JPS5945A - X線撮影装置 - Google Patents
X線撮影装置Info
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- JPS5945A JPS5945A JP57106192A JP10619282A JPS5945A JP S5945 A JPS5945 A JP S5945A JP 57106192 A JP57106192 A JP 57106192A JP 10619282 A JP10619282 A JP 10619282A JP S5945 A JPS5945 A JP S5945A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/00474—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00
- C04B2111/0075—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00 for road construction
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Ceramic Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、X線撮影装置の技術分野に属する〇〔発明
の技術的背景とその問題点〕 従来、Xfa撮影装置として、たとえば、胃腸を中心と
する消化管用X線診断装置等がある。大量KX線撮影を
行なう仁の種分野では、X@シートフィルムをサプライ
マガジンに50〜100枚程度収納しておき、速写撮影
を行なうiわゆるカセツテレス方式のスポットショット
部を有するX線テレ・ビ装置(x#透視撮影装置)が発
達してきてiる0しかも、前記装置において、X線写真
撮影に際し、X線自動露出制御装置が用いられておシ、
たとえば、1.1出力光t−7オトマルで受光する11
11フオトタイマーや、アクリル板に螢光紙を組合わせ
てフォトマルで受光する薄形フォトタイマーがしばしば
使用されている。
の技術的背景とその問題点〕 従来、Xfa撮影装置として、たとえば、胃腸を中心と
する消化管用X線診断装置等がある。大量KX線撮影を
行なう仁の種分野では、X@シートフィルムをサプライ
マガジンに50〜100枚程度収納しておき、速写撮影
を行なうiわゆるカセツテレス方式のスポットショット
部を有するX線テレ・ビ装置(x#透視撮影装置)が発
達してきてiる0しかも、前記装置において、X線写真
撮影に際し、X線自動露出制御装置が用いられておシ、
たとえば、1.1出力光t−7オトマルで受光する11
11フオトタイマーや、アクリル板に螢光紙を組合わせ
てフォトマルで受光する薄形フォトタイマーがしばしば
使用されている。
X線自動露出制御装置における前者は、X線シートフィ
ルムの後方で光を受ける方式であル、増感紙−フィルム
系のXItj!エネルギ特性に対し、密着板機構やI@
Iflij、たフォ)−rル採元のため、異ガるX線エ
ネルギ特性を有するので、フォトタイマー回路が複雑で
ある0しかも、検出採光野を多く設けるiわゆるiルテ
採光野方式を行なおうとすると、X線検出器の前面近傍
の狭−場所で、1@1出力部からの光を採光視野分配を
行なわなくてはならず、しかも、そのための精密な光学
系や構造1有する欠点があった。
ルムの後方で光を受ける方式であル、増感紙−フィルム
系のXItj!エネルギ特性に対し、密着板機構やI@
Iflij、たフォ)−rル採元のため、異ガるX線エ
ネルギ特性を有するので、フォトタイマー回路が複雑で
ある0しかも、検出採光野を多く設けるiわゆるiルテ
採光野方式を行なおうとすると、X線検出器の前面近傍
の狭−場所で、1@1出力部からの光を採光視野分配を
行なわなくてはならず、しかも、そのための精密な光学
系や構造1有する欠点があった。
また、X線自動露出制御装置におゆる後者の薄形フォト
タイマーは、簡単な構造であシ、その厚みも2.5〜3
.、、程度であるから、X線拡大率をさほど増加させる
ことなく使用することができるとの長所を有する反面、
マルチ採光野の実現は困難であった〇 その他、イオンチェンバーと称する電離層式フォトタイ
マーが有るが、その厚みが15■程であることKより、
X線拡大率が増加するので、X線像の画質が低いという
欠点があった。
タイマーは、簡単な構造であシ、その厚みも2.5〜3
.、、程度であるから、X線拡大率をさほど増加させる
