JPS5945663B2 - エチリデンジアセテ−トの製造方法 - Google Patents

エチリデンジアセテ−トの製造方法

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JPS5945663B2
JPS5945663B2 JP55014601A JP1460180A JPS5945663B2 JP S5945663 B2 JPS5945663 B2 JP S5945663B2 JP 55014601 A JP55014601 A JP 55014601A JP 1460180 A JP1460180 A JP 1460180A JP S5945663 B2 JPS5945663 B2 JP S5945663B2
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JP
Japan
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reaction
hydrogen
group
acid
compounds
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JP55014601A
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富彌 一色
安彦 喜嶋
晃 伊藤
哲志 渡辺
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Publication date
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は無水酢酸と水素とを反応させて、エチリデンジ
アセテートを製造する方法に関する。
無水酢酸を水素で還元して、エチリデンジアセテートを
製造する方法はすでに知られており、その製造方法にお
いて使用される触媒としてコバルトあるいは第■族の貴
金属を用いる方法が開示されている(特公昭48−19
285および米国特許3579566)。コバルトを用
いる方法は反応雰囲気において一酸化炭素の存在を必須
としており、又蒸留などによる生成物の分離作業におい
て揮発性のコバルトカルボニルなどのコバルト化合物が
製品であるエチリデンジアセテート中へ揮発して混入す
るおそれが強く、この点において工業プロセスとして満
足なものとはいえない。又第■族の貴金属を用いる後者
の方法は、貴金属化合物と併用して有機ホスフィン、ア
ルシンあるいはスチビンを用いることが触媒としての必
要条件である。しかしながら、貴金属と併用して用いる
有機ホスフィン、アルシンあるいはスチビンなどの化合
物は有機工業薬品として極めて特殊な物質であり、又高
価でもある。さらに、この分野の専門家が良く知つてい
るように前記の有機金属は例えば空気中に室温で放置し
ても酸化されて、反対に対して不活性な別の化合物に変
性してしまつたり、あるいはその不安定性のために貴金
属配位子としての活性が比較的短期間で失活してしまう
とか、さらにはこれらの有機金属は比較的毒性が強く、
製品中への混入をきびしく管理する必要がある。すなわ
ち、ホスフィン、アルシンあるいはスチビンなどの有機
金属を用いた触媒系に関する短寿命が工業プロセスとし
ての経済性を著しく低下させている。本発明者らは以上
の点に鑑み、無水酢酸の水素還元による合理的なエチリ
デンジアセテートの製造方法について鋭意研究をつづけ
たところ、パラジウムおよび/またはその化合物並びに
、アンモニアおよび/又は有機窒素化合物より成る新規
な触媒系を見い出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明はパラジウムおよび/またはその化合
物並びに、アンモニアおよび/又は有機窒素化合物より
成る触媒の存在下、実質的に無水の条件で無水酢酸と水
素とを反応させることを特徴とするエチリデンジアセテ
ートの製造方法である。
本発明による無水酢酸の水素還元反応の詳細な反応機構
は明確ではないが総合反応として次の化学反応式によつ
て表わすことができるo上記化学式で表わされる反応は
パラジウムおよび/またはその化合物並びに、アンモニ
アおよび/又は有機窒素化合物を触媒として使用するこ
とにより、反応を好適に進めることが出来る。
