装置の処理動作中は、処理容器内部でのワー
キングピースと砕料等の被処理物とが激しく衝突、こす
り合うことに加え、容器との間でも衝突、こすり合いが
くり返し行われることから、この動作による摩擦熱が生
じて処理容器自身、およびその内不温度がかなり昇温す
ることが認められている。このために処理容器の熱変形
、寿命低下を来たす恐れがあるし、また被粉砕物、被混
合物等の種類によっては、高温にさらされて変質してし
まうものもあり、このような場合にはできるだけ処理容
器、およびその内部の熱放散を助成し、過度な温度上昇
を抑制することが必要となる。かかる点、従来装置では
、一般にブロア等を用いて処理容器の周域に冷却風を強
制的に送り、冷却を図っているが、この方式では処理容
器を十分冷却することができても、その内部に収容され
ている被処理物に対する十分な冷却を行うことができな
いため、この点の改善策が望まれている。他方、特別な
例として種類の異なる液体の攪拌を高温度の下で行うの
が好ましい場合がある。この場合には処理容器の周囲に
熱風で送風することで対処していたが、しかし処理容器
内の中央域にまで十分に熱を与えることが困難である。
キングピースと砕料等の被処理物とが激しく衝突、こす
り合うことに加え、容器との間でも衝突、こすり合いが
くり返し行われることから、この動作による摩擦熱が生
じて処理容器自身、およびその内不温度がかなり昇温す
ることが認められている。このために処理容器の熱変形
、寿命低下を来たす恐れがあるし、また被粉砕物、被混
合物等の種類によっては、高温にさらされて変質してし
まうものもあり、このような場合にはできるだけ処理容
器、およびその内部の熱放散を助成し、過度な温度上昇
を抑制することが必要となる。かかる点、従来装置では
、一般にブロア等を用いて処理容器の周域に冷却風を強
制的に送り、冷却を図っているが、この方式では処理容
器を十分冷却することができても、その内部に収容され
ている被処理物に対する十分な冷却を行うことができな
いため、この点の改善策が望まれている。他方、特別な
例として種類の異なる液体の攪拌を高温度の下で行うの
が好ましい場合がある。この場合には処理容器の周囲に
熱風で送風することで対処していたが、しかし処理容器
内の中央域にまで十分に熱を与えることが困難である。
この発明は上記の点にかんがみなされたものであり、そ
の目的は粉砕、混合等の処理性能を殆ど損うことなしに
、処理容器内の作用空間の冷却ないしは必要に応じての
加熱を効果的に行えるようにした電磁式粉砕混合等処理
装置を得ることにある。
の目的は粉砕、混合等の処理性能を殆ど損うことなしに
、処理容器内の作用空間の冷却ないしは必要に応じての
加熱を効果的に行えるようにした電磁式粉砕混合等処理
装置を得ることにある。
かかる目的は、この発明により、移動磁界発生装置の極
ピッチ間隔に対応して処理容器内に定常的に生じる各弱
磁界領或を設置箇所としてここに容器内部を仕切る二重
仕切壁を設け、この二重仕切壁の壁と壁との間に処理容
器を横切る冷却あるいは加熱体流通路を画成したことに
より達成される。
ピッチ間隔に対応して処理容器内に定常的に生じる各弱
磁界領或を設置箇所としてここに容器内部を仕切る二重
仕切壁を設け、この二重仕切壁の壁と壁との間に処理容
器を横切る冷却あるいは加熱体流通路を画成したことに
より達成される。
以下この発明を図示実施例に基づき詳述する。
まず第４図および第５図において、リニアモータ４、５
の巻線１に付した符号Ｕ、Ｖ、Ｗ、Ｕ′、Ｖ′、Ｗ′は
三相交流巻線の電磁方向と相順を表わしている。そして
同相の巻線が上下で対向するＢ領域では、リニアモータ
４と５の磁界が互に打ち消し合うように作用するので、
第３図で述べたように該部に定常的な弱磁界領域が生じ
る。またこの弱磁界領域はリニアモータの極ピッチＰの
間隔ごとに生成される。ところでこの発明により、上記
の弱磁界領域を占有するように位置を合わせて、この部
分に処理容器１の内部を移動磁界方向φ１、φ２に沿っ
て区分するような二重の仕切壁８Ａと８Ｂからなる中仕
切壁８が設置してあり、この二重仕切壁と８Ａと８Ｂの
間に容器１の内部を横切る断面巾ｄの通風路９が画成さ
れている。そして冷却媒体としての冷却風が第５図のよ
うに側方よりブロア１０によって強制送風され、処理容
器内部の発生熱を効率よく除熱する。また特別な処理の
場合として、処理容器１内部の作動空間を高温に保つ必