ことなく使用することができるとの長所を有する反面、
マルチ採光野の実現は困難であった〇 その他、イオンチェンバーと称する電離層式フォトタイ
マーが有るが、その厚みが15■程であることKより、
X線拡大率が増加するので、X線像の画質が低いという
欠点があった。
この発明は、前記事情に鑑みてなされたものであシ、X
線拡大率全低減することができると共にマルチ採光型の
X線検出管することができるスポットショット装置全具
備するX線自動露出制御型のX線撮影装置を提供するこ
と金目的とするものである◎ 〔発明の概要〕 前記目的を達成するためのこの発明の概要は、被検体に
曝射したX線の線量を検出することによシ、必要なX線
量を自動的に制御するX線自動露出制御装置とスポット
ショット装置とを具備するX線撮影装置において、前記
スポットショット装置が、未撮影のイメージングプレー
トを収納したサプライマガジンと、撮影後の前記イメー
ジングプレート全収納するティクアップマガジンと、半
導体X線検出器を有すると共に前記イメージングプレー
トを着脱可能とするイメージングプレートホルダと、前
記イメージングプレートを着脱する位置とX線撮影位置
との間で前記イメージングプレートホルダを往復移動さ
せると共にサプライマガジンから前記イメージングプレ
ートホルダに未撮影の前記イメージングプレートラ供給
し、前記イメージングプレートホルダからティクアップ
マガジンに撮影後の前記イメージンググレートを供給す
る移動供給装置とを具備することを特徴とする本のであ
る。
線拡大率全低減することができると共にマルチ採光型の
X線検出管することができるスポットショット装置全具
備するX線自動露出制御型のX線撮影装置を提供するこ
と金目的とするものである◎ 〔発明の概要〕 前記目的を達成するためのこの発明の概要は、被検体に
曝射したX線の線量を検出することによシ、必要なX線
量を自動的に制御するX線自動露出制御装置とスポット
ショット装置とを具備するX線撮影装置において、前記
スポットショット装置が、未撮影のイメージングプレー
トを収納したサプライマガジンと、撮影後の前記イメー
ジングプレート全収納するティクアップマガジンと、半
導体X線検出器を有すると共に前記イメージングプレー
トを着脱可能とするイメージングプレートホルダと、前
記イメージングプレートを着脱する位置とX線撮影位置
との間で前記イメージングプレートホルダを往復移動さ
せると共にサプライマガジンから前記イメージングプレ
ートホルダに未撮影の前記イメージングプレートラ供給
し、前記イメージングプレートホルダからティクアップ
マガジンに撮影後の前記イメージンググレートを供給す
る移動供給装置とを具備することを特徴とする本のであ
る。
第1図は、仁の発明の一実施例に係ル、いわゆるアンダ
ーテーブル形X#テレビ寝台を示す一具体例であって、
主としてスポットショット装置を模式的に示す説明図、
第2図はイメージングプレートホルダを示す説明図およ
び第3図はX線自動露出制御装置を示す説明図である〇 第1図において、1で示すのはX線絞シ2を有するX線
管であシ、被検体4を載置する寝台天板3の下方に配置
されている05で示すのはスポットショット装置であり
、寝台天板3の上方に配置される。6で示すのはイメー
ジインテンシファイア(I−I)であシ、スポットショ
ット装置6内でI・16のX線入力面がX線管1と対向
するように配置される07で示すのは光学系であυ、I
・I6の出力螢光像をテレビカメラ8に導びくように構
成されている。
ーテーブル形X#テレビ寝台を示す一具体例であって、
主としてスポットショット装置を模式的に示す説明図、
第2図はイメージングプレートホルダを示す説明図およ
び第3図はX線自動露出制御装置を示す説明図である〇 第1図において、1で示すのはX線絞シ2を有するX線
管であシ、被検体4を載置する寝台天板3の下方に配置
されている05で示すのはスポットショット装置であり
、寝台天板3の上方に配置される。6で示すのはイメー
ジインテンシファイア(I−I)であシ、スポットショ
ット装置6内でI・16のX線入力面がX線管1と対向
するように配置される07で示すのは光学系であυ、I
・I6の出力螢光像をテレビカメラ8に導びくように構
成されている。
スポットショット装置5は、多数の未撮影のイメージン
グプレート20t−収納すると共に図示しない駆動手段
によるレバー14の図示矢印方向への駆動によって1枚
ずつイメージングプレート20を後述の移動供給装置に
送シ込むサプライマガジン12と、後述の移動供給装置