本発明のパラジウムおよび/またはその化合物は任意の
あらゆる型で利用されるがその一部を例示すれば、Pd
金属、Pd(NO3)2,〔PKC3FI5)〕2,P
dX2、〔PdX2、〔Pd(CO)X2〕2、Pd(
0Ac)2、Pd(AcAc)2、PdX2(PhCN
)2、PdX2(C8H,2)(上記式中のXはCl,
BrlまたはI,Phはフェニル基、0Phはフェノキ
シ基、AcOはアセトキシ基、AcAcはアセチルアセ
トネート基をそれぞれ示す。)があげられる〇一方、本
発明の反応は前記したパラジウム触媒とともに、アンモ
ニアおよび/又は有機窒素化合物の存在を必要とする0
前記のパラジウム触媒と併用して用いられるアンモニア
および/又は有機窒素化合物は前記のパラジウムと配位
化合物を形成することができ、その分子構造中に触媒金
属と配位結合を形成し得る1対以上の電子対を含む炭化
水素化物あるいは非炭化水素化物であるoこの種の窒素
化合物は反応剤と同時に反応帯へ導入することもでき、
あるいはあらかじめ触媒金属と結合させてから、生成し
た金属錯体を反応帯に導入することもできる0アンモニ
アおよび/又は有機窒素化合物を化合物の群に分類して
限定的ではなく例示する。
(i)三価の窒素族化合物 /A勤五 (4)一般式N−R2で表示されるアンモニア〜″且3 および/又は有機窒素化合物 (a)Rl,R2,R3が水素あるいは炭素数1〜10
の飽和アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基
を表わし、夫々お互いに同一でも異なつていてもよい化
合物 アンモニア、モノメチルアミン、ジメチ ルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエ
チルアミン、トリエチルアミン、ジメチルエチルアミン
、トリーn−プロピルアミン、トリー1s0−プロピル
アミン、トリーn−ブチルアミン、トリーTert−ブ
チルアミン、アニリン、ジメチルアニリン、ジエチルア
ニリン、ジメチルベンジルアミン、トルイジン、シクロ
ヘキシルアミン等のアミン類 (b)R1が水素あるいは炭素数1〜10の飽和アルキ
ル基、シクロアルキル基またはアリール基を表わし、R
2,R3が炭素数1〜5のポリメチレン基で結ばれた化
合物ピロリジン、N−メチルピロリジン、ピ ペリジン、N−フェニルピペリジン等の環状化合物 (c)Rl,R2が水素あるいは炭素数1〜10の飽和
アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表
わし、夫々同一でもお互いに異なつてもよい。
R3は炭素数1〜10の飽和脂肪族アシル基を表わす化
合物、及びR1が水素あるいは炭素数1〜10の飽和ア
ルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基でR2
,R3がカルボキシポリメチレン基で結ばれたラクタム
化合物アセトアミド、N,N−ジメチルアセト アミド、アセトアニリド、N−メチルーN−フェニルア
セトアミド等のカルボン酸アミド類及びN−メチルーピ
ロリジノン等のラクタム類 (d)Rl,R2,R3の中の少なくとも一つがカルボ
キシメチル基で、残りが水素あるいは炭素数1〜10の
飽和アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を
表わし、同N,N−ジメチルグリシン、N,Nージーエ
チルグリシン、イミノジ酢酸、Nーメチルジイミノ酢酸
、ニトリロトリ酢酸等のカルボン酸誘導体 (e)R1が炭素数1〜10の飽和アルキル基、シクロ
アルキル基、あるいはアリール基を表わし、R2,R3
はNと結合したニトリル類アセトニトリル、プロビオニ
トリル、ベ ンゾニトリル等のニトリル類 番 一般式 で表わされる有機窒素化合物 (a)Rl,R2,R3,R4は、水素あるいは炭素数
1〜10の飽和アルキル基、シクロアルキル基、あるい
はアリール基を表わし、R5は炭素数1〜10のポリメ
チレン基、フェニレン基、あるいはカルボニル基を表わ
す化合物 N,N,N′,N′−テトラメチルエチレンジアミン、
N,N,N′,N′−テトラエチルエチレンジアミン、
N,N,N′,N′−テトラーn−プロピルエチレンジ
アミン、N,N,N′,N′−テトラメチルメチレンジ
