JPS5942695A - 非揮発性で再プログラミング可能な蓄積セルを備えた集積メモリマトリツクス - Google Patents

非揮発性で再プログラミング可能な蓄積セルを備えた集積メモリマトリツクス

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JPS5942695A
JPS5942695A JP58048039A JP4803983A JPS5942695A JP S5942695 A JPS5942695 A JP S5942695A JP 58048039 A JP58048039 A JP 58048039A JP 4803983 A JP4803983 A JP 4803983A JP S5942695 A JPS5942695 A JP S5942695A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は非揮発性で再プログラミング可能な蓄積セルを
具備している集積されたメモリマトリックスに関するも
のである。
〔発明の技術的背景〕
プログラムDJ能な非揮発性蓄私(メモリ)セルは種々
の略46(て文献に記載されている。蓄積媒体をそれぞ
れ具備している絶縁r−ト電界効果トランジスタ構造を
有する蓄積セルが常に関係している。本明細1において
「泊去」とはセルの電極に電圧全力えることによりソー
スおよびドレイン領域の勾号を有する奄向がチャンネル
区域の上方に位置する蓄積媒体に到達することかできる
動作を葛うものであり、1書込み」とはこれらの電荷が
同様に電圧の印加により、或はまた紫外線の照射により
蓄積媒体から再び除去される動作を右うものとするう内
蔵された蓄積セとの概観は技術雑誌Proceedin
gs of theI EEE第64巷第7号(197
6年7月)第1039頁ないし第1040頁に記載され
た[非揮発性半導体メモリ装置」と言う標題の論文に示
されている。
本発明は集積されたメモリマ) IJソックスすなわち
mXn個の蓄積セルがm列、n行に配置された装置に関
するものである。蓄積(メモリ)セルは蓄積トランジス
タのみで構成することもできるが、蓄積トランジスタの
%、流路中に選択トランジスタを配置し、その選択トラ
ンジスタのダートを技術雑誌I Electronjc
s+ J 1980年2月28日号第113頁ないし第
117負に記載されたように選択線に接続した追加の構
成を具備したものでもよい。
そのようなメモリマトリックスの製造の監視中ならひに
最終?11す足甲にセルのしきい値に応してメモリマト
リックスを分類できることが間組となり、そのために正
常な状態において全てのセルが連続的に摘出されでテス
トされなければならない。
〔発明の概要」 本発明の目的−1、回路的および時間的に何晴顕嘴な追
加手段を栴じることなくこの9肴1の問題を角1決する
ことである。
本発明は、東根さ11たメモリマl−IJソックス半導
体中に同様に集積されている同じ型式の基準セル、すな
わちマトリックスの蓄積セルと同時にその半導体中に製
作された同じ構造の基準セルをこの目的に使用すること
を基本思想とするものである。
本発明の関係する型式の集積メモリマトリックスで同様
に同じ型式の、集積された基準セルを使用することはす
でに西ドイツ公開l持許公報DE−O82620749
月公報に記載されている。
しかしながら、このマトリックスは本発明の基礎とする
問題とは別の問題をm決するためのものである。すなわ
ちそれIri胱取り動作の長い期間を通して読取りイg
号の変動による信頼性の低下の問題を解決するためのも
のである。従来のマトリックスにおいては、この問題杜
少なくとも1個のしきい値が可変な基準電界効果トラン
ジスタを設け、それが読取り装置によって1つのしきい
値に調整され、蓄積トランジスタの質問において基準ト
ランジスタを質関し、これによって基準信号を生成させ
、比較回路を設けて蓄積信号と基準読取り信号とを比較
することによって解決している。
したがって上述の文献(DE−O82620749号)
に示されたメモリマトリックスを出発点として本発明は
特許請求の範囲に記載された構成の集積マ) IJワッ
クスよって前述の1!4!造中或は製造後の何れかに集
積メモリマトリックスを分類する問題を解決するもので
ある。
第1および第2の電圧源の両名は絶縁ケ゛−ト屯界効果
トランジスタで構成された分圧器であることが好ましく
、それらは共に蓄積セルの半導体中に同様に集積される
。分圧器はそれぞれペーストランノスクおよび多数の並
列に配置された負荷トランジスタを具備し、それら負荷
トランジスタはチャンネル領域の幅対長さ比が段階的に
変化しでいる。負荷トランジスタは選はれた電圧値に応
じて嗜生状態に切換えられる。
〔発明の実施例〕
以下第1図および第2図に示す実施例を参照に本発明を
説明する。