から送シ込まれた撮影済みのイメージングプレー) 2
0e t−収納するティクアップマガジン16と、サプ
ライ1ガジン12よシ送シ出されたイメージングプレー
ト20α金、上下動可能な案内ローラ15y、15ルお
よび位置固定のロー2群15α〜15fによシ着脱位置
Cに待機しているイメージングプレートホルダ10に装
填し、次いで、イメージングプレート20αを有するイ
メージングプレートホルダ10t−着脱位置CからX線
撮影位置Aに適宜の搬送手段9により搬送し、x#撮影
の終了後に、X線撮影位置Aから着脱位置qKイメージ
ングプレートホルダ10を前記搬送手段9によシもどじ
、着脱位置Cにあるイメージングプレートホルダ10中
のイメージングプレート20h’を上下動可能な案内ロ
ーラ15g。
グプレート20t−収納すると共に図示しない駆動手段
によるレバー14の図示矢印方向への駆動によって1枚
ずつイメージングプレート20を後述の移動供給装置に
送シ込むサプライマガジン12と、後述の移動供給装置
から送シ込まれた撮影済みのイメージングプレー) 2
0e t−収納するティクアップマガジン16と、サプ
ライ1ガジン12よシ送シ出されたイメージングプレー
ト20α金、上下動可能な案内ローラ15y、15ルお
よび位置固定のロー2群15α〜15fによシ着脱位置
Cに待機しているイメージングプレートホルダ10に装
填し、次いで、イメージングプレート20αを有するイ
メージングプレートホルダ10t−着脱位置CからX線
撮影位置Aに適宜の搬送手段9により搬送し、x#撮影
の終了後に、X線撮影位置Aから着脱位置qKイメージ
ングプレートホルダ10を前記搬送手段9によシもどじ
、着脱位置Cにあるイメージングプレートホルダ10中
のイメージングプレート20h’を上下動可能な案内ロ
ーラ15g。
15Aおよび位置固定のローラ群16α〜16rLによ
シテイクアツプマガジン13に送シ込むように構成され
た移動供給装置とを具備する。なお、第1図において、
11で示すのはX線用グリッドであるロイメージングプ
レートホルダ10は、第2図に示すように、構成されて
いる。すなわち、たとえに1一端部に結合した蝶番23
4中心にして図示矢印Dl、 D、方向に回動する上部
板21、および、蝶番26金介して結合され・ると共に
搬送手段9上に係合して着脱位置Cと撮影位置Aとの間
で移動する下部板24よシなる挾持体と、挾持するイメ
ージングプレート20の位置ずれ防止のために上部板2
1の下面に貼着されたクッション材22と、図示矢印方
向Xよシ曝射されるX線の線量を゛検出するために下部
板24の上面に配設された半導体X線検出器61と會具
備し、イメージングプレートホルダ10が第1図に示す
着脱位置Cにあるとき、案内ローラ15!i、15Aお
よび位置固定のローラ群15a〜15fによるイメージ
ングプレート20@の搬送と同期して上部板21が図示
矢印D!力方向回動してイメージングプv−)20g¥
r受は入れ、イメージングプレート20gが半導体X線
検出器31上に配置されると上部板21が図示矢印り雪
方向に回動して、イメージングプL/−)20αをイメ
ージングプレートホルダ10内に装填し、また、撮影終
了後にイメージンググレートホルダ10が着脱位置CI
fCあるときは、上部板21が図示矢印り、方向に回動
するのと同期して、案内ロー−)15y、15Aがロー
2群16α〜16dの搬送路延長上に1降し、図示しな
い取ル出し装置たとえば吸引カップでイメージングプレ
ートホルダ1o内のイメージングプレート20htl−
取ル出して案内ローラ15y 、 15におよびロー2
群161E〜16dの搬送路上に案内するように構成さ
れている。
シテイクアツプマガジン13に送シ込むように構成され
た移動供給装置とを具備する。なお、第1図において、
11で示すのはX線用グリッドであるロイメージングプ
レートホルダ10は、第2図に示すように、構成されて
いる。すなわち、たとえに1一端部に結合した蝶番23
4中心にして図示矢印Dl、 D、方向に回動する上部
板21、および、蝶番26金介して結合され・ると共に
搬送手段9上に係合して着脱位置Cと撮影位置Aとの間
で移動する下部板24よシなる挾持体と、挾持するイメ
ージングプレート20の位置ずれ防止のために上部板2
1の下面に貼着されたクッション材22と、図示矢印方
向Xよシ曝射されるX線の線量を゛検出するために下部
板24の上面に配設された半導体X線検出器61と會具
備し、イメージングプレートホルダ10が第1図に示す