アミン、N,N,N′,N′−テトラメチル尿素、N−
メチルー2ーピロジノン等の化合物(b)Rl,R3が
水素又は炭素数1〜10の飽和アルキル基、シクロアル
キル基、あるいはアリール基で、R2,R4が炭素数1
〜5のポリメチレン基で結ばれ且つR5が炭素数1〜5
のポリアルキルメチレン基の化合物 ピペラジンN−メチルーピペラジン N−エチルーピペラジン、2−メチルN,N′−ジメチ
ルピペラジン等の環状化合物(c)その他の化合物 2,5−ジカルボキシピペラジン、シク ロヘキサンー1,2−ジアミンーN,N,N5,N″−
テトラ酢酸、及び塩並にテトラメチルエステル、エチレ
ンジアミンテトラ酢酸及び塩並にテトラメチルエステル
、1,4−アザビシクロ〔2,2,2〕オクタン、メチ
ル置換1,4ージアザシクロ〔2,2,2〕オクタン、
アジポニトリル、N−メチルモルホリン等の化合物 (11)複素環化合物 ピロール、ピロリン、ピリジン、ピリミジン、ピラジン
、ピラゾール、ピラゾリン、ピリダジン;ピコリン類
α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン;ルチジン
類2,6−ルチジン、2,4−ルチジン;コリシン類2
,4,6ーコリジンニベンゾトリアゾール;2,2′ー
ジピリジル及びその誘導体2,2′ージピリジルー4,
4′−ジメチルー2,2しジピリジル、4−トリエチル
シリルー2,2しジピリジル、α−アミノピリジン、β
−アミノピリジン、2−ヒドロキシピリジン、メチル置
換−2−ヒドロキシピリジン)ピ1リン酸、メチル置換
ピコリン酸、2,6−ジカルボキシピリジン、2−(ジ
メチルアミノ)ピリジン;イミダゾール;1,10−フ
エナントロリン及びその誘導体1,10−フエナントロ
リン、4−クロルー1,10−フエナントロリン、5−
(チアベンチル)−1,10−フエナントロリン;キノ
リン及びその誘導体 キノリン、2−(ジメチルアミノ
)−6−メトキシキノリン、8−ヒドロキシキノリン、
2−カルボキシキノリン(111)五価の窒素化合物 酢酸アンモニウム、プロピオン酸アンモニウム、リン酸
三アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二
水素アンモニウム以上の化合物群のうち、好適には三価
の窒素を含有する有機窒素化合物が有効である〇本発明
において主触媒として使用される前記したパラジウムの
使用量は液相反応媒体の全容量を基準にして12当り1
0−6〜5モル、好ましくは10−4〜1モル、さらに
好ましくは10−3〜0.5モルの範囲から選択する。
又、アンモニアおよび/又は有機窒素化合物の使用量は
、反応帯中の前記したパラジウム触媒の量に関係するが
通常、その量は液相反応媒体の全容量を基準にして11
当り10−6〜10モル、好ましくは10−4〜5モル
の範囲が選ばれる。
本発明の方法を実施するための反応は反応温度が20〜
500℃、好ましくは30〜350℃、さらに好ましく
は40〜250℃の領域が適当である。反応全圧もまた
液相反応媒体を液相に保ち、水素を適当な分圧に保つの
に十分であれば製造における重要なパラメ―ターではな
い。水素の好適な分圧は0.5〜350気圧、最適には
1〜300気圧、さらに最適には3〜250気圧である
が、これより広い0.05〜1000気圧の範囲の分圧
でもさしつかえない。使用される水素は必ずしも純度の
高いものでなくても良く、一酸化炭素、二酸化炭素、メ
タン、窒素、希ガス等を含有していても良い0このうち
特に反応ガス中の一酸化炭素は触媒を安定化しようとす
る傾向があり、多くの場合反応の進行に有利な影響を生
じる0しかし、極端に低い純度の水素は反応系の圧力を
増加するので好ましくない。したがつて、水素の純度が
2モル%以下の原料ガスは避けるべきであつて、好まし
くは5モル%以上、さらに好ましくは10モル%以上の
水素を含有する原料ガスが良好である。本発明の原料で
ある無水酢酸は例えばアセトアルデヒドの酸化あるいは
アセトアルデヒドの酸化又はメタノールと一酸化炭素の
反応により、生成した酢酸を、ケテンを中間体として経
由する、いわゆるワツカー法によつて供給することがで
きる0この場合、原料中に酢酸、酢酸メチル、アセトア
ルデヒド等の不純物が混入するであろうことが予想され
るが、反応の総合収支を乱さないかぎり、上記不純物も
