JPS594177B2 - 固気接触反応装置から触媒を排出する装置 - Google Patents
固気接触反応装置から触媒を排出する装置Info
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- JPS594177B2 JPS594177B2 JP50045640A JP4564075A JPS594177B2 JP S594177 B2 JPS594177 B2 JP S594177B2 JP 50045640 A JP50045640 A JP 50045640A JP 4564075 A JP4564075 A JP 4564075A JP S594177 B2 JPS594177 B2 JP S594177B2
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- gas
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
- B01J8/003—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor in a downward flow
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は主に燃焼ガスの乾式排煙脱硝装置等の固気接触
反応装置から触媒を排出する装置に関し、詳しくは操業
中において上記ガス中のばいじんによる触媒を充填した
充填塔の目詰りを防止すると同時に、触媒の摩耗損失を
少なくする装置に係わる。
反応装置から触媒を排出する装置に関し、詳しくは操業
中において上記ガス中のばいじんによる触媒を充填した
充填塔の目詰りを防止すると同時に、触媒の摩耗損失を
少なくする装置に係わる。
大気汚染防止の必要性から、種々の排煙脱硝プロセスが
開発されつつある。
開発されつつある。
そのうち、乾式法に属するものとして接触還元法が代表
的である。
的である。
この方法では燃焼ガスに還元剤を供給し、有害な窒素酸
化物（ＮＯｘ ）を接触的に無害な窒素に還元させる。
化物（ＮＯｘ ）を接触的に無害な窒素に還元させる。
ところで、接触還元法では、触媒充填塔を備えた固定床
や静止床の固気接触反応装置が使用されているが、しか
しこれら反応装置にばいじんを含有する燃焼排ガスを流
通せしめると、上記充填塔内にばいじんが付着堆積して
目詰りを起こすため、そのガスの圧力損失が増大し、ボ
イラなと煙源設備の運転に支障をきたす問題があった。
や静止床の固気接触反応装置が使用されているが、しか
しこれら反応装置にばいじんを含有する燃焼排ガスを流
通せしめると、上記充填塔内にばいじんが付着堆積して
目詰りを起こすため、そのガスの圧力損失が増大し、ボ
イラなと煙源設備の運転に支障をきたす問題があった。
このようなことから、充填塔内の付着媒じんを定期的に
除去するために、塔内の汚れた触媒を必要に応じて系外
に取出し、ばいじんを付着した触媒を分離した後再供給
する方法が考えられている。
除去するために、塔内の汚れた触媒を必要に応じて系外
に取出し、ばいじんを付着した触媒を分離した後再供給
する方法が考えられている。
この方法としては、従来の化学工業で採用されている接
触反応の充填塔や触媒貯槽の触媒粒子を再生、廃棄する
ために各種コンベア、吸引ポンプにより触媒粒子を取出
す方法を応用することが考えられる。
触反応の充填塔や触媒貯槽の触媒粒子を再生、廃棄する
ために各種コンベア、吸引ポンプにより触媒粒子を取出
す方法を応用することが考えられる。
しかしながら、上述した固定床や静止床の充填塔にあっ
ては、触媒粒子間の摩擦抵抗が大きく、かつ粉砕粒子１
．・□画境化粒子が充填塔の底部に堆積するため、この
充填塔に上記方法を適用し、操業中に触媒粒子を系外に
取出すことはほとんど不可能であった。
ては、触媒粒子間の摩擦抵抗が大きく、かつ粉砕粒子１
．・□画境化粒子が充填塔の底部に堆積するため、この
充填塔に上記方法を適用し、操業中に触媒粒子を系外に
取出すことはほとんど不可能であった。
結局、触媒を入替る場合は経済的に非常に好ましくない
が、一旦操業を停止する必要があった。
が、一旦操業を停止する必要があった。
一方、充填塔を備えた流動床の固気接触反応装置にあっ
ては、操業中にその触媒を連続的または間げつ的に系外
に抜き出すことが可能であるが、この場合触媒粒子が激