着脱位置Cにあるとき、案内ローラ15!i、15Aお
よび位置固定のローラ群15a〜15fによるイメージ
ングプレート20@の搬送と同期して上部板21が図示
矢印D!力方向回動してイメージングプv−)20g¥
r受は入れ、イメージングプレート20gが半導体X線
検出器31上に配置されると上部板21が図示矢印り雪
方向に回動して、イメージングプL/−)20αをイメ
ージングプレートホルダ10内に装填し、また、撮影終
了後にイメージンググレートホルダ10が着脱位置CI
fCあるときは、上部板21が図示矢印り、方向に回動
するのと同期して、案内ロー−)15y、15Aがロー
2群16α〜16dの搬送路延長上に1降し、図示しな
い取ル出し装置たとえば吸引カップでイメージングプレ
ートホルダ1o内のイメージングプレート20htl−
取ル出して案内ローラ15y 、 15におよびロー2
群161E〜16dの搬送路上に案内するように構成さ
れている。
イメージングプレートホルダ10内に配置されている半
導体X線検出器61は、曝射されたX線の線量を検4出
するものであシ、たとえば、次のように構成されている
。すなわち、半導体検出素子28は略リング状t−7)
すマウント台29にマウントされ、その後表面・裏面に
電極(図示せず)が被着されている◎こうしてマウント
台29に一体的にマウントされたX線検出素子28t−
固定板27に設けた穴に嵌合して固定し、電極引出し線
60α。
導体X線検出器61は、曝射されたX線の線量を検4出
するものであシ、たとえば、次のように構成されている
。すなわち、半導体検出素子28は略リング状t−7)
すマウント台29にマウントされ、その後表面・裏面に
電極(図示せず)が被着されている◎こうしてマウント
台29に一体的にマウントされたX線検出素子28t−
固定板27に設けた穴に嵌合して固定し、電極引出し線
60α。
50b?配設している。ここで、マウント台29および
固定板27には例えばアクリル樹脂などX線減弱の小さ
い材料を用iる。また、X線検出素子28はその厚みを
、X線減弱に関するアルミニウム換算(すなわちX線ア
ルン二つム当量)で100〜800μ凰とし、電極引出
し線60α、60hは厚さ80μ罵以下のアルミニウム
膜で形成する。そして、これらの両面はそれぞれ絶縁用
の薄膜26t−介して電磁シールド用のアルミ箔25で
覆われている。
固定板27には例えばアクリル樹脂などX線減弱の小さ
い材料を用iる。また、X線検出素子28はその厚みを
、X線減弱に関するアルミニウム換算(すなわちX線ア
ルン二つム当量)で100〜800μ凰とし、電極引出
し線60α、60hは厚さ80μ罵以下のアルミニウム
膜で形成する。そして、これらの両面はそれぞれ絶縁用
の薄膜26t−介して電磁シールド用のアルミ箔25で
覆われている。
以上構成の半導体検出器40は、5園厚程度に形成する
ことができる。
ことができる。
たお、イメージングプレートホルダ10には、前記半導
体X線検出器61中の電極引出し線60α。
体X線検出器61中の電極引出し線60α。
30Aと接続した雄型コネクタ(図示せず)が設けられ
ておル、イメージングホルダ10が撮影位置Aに位置す
ると図示しない雌型コネクタと前記雄型コネクタとが結
合して前記半導体X線検出器31によシ出力されるX線
検出信号を後述のX線自動露出制御装置に出力するよう
に構成されている。
ておル、イメージングホルダ10が撮影位置Aに位置す
ると図示しない雌型コネクタと前記雄型コネクタとが結
合して前記半導体X線検出器31によシ出力されるX線
検出信号を後述のX線自動露出制御装置に出力するよう
に構成されている。
X線自動露出制御装置は、第6図に示すように、増幅器
40と制御信号発生装置50とを具備し、イメージング
プレートホルダ10内に設置された半導体X線検出器3
1よシ出力されるX線検出信号を増幅器40で増幅し、
次いで、これを入力する制御信号発生装置50は、被検
体4のX線像が最適の露出状態になった時点を入力信号
から判断し、X線制御器60へX線しゃ断信号を送シ、
X線制御器60はこの信号によって高電圧発生装置70
t−制御してX線管装置1によるX線の曝射會停止させ
るように構成されている。
40と制御信号発生装置50とを具備し、イメージング
プレートホルダ10内に設置された半導体X線検出器3
1よシ出力されるX線検出信号を増幅器40で増幅し、
次いで、これを入力する制御信号発生装置50は、被検
体4のX線像が最適の露出状態になった時点を入力信号
から判断し、X線制御器60へX線しゃ断信号を送シ、
