JPS5942566Y2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 この考案は励振口を介して加熱室内にマイクロ波が導入
される高周波加熱装置の改良に関する。

加熱室内部にヒータを備えた高周波加熱装置においては
食品の調理中に生ずる汚れが高温に加熱されてワニス状
となシ加熱室の壁面に付着し清掃が困難となる。

そこで従来においては第１図に示すように、加熱室ａの
天井面すの近傍に鉄板製の仕切壁Ｃを設け、この仕切壁
Ｃにセルフクリーニング処理を施して食品ｄから発生す
る汚れを上記仕切壁Ｃの下面に付着させ汚れを自然に分
解させるようにしていた。

この場合、上記仕切壁Ｃには加熱室ａの天井面に設けら
れたマグネトロンｅに対する励振口ｆと対向して開口部
ｇを設け、この開口部ｇには食品ｄから発生する汚れが
加熱室ａの天井面すに付着したり、導波管りの内部に侵
入しないように、カバーｉを設ける必要がある。

しかしながら、このカバーｉは上記のようにマイクロ波
を透過させる必要があシ、さらに汚れの清掃を容易にす
るという点からセルフクリーニング処理することが望ま
しいが、カバーｉとしてマイクロ波を反射する金属板を
使用することができないので、金属を素地としたセルフ
クリーニング処理は、無理で従来は一般にシリコン樹脂
積層板製のカバーｉをセルフクリーニング処理すること
なく使用していた。

また、第２図は同じ〈従来の高周波加熱装置で加熱室ａ
の天井面すには仕切壁を設けずに、加熱室ａの天井面す
にセルフクリーニング処理を施し、励振口ｆに第１図の
場合同様シリコン樹脂積層板製のカバーｉを設けていた
。

したがって、カバーｉはいずれもセルフクリーニング処
理されていないため汚れが付着し清掃が困難であった。

さらに、カバーｉの表面に付着した食品の油分等が加熱
調理中の熱によって炭化され、この炭化物がマイクロ波
によってスパークして、カバーｉが破損するおそれもあ
った。

この考案は上記事情を考慮してなされたもので、その目
的は、マイクロ波の導入用開口部を閉塞するカバーの清
掃作業を容易化することができるとともに、カバーの破
損を防止することができる高周波加熱装置を提供するこ
とにある。

以下、この考案の一実施例を第３図釦よび第５図を参照
して説明する。

第３図中１は本体であって、この本体１の側壁には排気
口２が設けられている。

筐た、この本体１の前面には扉体３が設けられている。

本体１の内部には加熱室４が設けられている。

加熱室４の側壁には図示しないマグネトロン（高周波発
振器）が設けられ、加熱室４の天井面５に励振口６を有
する導波管７により加熱室４内にマイクロ波を供給し食
品８を調理するようになっている。

天井面５の下部には励振口６と対向する位置に開口部（
導入用開口部）９を備えた仕切壁１０が上記加熱室４の
側壁に支持されている。

仕切壁１０の下面にはセルフクリーニング処理が施され
ているとともに、開口部９を閉塞するカバー１１が設け
られている。

そして、このカバー１１も同じくセルフクリーニング処
理されている。

また、このカバー１１はマイクロ波を通過させることが
可能でなければならず、かつ、最高３５０℃程度の高温
に耐えるものでなければならない。

さらに、セルフクリーニング触媒とのマツチングの良好
であることが必要となる。

このような要件に適合する素材としてはペタライト、コ
ージェライト系の耐熱セラミックス、石英ガラスまたは
リチウム系の結晶化ガラス等の耐熱性誘電体がある。

これらの素材を使用したカバー１１の片面にＭ ｎ Ｏ
２・ｐｔなどの触媒を焼付け、多孔質の表面に仕上げる
ことによりセルフクリーニング能力を持たせることがで
きる。

またＭ ｎ ０２・ｐｔなどの触媒を上記素材の表面に
焼付けるには、これら触媒と同じ材料を粉体として混合
すればこの粉体がバインダとして作用して、固着し焼成
される。

耐熱性プラスチックスを素材としたカバー１１に対して
は素材と同じ材質のワニスまたは水ガラスなど無機耐熱
性接着剤を使用して触媒を塗付して焼成すればよい。

つぎに、仕切壁１０の下部にはヒータ１２が設けられて
いる。

一方、仕切壁１０および加熱室４の天井面５にはそれぞ
れ排気口１３．１４が設けられていて、加熱室４内の汚
れまたは臭気を本体１の排気口２から本体１の外に排気
するようになっている。