しく流動して接触し合うため、その摩耗が激しく、反応
後の被処理ガスとともにその摩耗によって発生した触媒
粉末が排出される。
ては、操業中にその触媒を連続的または間げつ的に系外
に抜き出すことが可能であるが、この場合触媒粒子が激
しく流動して接触し合うため、その摩耗が激しく、反応
後の被処理ガスとともにその摩耗によって発生した触媒
粉末が排出される。
したがって、二次公害の原因となるため採用できない。
本発明はこれら従来の欠点を克服するためになされたも
ので、固気接触反応装置における充填塔内の触媒を操業
中に排出するに際し、塔内のすべての触媒を安定かつ均
一に移動せしめて系外に排出することによって、被処理
ガス中のばいじんによる充填塔の目詰りを防止すると同
時に触媒の摩耗損失を少なくして二次公害を抑制する固
気接触反応装置から触媒を排出する装置を提供しようと
するものである。
ので、固気接触反応装置における充填塔内の触媒を操業
中に排出するに際し、塔内のすべての触媒を安定かつ均
一に移動せしめて系外に排出することによって、被処理
ガス中のばいじんによる充填塔の目詰りを防止すると同
時に触媒の摩耗損失を少なくして二次公害を抑制する固
気接触反応装置から触媒を排出する装置を提供しようと
するものである。
すなわち、本発明はばいじんを含有する被処理ガスの水
平もしくはそれに近い方向の流路に、このガスが通過す
る前後面を通気板とし、かつ内部に粒状触媒を充填した
充填塔を垂直に配置し、同充填塔の下部に細長いスリッ
ト状の粒状触媒排出開口部を設け、上記充填塔の上部よ
り粒状触媒を逐次供給する構造を有し、上記粒状触媒排
出開口部の下方に該開口部の吐出口からはみ出した粒状
触媒の堆積用台座を同開口部の全長に亘って横方向に配
設した排出装置において、前記台座上に往復動駆動機構
を有するスクレーパを摺動自在に設置したことを特徴と
する固気接触反応装置から触媒を排出する装置である。
平もしくはそれに近い方向の流路に、このガスが通過す
る前後面を通気板とし、かつ内部に粒状触媒を充填した
充填塔を垂直に配置し、同充填塔の下部に細長いスリッ
ト状の粒状触媒排出開口部を設け、上記充填塔の上部よ
り粒状触媒を逐次供給する構造を有し、上記粒状触媒排
出開口部の下方に該開口部の吐出口からはみ出した粒状
触媒の堆積用台座を同開口部の全長に亘って横方向に配
設した排出装置において、前記台座上に往復動駆動機構
を有するスクレーパを摺動自在に設置したことを特徴と
する固気接触反応装置から触媒を排出する装置である。
以下、本発明の一実施例を第１図および第２図参照して
説明する。
説明する。
図中１は、平行方向に流れる被処理ガスである燃焼排ガ
ス、２はその流れと垂直に配された充填塔で、３はこの
充填塔２を通過した清浄排ガスである。
ス、２はその流れと垂直に配された充填塔で、３はこの
充填塔２を通過した清浄排ガスである。
この充填塔２は、所定の間隔をおいて対向する通気板２
ａ、２ａの間に触媒４を充填してあり、通気板２ａ、２
ａには金網もしくは多孔板が用いられ、全体の外観は好
ましくは略平板状で、上端部に触媒の供給口２ｂが設け
ている。
ａ、２ａの間に触媒４を充填してあり、通気板２ａ、２
ａには金網もしくは多孔板が用いられ、全体の外観は好
ましくは略平板状で、上端部に触媒の供給口２ｂが設け
ている。
また、この充填塔２の下部に細長い長方形のスリット状
の触媒排出開口部５を設けている。
の触媒排出開口部５を設けている。
この場合、スリット巾は触媒が容易に排出できる程度に
することが望ましい。
することが望ましい。
しかして、上記触媒排出開口部５の下方に、第２図に示
すように上下動可能な触媒の堆積用台座６をその開口部
５に対して所定間隔をおいて対向するように同開口部５
の全長に亘って横方向に配設している。
すように上下動可能な触媒の堆積用台座６をその開口部
５に対して所定間隔をおいて対向するように同開口部５
の全長に亘って横方向に配設している。
そして、この台座６上の長手方向に摺動自在な２本のス
クレーパ７を設置している。
クレーパ７を設置している。
なお、台座６およびスクレーパ７はそれぞれ、たとえば
エアーシリンダ８，９で装置外部から作動させる。
エアーシリンダ８，９で装置外部から作動させる。
しかして、上記装置による触媒の排出動作を説明すると
、まず触媒の初期充填時あるいは排出停止時には、充填
塔２の触媒排出開口部５に台座６を密着せしめて閉塞す
る。
、まず触媒の初期充填時あるいは排出停止時には、充填