X線制御器60はこの信号によって高電圧発生装置70
t−制御してX線管装置1によるX線の曝射會停止させ
るように構成されている。
イメージングプレート20は、X線の線量に応じた電荷
量tその表面に蓄積し、電荷量を蓄積したその表面に熱
あるいは光エネルギによる輝尽用の読み出し照射上行な
うと電荷量に応じた電気信号全出力す、ることのできる
厚さ約1mの蓄積性螢光体であシ、たとえば、この出願
人による特許出願昭和57年第64685号の明細書に
記載されているように、バイアス電源で逆バイアスされ
た基板たとえばステンレス基板上に、X線照射量に比例
した電荷量で電子を禁制帯中のエネルギ局在単位にトラ
ップする二次元物質層たとえばアモルファスシリコン層
と前記二次元物質層内にトラップされた電荷の分布に対
応する電気信号を取シ出すためのたとえばIn20B−
5ルO意等の透明導電物質層とtζ?順序に積層してな
る積層板を好適に使用することができる。ただし、この
場合、基板と積層板との間に絶縁をしておくことはいう
までもない◎また、イメージングプレート66として、
特開昭56−11346号、特開昭56−12599号
、特開昭55−15025号、特開昭56−18798
号等の公開公報に記載された蓄積性螢光体も使用するこ
とができる。
量tその表面に蓄積し、電荷量を蓄積したその表面に熱
あるいは光エネルギによる輝尽用の読み出し照射上行な
うと電荷量に応じた電気信号全出力す、ることのできる
厚さ約1mの蓄積性螢光体であシ、たとえば、この出願
人による特許出願昭和57年第64685号の明細書に
記載されているように、バイアス電源で逆バイアスされ
た基板たとえばステンレス基板上に、X線照射量に比例
した電荷量で電子を禁制帯中のエネルギ局在単位にトラ
ップする二次元物質層たとえばアモルファスシリコン層
と前記二次元物質層内にトラップされた電荷の分布に対
応する電気信号を取シ出すためのたとえばIn20B−
5ルO意等の透明導電物質層とtζ?順序に積層してな
る積層板を好適に使用することができる。ただし、この
場合、基板と積層板との間に絶縁をしておくことはいう
までもない◎また、イメージングプレート66として、
特開昭56−11346号、特開昭56−12599号
、特開昭55−15025号、特開昭56−18798
号等の公開公報に記載された蓄積性螢光体も使用するこ
とができる。
以上のようにX線撮影装置を構成すると、次のような作
用、効果を奏する。たとえば、X線透視のときは、スポ
ットショット装置5において、イメージングプレートホ
ルダ1ot−撮影位置A以外の位置に退避しておく。そ
うすると、透視系内にイメージングプレートホルダ1o
が介在しないので、被検体の鮮明なX線透視像を得るこ
とができる。これは、従来の固定式薄形フォトタイマー
採用のX線撮影装置では実現することができないことで
ある。また、X線速写撮影の場合、X線撮影装置は次の
ように動作する0すなわち、初期位置としてイメージン
グプレートホルダ10H着脱位置Cに位置しておシ、サ
プライマガジン12中に収納されているイメージングプ
レート20がレバー14によジロー2群15α〜15/
の搬送路上に送シ出され、イメージングプレー)20の
搬送に同期してイメージングプレートホルダ10の上部
板21が第2図中の矢印DI方向に回動し、送シ出され
てきたイメージングプレート20がイメージングプレー
トホルダ10中の半導体X線検出器31上に配置された
後、上部板21が第2図矢印り、方向に回動することに
よって、イメージングプレート20がイメージングプレ
ートホルダ10に4511、装填されることになる。次
いで、イメージンググレートホルダ10は、着脱位置C
から搬送手段9によシ撮影位置Aへと搬送され、X線撮
影が行なわれる。この際、X線管1よシX線が曝射され
ると、イメージングプレートホルダ10内の半導体X線
検出器31によ、6X線の線量全検出し、得られる検出
信号を入力する前述のX線自動露出制御装置によってX
線管1よシ曝射されるXiI!の線量が調節され、その
X線量管もって被検体4のX線像がイメージングプレー
ト20に撮像される口このとき、X線は半導体X線検出
器61を透過した後にイメージングプレー)20に到達
するのであるが、半導体X線検出器61は、X線減弱の
小さな材料でマウント台29を構成し、X線減弱に関す
る。a換算で100〜800μ胃の厚みにX線検出素子
28を構成する勢、独特の構造を有するので、X線検出
素子28部分によるX線陰影のないX線像tイメージン