第1図に示されたよりな書プログラミングoJ能な蓄積
セルMが第2図においては蓄積セルM 7 J ・・M
n、 1 、 M J n−Mm、として1行m列に配
置されで集積メモリマトリックスを構成している。第1
図の蓄積セルMは浮遊電位ケ゛−ト丁゛3に対して両方
向に電流を流すトンネル注入装置Iを備えている。その
ような蓄積(メモリ)セルを使用する集iJiメモリー
)リックスは前述のJiff、誌Electronic
s 1980/xf2月28 [=l 月?4”=11
3負ないし第117頁に記載されている。
第1図に示されたよりな蓄積セルにおいてはトンネル注
入装置Iは一方では;!i−、1jltトランノスタT
8のソース・ドレイン路を経て第1のビット線Xに接続
きれ、また他方では選択トランジスタTaのソース・ド
レイン路を経て第2のビット# Y K接続されている
。一方蓄粗トランジスタT8のr−)はグログラミング
線P K接続され、選択トランジスタTaのr−トは選
択&!zに接続されている1選択線zはメモIJ ? 
トリックスの蓄積セルの行単位での選択を行なう行デコ
ーダD7の出力端子の1つに接続されている。
第2図のブロック図に示されているように行デコーダD
7の外にメモリマトリックスのJS辺回路としてブロッ
クデコーダDbが設けられており、それによって列方向
に配列されたn行の蓄積群のW=m/b個のブロックの
1つを選択することができる。読取シ動作中、第1のビ
ット線Xは回路のゼロ電位点に第2図に示すように接続
される。
i番目の蓄積セルを選択するために、その各行は行デコ
ーダD2によって選択され、その各ブロックはブロック
デコーダDbによって選択される。したが−> −L 
、b (Ia+の鞘イ〕(セルのそれぞれはその1)本
のデ タb Liの1つ7d: 1ljl・て到達する
ことができる。し力)し図を簡単にして判り易ぐするた
めに今問題にしているi &目のデータ&’t: L3
しか第2図には示されていない。1番目の蓄積セルのア
ドレスを選択する時、読取り電圧Ur。
がこのyゝ−りH」l−Eに現わ7t1それ故それぞJ
しの情報内容に対応するソース・ドレイン電流がその蓄
積トランジスタ(第1図のT8)を通って流れる。した
がって、U[5取り増幅器によってこの電流から第1の
電圧信号が出力妊れ、それは差動増幅器の形態に設計さ
れた比較回路Adの第lの入力端子1に供給される。比
較回路Adには前述の西ドイツ公開特許公報1)E−O
82620749号に記載されているような2安定マル
チバイブレータを1史月1してもよい。
比較回路Adの第2の入力端子2は@取り増幅器Aと類
似の基準読取り増幅器A、の出力端子に接続される。基
準読取り増幅器Arの入力には読取り増幅器Aの入力と
同じ大きさの8′Jr、取シ電圧Ut、が供給づれる。
この発明によれば基準読取り増幅器Arの入力−路内に
メモリマトリックスSのMkセルと同一で同様に製作恣
れたノログラムされない基準セルMrの蓄積トランジス
タT8′のソース・ドレイン路が配置されている。
基準セルMrの使用により、同じ型式のセルよりなるプ
ログラムさノした蓄A’tt七ルのしきい飴′屯圧の制
限値に等しい較正された基準電圧源が与えられ、自己放
電するプログラム忌れた蓄オj【セルのしきい値電圧を
時間のIPj数として漸近的に近似する。
もしも例えば浮遊電位蓄積ケ゛−トを1iftえたnチ
ャンネル蓄積セルが蓄J%f−)から亀子を除去するこ
とによって論理IK設足されるならは、しきい値電圧は
基準の行Mrに対して成る量だけ低下し、それは品質基
準として使用できる。しかしながらしきい値電圧窓の最
大値に到達することは稀であり、大抵は実用と関連する
必要はない。しかしながら、試験動作のためおよび評価
限度の第1として作用するために書込まれたセルとして
作用するセルと基準セルMrとして作用慢るバージンな
セルとの間のしきい値電圧が与えられなりればならない
。これは基準セルに蓄積セルMに到達する電位と別の電
位を供給することによって達成され、その過程において
しきいイ1(1電圧はシミー17−トさtjlそれは評
価限界として利用される。このために基準セルM。
は県積セルMに与えられているのと別の電位を供ボー1
される。このようにして兆積セルを制動する電位の変化
に殆ど類イυ、し7た効果を得ることができる。
このために基準セルMrの溶植トランジスタT、、′の
ソース・1゛レイン路がある基準増幅器Arの入力回路
中に電圧か段階的に調節できる第1の1L圧源Q1が配
置される。さらに基準セルMrの蓄積トランジスタT8
′のr ト電極は段階的に調節できる第2の電圧源Q2
の端子の1つに接続される。もしも、例えは、nチャン
ネル基準セルのP端子にもっと止の一位が供給されるな
らね、より負の(iFiに向−)1のしきい値電圧Ud
の明らかな変移のために評′価限界の低下を行なうこと