さらに、仕切壁１０の排気口１３はヒータ１２によシ調
理する場合には閉塞し、加熱室４内の温度を低下させな
いようになっている。

すなわち、第５図に示すように本体１の操作部１５に設
けられた切換釦１６を操作してマグネトロン加熱からヒ
ータ加熱に切換えることによシ、カバー１７が点線に示
すように回動して排気口１３を閉塞するようになってい
る。

反対にマグネトロン加熱に切換えることによシ反時計方
向に回動し排気口１３を開放するようになっている。

５また、加熱室４に設けられた排気口１４は排気口１３
に対向して設けられ、多数のパンチングホールからなシ
、マイクロ波がリークしないようになっている。

そこで、上記構成のものにあっては仕切壁１０の下面に
セルフクリーニング処理が施されているとともに、開口
部９を閉塞するカバー１１が耐熱性誘電体によって形成
され、この耐熱性誘電体カバー１１にセルフクリーニン
グ処理が施されているので、従来のように加熱調理中に
カバー１１に付着した汚れがワニス状になるおそれがな
く、カバー１１の清掃作業を容易に行なうことができる
。

また、カバー１１に付着した汚れが高温度に加熱されて
炭化されるおそれもないので、マイクロ波による炭化物
のスパークを防止してカバー１１の破損を確実に防止す
ることができる。

つぎに、第４図に示す他の実施例について説明する。

な釦、第４図中で第３図と同一部分は同一の符号を付し
てその説明を省フニる。

すなわち、この場合は加熱室４の天井面 、内面にセル
フクリーニング処理が施されている。

加熱室４の側壁には図示しないマグネトロンが設けられ
ていて、加熱室４の天井面５に設けられた励振口（導入
用開口部）６からマイクロ波を導波管７を介して供給し
、食品８を調理するようになっている。

また、上記励振口６には耐熱性の大きいセラミックス、
ガラスまたは耐熱性プラスチックスたとえばシリコン樹
脂積層板等の耐熱性誘電体からなシセルフクリーニング
処理を施されたカバー１８によって閉塞され汚れが導波
管７内に侵入しないようになっている。

また、加熱室４の天井面には排気口１４が設けられてい
て、加熱室４内の汚れを排気口２から本体１の外へ排出
するようになっている。

さらに、排気口１４は多数のパンチングホールからなり
マイクロ波をリークさせないようになっている。

捷た、排気口１４はヒータ１２による調理の場合には閉
塞し、加熱室４内の温度を低下させないようになってい
る。

すなわち、第５図に示すように本体１の操作部１５に設
けられた切換釦１６を操作してマグネトロン加熱からヒ
ータ加熱に切換えることによ九カバー１９が点線に示す
ように回動し排気口１４を閉塞するようになっている。

反対にマグネトロン加熱に切換えることにより反時計方
向に回動し排気口１４を開放し加熱室４内の汚れ、臭気
を本体１外へ排出するようになっている。

したがって、この場合であっても加熱室４の天井面５に
形成された励振口６が耐熱性誘電体によって形成された
カバー１８によって閉塞されるとともに、このカバー１
８にセルフクリーニング処理が施されているので、前記
実施例と同様にカバー１８の清掃を容易に行なうことが
できるとともに、カバー１８の破損を防止することがで
きる。

以上説明したように、この考案によれば高周波発振器か
ら出力されたマイクロ波を加熱室内に導入する導入用開
口部を閉塞するカバーを耐熱性誘電体によって形成し、
この耐熱誘電体カバーにセルフクリーニング処理を施し
たので、カバーの清掃作業を容易にすることができると
ともに、カバーの破損を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は従来の高周波加熱装置の縦断側面
図、第３図はこの考案の一実施例の縦断側面図、第４図
は他の実施例の縦断側面図、第５図はこの一実施例およ
び他の実施例の装置本体を示す正面図である。 ４・・・・・・加熱室、６・・・・・・励振口（導入用
開口部）、９・・・・・・開口部（導入用開口部）、１
１，１８・・・・・・カバー。

Claims (3)

【実用新案登録請求の範囲】
1. （１）高周波発振器から出力されたマイクロ波を加熱室
   内に導入する導入用開口部を閉塞するカバーを耐熱性誘
   電体によって形成し、この耐熱性誘電体カバーにセルフ
   クリーニング処理を施したことを特徴とする高周波加熱
   装置。
2. （２）耐熱性誘電体カバーは、セラミックスまたはガラ
   スからなることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第
   （１）項記載の高周波加熱装置。
3. （３）耐熱性誘電体カバーは、耐熱性プラスチックから
   なることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第（１）
   項記載の高周波加熱装置。