グプレート20に撮像することができる。また、半導体
X線検出器31の前記構造によシ、その全体の厚みt−
5m以内にすることができるので、イメージングプV−
) 20と被検体4との距離を従来のX線撮影装置にお
けるよ)も短かくすることができ、その結果、X線拡大
率を低めることができるのでボケのない鮮明なX線像を
得る仁とができる。さらに、半導体X線検出器61を用
いているので、7オトマ/I/ヲ使用する従来の薄形フ
ォトタイマーのように、1000V程度の高電圧を要す
ることがな0→、従って、電気的実装を簡便にすること
ができる0次に、X線撮影が終了すると、イメージング
プレートホルダ10社、X線撮影位置Aかも着脱位置C
へと移動し、上部板21t−第2図中の矢印D1方向に
回動させ一イメージングプレートホルダ10内の撮影済
みのイメージングプレート20t−図示しない取シ出し
装置たとえば吸引カップでロー915!I、15A、1
6g〜16dの搬送路上に移送し、イメージングプレー
ト20 (20C) tティクアップマガジン13内に
収納する。この後、イメージングプレートホルダ10は
、次の撮影のために、着脱位置CK待機する。
用、効果を奏する。たとえば、X線透視のときは、スポ
ットショット装置5において、イメージングプレートホ
ルダ1ot−撮影位置A以外の位置に退避しておく。そ
うすると、透視系内にイメージングプレートホルダ1o
が介在しないので、被検体の鮮明なX線透視像を得るこ
とができる。これは、従来の固定式薄形フォトタイマー
採用のX線撮影装置では実現することができないことで
ある。また、X線速写撮影の場合、X線撮影装置は次の
ように動作する0すなわち、初期位置としてイメージン
グプレートホルダ10H着脱位置Cに位置しておシ、サ
プライマガジン12中に収納されているイメージングプ
レート20がレバー14によジロー2群15α〜15/
の搬送路上に送シ出され、イメージングプレー)20の
搬送に同期してイメージングプレートホルダ10の上部
板21が第2図中の矢印DI方向に回動し、送シ出され
てきたイメージングプレート20がイメージングプレー
トホルダ10中の半導体X線検出器31上に配置された
後、上部板21が第2図矢印り、方向に回動することに
よって、イメージングプレート20がイメージングプレ
ートホルダ10に4511、装填されることになる。次
いで、イメージンググレートホルダ10は、着脱位置C
から搬送手段9によシ撮影位置Aへと搬送され、X線撮
影が行なわれる。この際、X線管1よシX線が曝射され
ると、イメージングプレートホルダ10内の半導体X線
検出器31によ、6X線の線量全検出し、得られる検出
信号を入力する前述のX線自動露出制御装置によってX
線管1よシ曝射されるXiI!の線量が調節され、その
X線量管もって被検体4のX線像がイメージングプレー
ト20に撮像される口このとき、X線は半導体X線検出
器61を透過した後にイメージングプレー)20に到達
するのであるが、半導体X線検出器61は、X線減弱の
小さな材料でマウント台29を構成し、X線減弱に関す
る。a換算で100〜800μ胃の厚みにX線検出素子
28を構成する勢、独特の構造を有するので、X線検出
素子28部分によるX線陰影のないX線像tイメージン
グプレート20に撮像することができる。また、半導体
X線検出器31の前記構造によシ、その全体の厚みt−
5m以内にすることができるので、イメージングプV−
) 20と被検体4との距離を従来のX線撮影装置にお
けるよ)も短かくすることができ、その結果、X線拡大
率を低めることができるのでボケのない鮮明なX線像を
得る仁とができる。さらに、半導体X線検出器61を用
いているので、7オトマ/I/ヲ使用する従来の薄形フ
ォトタイマーのように、1000V程度の高電圧を要す
ることがな0→、従って、電気的実装を簡便にすること
ができる0次に、X線撮影が終了すると、イメージング
プレートホルダ10社、X線撮影位置Aかも着脱位置C
へと移動し、上部板21t−第2図中の矢印D1方向に
回動させ一イメージングプレートホルダ10内の撮影済
みのイメージングプレート20t−図示しない取シ出し
装置たとえば吸引カップでロー915!I、15A、1
6g〜16dの搬送路上に移送し、イメージングプレー
ト20 (20C) tティクアップマガジン13内に
収納する。この後、イメージングプレートホルダ10は
、次の撮影のために、着脱位置CK待機する。
そして、再び次のX線撮影についての一連の動作が続く
ことになる。得られ几撮影済みのイメージングプレート