塔２の触媒排出開口部５に台座６を密着せしめて閉塞す
る。
そして、充填塔２から触媒４を排出する際には、充填塔
２の供給口２ｂに触媒を逐次供給し、上記台座６を下方
に移動させて充填塔２内の触媒４を排出開口部５と台座
６０間に落下せしめその台座６上に堆積させる。
２の供給口２ｂに触媒を逐次供給し、上記台座６を下方
に移動させて充填塔２内の触媒４を排出開口部５と台座
６０間に落下せしめその台座６上に堆積させる。
このとき、触媒粒子間の摩擦力と触媒粒子圧力との釣り
合いから触媒４が連続的に排出されることはない。
合いから触媒４が連続的に排出されることはない。
この場合、台座６の移動距離は触媒４が容易に排出でき
るような長さにし、通常触媒粒子径の約１０倍以上が望
ましい。
るような長さにし、通常触媒粒子径の約１０倍以上が望
ましい。
つづいて、台座６上のスクレーパ７を摺動させて台座６
上に堆積した触媒を徐々に掻き出して系外に排出する。
上に堆積した触媒を徐々に掻き出して系外に排出する。
このような本発明の装置によれば、固気接触反応装置に
おける充填塔２の触媒４を排出する際、その塔２下部の
触媒排出開口部５かもスクレーパ７を用いて触媒を掻き
出すので、触媒の排出は上記開口部５の全面にわたって
安定的になされ、これによって充填塔２の触媒４全体が
激しく流動せず、安定かつ均一に移動する。
おける充填塔２の触媒４を排出する際、その塔２下部の
触媒排出開口部５かもスクレーパ７を用いて触媒を掻き
出すので、触媒の排出は上記開口部５の全面にわたって
安定的になされ、これによって充填塔２の触媒４全体が
激しく流動せず、安定かつ均一に移動する。
しかも触媒の排出量は上記スクレーパ７の摺動回数を適
宜選定することにより自由にコントロールできる。
宜選定することにより自由にコントロールできる。
また、触媒の排出手段は自然であり、機械的圧力やかみ
込みによるものではないから、触媒の摩耗、破砕が少な
くなる。
込みによるものではないから、触媒の摩耗、破砕が少な
くなる。
したがって、燃焼排ガス等の被処理ガスを充填塔に通過
させて固気接触反応せしめる操業中において、被処理ガ
ス中のばいじんによる充填塔の目詰りを防止すると同時
に、触媒の摩耗損失を少な（して二次公害を抑制するこ
とができる。
させて固気接触反応せしめる操業中において、被処理ガ
ス中のばいじんによる充填塔の目詰りを防止すると同時
に、触媒の摩耗損失を少な（して二次公害を抑制するこ
とができる。
次に、本発明に係る装置の他の実施例を第３図〜第５図
を参照して説明する。
を参照して説明する。
なお、上述した第１図および第２図と同様なものは、回
付量を付して説明を省略する。
付量を付して説明を省略する。
第３図の装置は、充填塔２における細長い長方形のスリ
ット状の触媒排出開口部５０−側面を切込んで切欠部１
０１を設けており、かつこの切欠部１０１に上下動可能
なスライドゲート１０２を設置している。
ット状の触媒排出開口部５０−側面を切込んで切欠部１
０１を設けており、かつこの切欠部１０１に上下動可能
なスライドゲート１０２を設置している。
また、上記開口部５０丁端面に一側にせり出し部６１ａ
を設けた台座６１を密着しており、かつ上記切欠部１０
１側の台座６１のせり出し部６１ａ上に摺動自在なスク
レーパ１１を設置している。
を設けた台座６１を密着しており、かつ上記切欠部１０
１側の台座６１のせり出し部６１ａ上に摺動自在なスク
レーパ１１を設置している。
しかして、このような装置による触媒の抽出動作を説明
すると、まず、触媒の初期充填時あるいは排出停止時に
は、触媒排出開口部５１の切欠部１０１に設けたスライ
ドゲート１０２によってその切欠部１０１を閉じている
。
すると、まず、触媒の初期充填時あるいは排出停止時に
は、触媒排出開口部５１の切欠部１０１に設けたスライ
ドゲート１０２によってその切欠部１０１を閉じている
。
充填塔２から触媒４を排出する際には、上記スライドゲ
ート１０２を上昇させて切欠部１０１を開けば、その切
欠部１０１から触媒が台座６１のせり出し部６１ａに安
息角を形成するまではみ出して（る。
ート１０２を上昇させて切欠部１０１を開けば、その切
欠部１０１から触媒が台座６１のせり出し部６１ａに安
息角を形成するまではみ出して（る。
つづいて、台座６１上のスクレーパ７１を摺動させて、
その台座６１上の触媒を徐々に掻き出して系外に排出す
る。
その台座６１上の触媒を徐々に掻き出して系外に排出す