ができ、またもしもより負の信号が供給されればその反
対の動作が行なわれる。さらにより正の電位を基準セル
のX端子に供給することによってしきい値電圧Ud′の
上昇がシーミレートされ、したがって評価限界は上昇す
る。評価限界の低下はX端子により負の電位を印加する
ことによって行なわれる。出力電圧が段階的に調α  
  Q 節される2個の電圧源11およびT2はメモリマトリッ
クスの半尋体中に同じように果枝される。
第2図から明らかなように、これら2個の箪/2.Q 庄原¥1および¥2は絶縁ゲート電界効果トランジスタ
からなる分圧器の形態に設計されている。各分圧器はそ
れぞれペーストランジスタTノまたはT 7 ’を備え
、そのソース電極は接地され、ダート電極は電源電圧V
ccのような一定の一位に接続されている。ペーストラ
ンジスタTI。
TI’のそれぞれのドレイン領域に対して複敷の負荷ト
ランジスタTll、T12:Tll’、T12’のソー
ス電極がそれぞれ接続され、それらはチャンネル領域の
幅対長さW/Lが段階的に変えられている。メモリマト
リックスの選択された1つの蓄積セルMの蓄積トランジ
スタの制御ケ“−トに刻してブロック線B。を経てブロ
ック信号源B8のブロック信号U。を供給するから、第
2の電圧源Q2のペーストランジスタTI’のソース霜
、極は同様に基4.電圧として作用する箱1位U。
に接続される。
2個の電圧源QJ″!、たはQ2においてそれぞれ2個
の負荷トランジスタTllとT12またはT11′とT
I2′が使用される時、基準セルMr中の蓄積トランジ
スタT8′ の16のしきい111をシュミレートする
可能性が生じる。基準セルMrのしきい値を選択するた
めに、第2図に示すように個々の負荷トランジスタTl
l、T12゜Tll’、T12’の1つのケ”−トにそ
れぞれ接続された41向の出力端子11.ノ2 、1 
、? 、 14を鳴するレジスタRが設けられる。さら
に前述の16の可能性に応じてレジスタは4個のレジス
タ入力端子Eを有し、それを経てそれぞれ1つの出力端
子に割当てられた1個のスタチックなレジスタが調節で
きる。レジスタ入力端子Eを経て対応するバイトの入力
によりシミーレートされたしきい値の選択において、レ
ジスタはロック入力端子Svにロック用iJ?ルスを供
給することによってロックされる。
論理”1″が蓄積セルの消去状態に対して割当てられ1
消去」がnチャンネル蓄積トラン・ゾスタを有する蓄積
ダートのさらに負に帯電させることを1うものとする時
、蓄積トランジスタのシミーレートされた比較的高いし
きい値によって基準セルMrKThJl!″l”の1品
質に1杓する評価限界を与えることが可能であり、蓄イ
:* トランジスタT8′ の比較的低いしきい値をシ
ミーレートすることによって論理″0”の別の品質を基
準セルに与えることが可能である。もしも今、蓄積グル
ープbのビットbの数に対応する差−〇増幅器が設けら
れ、その第1の入力端子にそれぞれ選択された蓄積グル
ープの1つの蓄積セルのlデータ線が接続され、その第
2の入力端子に基準セルのシミーレートされたし遺い値
に対応した信号が供給されるならば論理”1″の品質に
関しておよびまた論理″0″のそれらに胸してグループ
単位で全グループの任意のシーケンス順序で検査するこ
とができる。すなわち、それにおいて1つのそのような
シミーレートされたしきい(in対はレジスタRによっ
て与えられ、それは集積されたメモリマ) IJワック
ス品質の特性である。
第2図および今迄の説明から明らかなように実際にブス
ト読取り動作を実行するだめの本発明による東稙メモリ
マトリックス中の回路における投資は効果に比較して小
さく、アドレス・アクセス時間に影響しないように設計
することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明メモリマ) IJワックス使用する蓄積
セルの1例を示し、第2図は本発明メモリマトリックス
の1実施例を示す。 M・・・蓄積セル、TIl+・・・j佑−1]’i )
ランノスタ、Ta・ノh択トランジスタ、X、Y・・・
ビット線、P・・・プログラミングff4)、Z・・選
択線、■・・・インジェクタ装m、DZ・・行デコーダ
、Db・・プrJ ツクデコーダ、A、Ar・・・増幅
器、Ad・・比較回路、Mr・・・基準セル、R・・・
レジスタ、Q11Q2・・・段階的に変化できる電圧源
。 出紬人代理人  弁理士 鈴 江 武 彦図面の浄書(
内容に変更なし) 1、ζ11件の表示 l旨+Hr、′i昭58−43039号3、補止をする
者 小イ牛との関係 牛y−許出h11人 フイテイーテ不−・インダストリーズ・インコー醪レー
テッド 4、代理人 1、。 5、抽圧命令のH伺 昭和58年8月30日 6、補止の対象 図面 7、油止の内容  別紙の通り 図面の浄書(内容に変更なし) −570=