許容して反応を好適に進めることが出来るO反応原料中
に水が混在することは一般に生じうる現象であるが、水
素、ならびに無水酢酸は市販の反応剤に存在することが
ありがちな程度の少量の水の混在は許容しても問題は生
じない。
しかしながら、通常本発明に用いられる一種以上の反応
原料に10モル%以上の水が混在することは避けるべき
であつて、反応系への大過剰な水の誘導は生成物の分解
を招来し易い。この点において5モル%、さらに好まし
くは3モル%以下の含水量であることが望ましい。水は
反応生成物ではないので液相反応媒体内を無水に近い条
件に保つことは、反応帯に導入される必要な反応剤なら
びに反応作動液を適正な乾燥状態に維持することによつ
て簡単に達成される〇本発明の方法は原料である無水酢
酸それ自体が溶媒を兼るので必ずしも溶媒を用いなくて
もよいが必要に応じて使用することもできる0一般に使
用し得る溶媒としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、オク
タン酸、フタル酸、安息香酸等の有機酸類、酢酸メチル
、酢酸エチル、エチレングリコールジアセテート、プロ
ピレングリコールジアセテート、アジピン酸ジメチル、
安息香酸メチル、安息香酸エチル、フタル酸ジメチル、
フタル酸ジエチル、フタル酸ジオクチル、酢酸フェニル
、酢酸トリル等の有機酸エステル類、ドデカン、ヘキサ
デカン、ベンゼン、ナフタレンビフェニル等の炭化水素
類、炭素数1〜10の脂肪族ハロゲン化物、芳香族ハロ
ゲン化物、脂環式ハロゲン化物例えば沃化メチル、沃化
エチル、沃化ブチル、メチレンアイオダイド、エチレン
ジクロライド、シクロヘキシルクロリド、クロルベンゼ
ン、ジクロルベンゼン、p−クロルトルエン等、トリフ
ェニルホスフェート、トリクレジルホスフエート、ジブ
チルフェニルホスフェート、テトラメチルオルトシリケ
ート、テトラブチルシリケート等の無機酸エステル類、
ジフェニルエーテル等の芳香族エーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン、ジブチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェノン等のケトン
類が挙げられるo本発明は無水酢酸よりエチリデンジア
セテートの製造を意図とするものであるが、これらの類
縁化合物である酢酸およびその誘導体である酢酸メチル
などのカルボン酸エステル類、無水酢酸などのカルボン
酸無水物、沃化メチル、沃化エチル、エチリデンジアイ
オダイドなどの沃化物、またはこれらの混合物を溶媒と
して用いることは好ましい実施態様である0これらの溶
媒は触媒および反応系を安定化し、目的物の選択率およ
び収率を増大する傾向を有する。
本発明の方法は回分式、半回分式、あるいは連続式で実
施することができるが、工業実施に際しては連続流通反
応の作業方式が好ましい。
以下実施例により本発明をより具体的に説明する。
実施例1 1001!Llのタンタル製オートクレーブに無水酢酸
35.09、酢酸パラジウム0.244gおよび2,6
−ルチジン0.4359を入れ、空気を窒素で置換した
後、水素を120kg/CI!lまで圧入し、さらに一
酸化炭素を圧入して全圧を1601<g/CI!lとし
た。
次いで175℃まで加熱し、攪拌しながらこの温度に4
時間保つた。この間に30kg/CTilの圧力の低下
が認められた0冷却後、反応液を取り出して分析したと
ころ、液中に4.569のエチリデンジアセテート、1
.869の酢酸エチル、6.379の酢酸が含まれてい
た0残りの大部分は未反応の無水酢酸であつた〇実施例
2〜5

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 パラジウム及び/又はその化合物並びにアンモニア
    および/又は有機窒素化合物より成る触媒の存在下、実
    質的に無水の条件下で無水酢酸と水素とを反応させるこ
    とを特徴とするエチリデンジアセテートの製造方法。
JP55014601A 1980-02-08 1980-02-08 エチリデンジアセテ−トの製造方法 Expired JPS5945663B2 (ja)

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