要のある場合には、前記の冷却風の代りに熱風を送り込
めばよい。なお冷却、加熱媒体は気体に限るものではな
く、液体であってもよい。この場合には、前記の通路９
に外部の熱媒液ラインが接続配管される。また通路９に
面する仕切壁８Ａと８Ｂにフィンを設けておくことによ
り、より一層の熱交換効率の向上が図れる。しかも前記
の二重壁構造の中仕切壁８は弱磁界領域Ｂ、つまり粉砕
、混合等の処理動作が殆ど有効に働かない非動作空間部
分に設けてあるので、いささかも処理動作、性能を損う
こともないし、加えて粉砕処理の場合には、仕切壁で仕
切られた処理室の作動空間はすべて強磁界領域となるの
で、室内の四隅に砕料が未粉砕のまま停滞することもな
くなり、より一層の性能向上の利点が得られる。
の巻線１に付した符号Ｕ、Ｖ、Ｗ、Ｕ′、Ｖ′、Ｗ′は
三相交流巻線の電磁方向と相順を表わしている。そして
同相の巻線が上下で対向するＢ領域では、リニアモータ
４と５の磁界が互に打ち消し合うように作用するので、
第３図で述べたように該部に定常的な弱磁界領域が生じ
る。またこの弱磁界領域はリニアモータの極ピッチＰの
間隔ごとに生成される。ところでこの発明により、上記
の弱磁界領域を占有するように位置を合わせて、この部
分に処理容器１の内部を移動磁界方向φ１、φ２に沿っ
て区分するような二重の仕切壁８Ａと８Ｂからなる中仕
切壁８が設置してあり、この二重仕切壁と８Ａと８Ｂの
間に容器１の内部を横切る断面巾ｄの通風路９が画成さ
れている。そして冷却媒体としての冷却風が第５図のよ
うに側方よりブロア１０によって強制送風され、処理容
器内部の発生熱を効率よく除熱する。また特別な処理の
場合として、処理容器１内部の作動空間を高温に保つ必
要のある場合には、前記の冷却風の代りに熱風を送り込
めばよい。なお冷却、加熱媒体は気体に限るものではな
く、液体であってもよい。この場合には、前記の通路９
に外部の熱媒液ラインが接続配管される。また通路９に
面する仕切壁８Ａと８Ｂにフィンを設けておくことによ
り、より一層の熱交換効率の向上が図れる。しかも前記
の二重壁構造の中仕切壁８は弱磁界領域Ｂ、つまり粉砕
、混合等の処理動作が殆ど有効に働かない非動作空間部
分に設けてあるので、いささかも処理動作、性能を損う
こともないし、加えて粉砕処理の場合には、仕切壁で仕
切られた処理室の作動空間はすべて強磁界領域となるの
で、室内の四隅に砕料が未粉砕のまま停滞することもな
くなり、より一層の性能向上の利点が得られる。
次に前記実施例の応用実施例を第６図に示す。
この実施例はリニアモータ４、５の極ピッチＰよりも多
少短かい寸法で構成された各独立した複数個の箱形処理
容器１′をリニアモータ４、５に沿って相互に間隔ｄを
隔てて相並べ、かつ各容器１′の相互を上下に配した非
磁性の連結板１１と１２との間に連結したものであり、
かつ隣接し合う容器１′と上下の連結板１１、１２とで
囲まれた断面巾ｄの空間がリニアモータ４と５の間の磁
場空間における定常的な弱磁界領賊Ｂに対応位置するよ
うに定めてある。そして容器相互間に画成された空間９
′が冷却あるいは加熱媒体流通路として用いられる。
少短かい寸法で構成された各独立した複数個の箱形処理
容器１′をリニアモータ４、５に沿って相互に間隔ｄを
隔てて相並べ、かつ各容器１′の相互を上下に配した非
磁性の連結板１１と１２との間に連結したものであり、
かつ隣接し合う容器１′と上下の連結板１１、１２とで
囲まれた断面巾ｄの空間がリニアモータ４と５の間の磁
場空間における定常的な弱磁界領賊Ｂに対応位置するよ
うに定めてある。そして容器相互間に画成された空間９
′が冷却あるいは加熱媒体流通路として用いられる。
以上述べたようにこの発明は、従来では処理動作に殆ど
有効に働いてない弱磁界領域の不動作空間部分を利用し
てここに容器を貫通する冷却あるいは加熱媒体流通路を
設けたものであり、したがって処理性能を損うことなし
に処理容器内部空間の効果的な冷却あるいは加熱を容易
に達成できる実用的効果が得られる。
有効に働いてない弱磁界領域の不動作空間部分を利用し
てここに容器を貫通する冷却あるいは加熱媒体流通路を
設けたものであり、したがって処理性能を損うことなし
に処理容器内部空間の効果的な冷却あるいは加熱を容易
に達成できる実用的効果が得られる。
第１図は従来における電磁式処理装置の構成原理図、第