20は、輝尽用の読み出し照射によシ記録されFjX線
像を再生する画像処理装置に供することによって、X線
像上可視像として表示することができる。・ 以上、この発明の一実施例について詳述したが、この発
明は前記実施例に限定されるものではなく、この発明の
要旨を変更しない範囲内で適宜に変形して実施すること
ができる。
ことになる。得られ几撮影済みのイメージングプレート
20は、輝尽用の読み出し照射によシ記録されFjX線
像を再生する画像処理装置に供することによって、X線
像上可視像として表示することができる。・ 以上、この発明の一実施例について詳述したが、この発
明は前記実施例に限定されるものではなく、この発明の
要旨を変更しない範囲内で適宜に変形して実施すること
ができる。
たとえば、半導体X線検出器310強度を補償する友め
に、1鴫厚程度のCFRP ’@:固定板27に貼付し
てもよい。
に、1鴫厚程度のCFRP ’@:固定板27に貼付し
てもよい。
また、半導体X線検出器61中には、第2図に示すよう
に、複数のX線検出素子28t−適宜に配置しておいて
もよい。このように、適宜の位置に複数のX線検出素子
2B’t−配置しておくと、マルチ採光野全可能とする
ことができる。
に、複数のX線検出素子28t−適宜に配置しておいて
もよい。このように、適宜の位置に複数のX線検出素子
2B’t−配置しておくと、マルチ採光野全可能とする
ことができる。
以上に詳述したこの発明によると次のような効果を奏す
ることができる0すなわち、半導体X線検出器を組み込
んだイメージングプレートホルダ全スポットショット装
置内で撮影位置から着脱位置へと退避させる仁とができ
るので、X線透視の際、X線減弱のない鮮明なX線画像
を表示することができるOX線速写撮影においても、半
導体X線検出器のX線減弱率が小さいので、イメージン
グプレートに鮮明なX線像を撮像することができる0ま
た、半導体X線検出器内の適宜の位置に複数のX線検出
素子を配列すると、マルチ採光野を可能とすることがで
きる。しかも、半導体X線検出器の全体の厚みを薄くす
ることができるので、被検体とイメージングプレートと
の距離を小さくすることにより、X+w拡大率を小さく
することができ、ボケのない鮮明なX線像をイメージン
グプレートに撮像することができる。
ることができる0すなわち、半導体X線検出器を組み込
んだイメージングプレートホルダ全スポットショット装
置内で撮影位置から着脱位置へと退避させる仁とができ
るので、X線透視の際、X線減弱のない鮮明なX線画像
を表示することができるOX線速写撮影においても、半
導体X線検出器のX線減弱率が小さいので、イメージン
グプレートに鮮明なX線像を撮像することができる0ま
た、半導体X線検出器内の適宜の位置に複数のX線検出
素子を配列すると、マルチ採光野を可能とすることがで
きる。しかも、半導体X線検出器の全体の厚みを薄くす
ることができるので、被検体とイメージングプレートと
の距離を小さくすることにより、X+w拡大率を小さく
することができ、ボケのない鮮明なX線像をイメージン
グプレートに撮像することができる。
第1図はとの発明の一実施例を示す説明図、第2図はイ
メージングプレートホルダを示す断面図、および第6図
はxflJ自動露出制御装置を示す説明図である。 4・・・’[k体、 5・・・スポットショット装置
、10・・・イメージングプレートホルダ、 12・
・・サプライマガジン、 13・・・ティクアップマ
ガジン、20・・・イメージングプレート、 27・
・・固定板、28・・・X線検出素子、 29・・・マ
ウント台、60α、60h・・・電極引出し線、 6
1・・・半導体X線検出器、 A・・・XgJ撮影位置
、 C・・・着脱位置。
メージングプレートホルダを示す断面図、および第6図
はxflJ自動露出制御装置を示す説明図である。 4・・・’[k体、 5・・・スポットショット装置
、10・・・イメージングプレートホルダ、 12・
・・サプライマガジン、 13・・・ティクアップマ
ガジン、20・・・イメージングプレート、 27・
・・固定板、28・・・X線検出素子、 29・・・マ
ウント台、60α、60h・・・電極引出し線、 6
1・・・半導体X線検出器、 A・・・XgJ撮影位置
、 C・・・着脱位置。
Claims (2)
- (1)被検体に曝射したX線の線量を検出することKよ
シ、必要なX線量管自動的に制御するX線自動露出制御
装置とスポットショット装置とを具備するX@撮影装置
において、前記スポットショット装置が、未撮影のイメ