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  それぞれ蓄積トランジスタ(Ts)を備え、
    行および列に配列された非揮発性で再プログラミング可
    能な蓄積素子を具備し、蓄積トランジスタ(’rs)の
    蓄積セル(M)のアドレスの選択によシその蓄積トラン
    ジスタのソース・ドレイン路から第1の電圧信号が出力
    されて比較回路の一方の入力端子に供給され、前記蓄積
    トランジスタ(T8)と同じ構成の同一の基準蓄積トラ
    ンジスタのソース・ドレイン路から第2の電圧48号が
    出力されて比較回路の他方の入力端子に供給される集積
    されたメモリマトリックスにおいて、 前記比較回路(/d)の第1の入力端子<1)は第1の
    読取増幅器の出力端子に接続され、前記蓄積セル(M)
    の蓄積トランジスタ(T8)のソース・ドレイン電流が
    その増幅器の入力回路に結合され、 前記比較回路(Ad)の第2の入力端子(2)に基準読
    取増幅器(Ar)の出力端子が接続烙れ、前記蓄積セル
    (M)のそれと同一構成のプログラミング1丁能でない
    基準セル(M、 )の蓄積トランジスタ(T8’ )の
    ソース・ドレイン亜流がこの基準読取増幅器(Ar)の
    入力回路に結合され、前記基準読取増幅器(A□)の入
    力回路おまひ前記基準セル(Mr)の蓄積トランジスタ
    (T、’)のソース・ドレイン路を含む回路において電
    圧が段階的に*I7!l整i」能な第10屯圧綜(Q7
     )が配置され、および、または前記基準セル(Mr)
    の蓄積トランジスタ(’rs’)のゲート電極が段階的
    に調整用能な第2の電圧源(Q2)の1端子に接続され
    、 前記基準読取増幅器(Ar)、前記基準セル(Mr)お
    よび前m1段階的に調整用能な電源(Q)。 Q2)はそれぞれ前記メモリマトリックス(S)の半導
    体中に東稙されていることを特徴上するメモリマトリッ
    クス。
  2. (2)  前記電圧源(Q7.Q2)の少なくとも1つ
    は絶縁ケ9−ト電界効果トランジスタ(T17゜1’l
    、T12:Tll’、TI’、T12’)からなりメモ
    リマトリックスの半導体中に集積された分圧器であり、
    この分圧器はそれぞれ1個のペーストランジスタ(T)
    、T1′)および複斂の負荷トランジスタ(Tx、T1
    )’:Tzz、Tzz’)を備え、それら負荷トランジ
    スタはチャンネル領域の幅と長さとの比(W/ L )
    が順次笈化しており、負荷トランジスタのソース・ドレ
    イン路は選択される電圧に応じて導電状態に切換えられ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のメモリ
     マ ト リ ッ り ス 。
  3. (3)  前記負荷トランジスタ(Tx、rzz:Tl
    l’、T12’)の各ダート電極はメモリマトリックス
    の半導体中に集積されたレジスタ(R)の出力端子の1
    つC10,1z、13.74)にそれぞれ接続され、こ
    のレジスタ(R)は集積メモリマトリックスの外部端子
    を介して1ff−+整1」能であり、少Z〔くとも1つ
    の追加の外部端子(Sv)を介してロックi」能に構成
    されCいることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載
    のメモリマド リ ッ り ス 。
JP58048039A 1982-03-24 1983-03-24 非揮発性で再プログラミング可能な蓄積セルを備えた集積メモリマトリツクス Granted JPS5942695A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP82102447A EP0089397B1 (de) 1982-03-24 1982-03-24 Integrierte Speichermatrix mit nichtflüchtigen, umprogrammierbaren Speicherzellen
EP82102447.8 1982-03-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5942695A true JPS5942695A (ja) 1984-03-09
JPH0157439B2 JPH0157439B2 (ja) 1989-12-05