２図は第１図の矢視ＩＩ−ＩＩ断面図、第３図は第１図
における処理容器内の磁界強度の分布を模型的に表わし
た磁界分布図、第４図はこの発明の一実施例の構成断面
図、第５図は第４図における矢視Ｖ−Ｖ断面図、第６図
は第４図と異なる実施例の処理容器の構成断面図である
。 １・・・処理容器、２・・・被処理物、３・・・ワーキ
ングピース、４、５・・・移動磁界発生装置、８・・・
二重仕切壁、９、９′・・・冷却、加熱媒体流通路、φ
１、φ２・・・移動磁界の移動方向、Ｐ・・・極ピッチ
、Ａ・・・強磁界領賊、Ｂ・・・弱磁界領域。
２図は第１図の矢視ＩＩ−ＩＩ断面図、第３図は第１図
における処理容器内の磁界強度の分布を模型的に表わし
た磁界分布図、第４図はこの発明の一実施例の構成断面
図、第５図は第４図における矢視Ｖ−Ｖ断面図、第６図
は第４図と異なる実施例の処理容器の構成断面図である
。 １・・・処理容器、２・・・被処理物、３・・・ワーキ
ングピース、４、５・・・移動磁界発生装置、８・・・
二重仕切壁、９、９′・・・冷却、加熱媒体流通路、φ
１、φ２・・・移動磁界の移動方向、Ｐ・・・極ピッチ
、Ａ・・・強磁界領賊、Ｂ・・・弱磁界領域。
Claims (1)
- １）磁性材あるいは磁性導電材で作られた多数のワーキ
ングピースが収容された処理容器と、この処理容器を中
央に挾んでその両側に対向配置されたその磁界の移動方
向が互に逆向きな一対の移動磁界発生装置とからなり、
移動磁界との相互作用に基づく電磁力で処理容器内に生
起するワーキングピースのランダム運動により、処理容
器に収容した被処理物の粉砕、混合等の処理を行うもの
において、前記移動磁界発生装置の極ピッチ間隔に対応
して処理容器内に定常的に生じる各弱磁界領域を設置箇
所としてここに容器内部を仕切る二重仕切壁を設け、こ
の二重仕切壁の壁と壁との間に処理容器を横切る冷却あ
るいは加熱体流通路を画成したことを特徴とする電磁式
粉砕混合等処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15534982A JPS5946149A (ja) | 1982-09-07 | 1982-09-07 | 電磁式粉砕混合等処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15534982A JPS5946149A (ja) | 1982-09-07 | 1982-09-07 | 電磁式粉砕混合等処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5946149A true JPS5946149A (ja) | 1984-03-15 |
| JPS628221B2 JPS628221B2 (ja) | 1987-02-21 |
Family
ID=15603943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15534982A Granted JPS5946149A (ja) | 1982-09-07 | 1982-09-07 | 電磁式粉砕混合等処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5946149A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01202009A (ja) * | 1988-02-08 | 1989-08-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 直流補償回路 |
-
1982
- 1982-09-07 JP JP15534982A patent/JPS5946149A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01202009A (ja) * | 1988-02-08 | 1989-08-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 直流補償回路 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS628221B2 (ja) | 1987-02-21 |
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