ージングプレートを収納したサプライマガジンと、撮影
後の前記イメージングプレートを収納するティクアップ
マガジンと、半導体X線検出器金有すると共に前記イメ
ージングプレートを着脱可能とするイメージンググレー
トホルダと、前記イメージングプレートを着脱する位置
とX線撮影位置との間で前記イメージングプV−)ホル
ダを往復移動させると共にサブ2イマガジンから前記イ
メージングプレートホルダに未撮影の前記イメージング
プレート金供給し、前記イメージングプレートホルダか
らティクアップマガジンに撮影後の前記イメージングプ
レートを供給する移動供給装置とを具備することを特徴
とするX線撮影装置。 - (2)前記半導体X線検出器が、X線減弱量に関するア
ルミニウム換算で800μm以下の厚みを有する半導体
X線検出素子を、外周および内周部にテーパをつけた1
ラント台に一体的にマウントして固定板に設けられた孔
に嵌合固定し、前記検出素子から厚さ80μm以下のア
ル1=ウム膜よシなる電極引き出し線を配設して構成さ
れることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のX
線撮影装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57106192A JPS5945A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | X線撮影装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57106192A JPS5945A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | X線撮影装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5945A true JPS5945A (ja) | 1984-01-05 |
JPH0411211B2 JPH0411211B2 (ja) | 1992-02-27 |
Family
ID=14427320
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57106192A Granted JPS5945A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | X線撮影装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5945A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60225541A (ja) * | 1984-04-24 | 1985-11-09 | 富士写真フイルム株式会社 | エネルギ−サブトラクシヨン用高速撮影装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52148058U (ja) * | 1976-05-07 | 1977-11-09 | ||
JPS56119876A (en) * | 1980-02-27 | 1981-09-19 | Toshiba Corp | Semiconductor x-ray detector |
-
1982
- 1982-06-22 JP JP57106192A patent/JPS5945A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52148058U (ja) * | 1976-05-07 | 1977-11-09 | ||
JPS56119876A (en) * | 1980-02-27 | 1981-09-19 | Toshiba Corp | Semiconductor x-ray detector |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60225541A (ja) * | 1984-04-24 | 1985-11-09 | 富士写真フイルム株式会社 | エネルギ−サブトラクシヨン用高速撮影装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0411211B2 (ja) | 1992-02-27 |
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