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US (1) US4524429A (ja)
EP (1) EP0089397B1 (ja)
JP (1) JPS5942695A (ja)
DE (1) DE3267750D1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62164300A (ja) * 1985-10-29 1987-07-20 テキサス インスツルメンツ インコ−ポレイテツド 電気的に消去可能なプログラム可能な半導体メモリ・セル

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3587082T2 (de) * 1984-04-02 1993-06-03 Univ Leland Stanford Junior Speichersystem fuer analoge daten.
IT1221018B (it) * 1985-03-28 1990-06-21 Giulio Casagrande Dispositivo per verificare celle di memoria in funzione del salto di soglia ottenibile in fase di scrittura
EP0198935A1 (de) * 1985-04-23 1986-10-29 Deutsche ITT Industries GmbH Elektrisch umprogrammierbarer Halbleiterspeicher mit Redundanz
JPS62177799A (ja) * 1986-01-30 1987-08-04 Toshiba Corp 半導体記憶装置
US6226200B1 (en) * 1999-11-17 2001-05-01 Motorola Inc. In-circuit memory array bit cell threshold voltage distribution measurement
US7850378B1 (en) 2005-05-13 2010-12-14 Apple Inc. Webbed keyboard assembly
US8320191B2 (en) 2007-08-30 2012-11-27 Infineon Technologies Ag Memory cell arrangement, method for controlling a memory cell, memory array and electronic device
JP6496686B2 (ja) * 2016-07-04 2019-04-03 株式会社三共 遊技機

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4127901A (en) * 1977-08-03 1978-11-28 Sperry Rand Corporation MNOS FET memory retention characterization test circuit
US4181980A (en) * 1978-05-15 1980-01-01 Electronic Arrays, Inc. Acquisition and storage of analog signals
US4223394A (en) * 1979-02-13 1980-09-16 Intel Corporation Sensing amplifier for floating gate memory devices
JPS57141097A (en) * 1981-02-25 1982-09-01 Toshiba Corp Storage circuit
US4441168A (en) * 1982-01-13 1984-04-03 Sperry Corporation Storage logic/array (SLA) circuit

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62164300A (ja) * 1985-10-29 1987-07-20 テキサス インスツルメンツ インコ−ポレイテツド 電気的に消去可能なプログラム可能な半導体メモリ・セル

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0157439B2 (ja) 1989-12-05
DE3267750D1 (en) 1986-01-16
US4524429A (en) 1985-06-18
EP0089397A1 (de) 1983-09-28
EP0089397B1 (de) 1985-12-04

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