る。
したがって、かかる装置においても上述したのと同様な
効果を有し、実用上有益である。
効果を有し、実用上有益である。
さらに、第４図または第５図の装置は、充填塔内が負圧
、正圧の場合でも触媒排出系全体が大気から隔絶するホ
ッパ内におさめることによって、上述したような台座や
ベルトコンベアを上下動する必要はなく、かつゲートも
不要となる例である。
、正圧の場合でも触媒排出系全体が大気から隔絶するホ
ッパ内におさめることによって、上述したような台座や
ベルトコンベアを上下動する必要はなく、かつゲートも
不要となる例である。
すなわち、第４図の装置は前述した第１図および第２図
に示した装置を変様したもので、その台座６を固定し、
かつ触媒排出開口部５から下方全体をホッパ１１１で包
囲して大気から隔絶している。
に示した装置を変様したもので、その台座６を固定し、
かつ触媒排出開口部５から下方全体をホッパ１１１で包
囲して大気から隔絶している。
また、第５図の装置は前述した第４図に示した装置を変
様したもので、そのスライドゲート１０２を取り除き、
かつ触媒排出開口部５から下方全体をホッパ１１１で包
囲して大気から隔絶している。
様したもので、そのスライドゲート１０２を取り除き、
かつ触媒排出開口部５から下方全体をホッパ１１１で包
囲して大気から隔絶している。
なお、第４図、第５図のホッパ１１１の下端部ニは、ガ
スをシールするバルブ１１２を設けている。
スをシールするバルブ１１２を設けている。
したがって、このような第４図または第５図に示した装
置によれば、煩雑な操作を要せずに、前述したのと同様
な効果を有し、実用上極めて有益である。
置によれば、煩雑な操作を要せずに、前述したのと同様
な効果を有し、実用上極めて有益である。
なお、上記実施例において重油焚ボイラ排ガスの脱硝装
置に応用した場合についてのみ示したが、本発明はこれ
に限定されるものではない。
置に応用した場合についてのみ示したが、本発明はこれ
に限定されるものではない。
以上詳述したように、本発明はばいじんを含有する被処
理ガスの水平もしくはそれに近い方法の流路に、このガ
スが通過する前後面を通気板とし、かつ内部に触媒を充
填した充填塔を垂直に配置し、同充填塔の下部に細長い
スリット状の触媒排出開口部を設け、上記充填塔の上部
より触媒を逐次供給するとともに、上記開口部から充填
塔内の触媒を堆積用台座とこの台座上を摺動するスクレ
ーパにより徐々に掻き出して系外に排出することにより
、上記被処理ガスを触媒充填塔に通過させて固気接触反
応せしめる際、被処理ガス中のばいじんによる触媒充填
塔の目詰りを防止して操業を円滑にできると同時に、触
媒の摩耗損失を少な（して二次公害を抑制することがで
き、もって極めて実用上有益な固気接触反応装置から触
媒を排出する方法を提供できるものである。
理ガスの水平もしくはそれに近い方法の流路に、このガ
スが通過する前後面を通気板とし、かつ内部に触媒を充
填した充填塔を垂直に配置し、同充填塔の下部に細長い
スリット状の触媒排出開口部を設け、上記充填塔の上部
より触媒を逐次供給するとともに、上記開口部から充填
塔内の触媒を堆積用台座とこの台座上を摺動するスクレ
ーパにより徐々に掻き出して系外に排出することにより
、上記被処理ガスを触媒充填塔に通過させて固気接触反
応せしめる際、被処理ガス中のばいじんによる触媒充填
塔の目詰りを防止して操業を円滑にできると同時に、触
媒の摩耗損失を少な（して二次公害を抑制することがで
き、もって極めて実用上有益な固気接触反応装置から触
媒を排出する方法を提供できるものである。
第１図は本発明の一実施例を示す固気接触反応装置から
触媒を排出する装置の部分切欠した概略図、第２図は第
１図の斜視図、第３図から第５図はこの発明の他の実施
例を示す装置の部分切欠した概略図である。 １・・・・・・燃焼排ガス、２・・・・・・充填塔、計
・・・・・清浄排ガス、４・・・・・・触媒、５・・・
・・・触媒排出開口部、６゜６１・・・・・・堆積用台
座、７，７１・・・・・・スクレーパ、１０２・・・・
・・スライドゲート、１１１・・・・・・ホッパ。
触媒を排出する装置の部分切欠した概略図、第２図は第
１図の斜視図、第３図から第５図はこの発明の他の実施
例を示す装置の部分切欠した概略図である。 １・・・・・・燃焼排ガス、２・・・・・・充填塔、計
・・・・・清浄排ガス、４・・・・・・触媒、５・・・
・・・触媒排出開口部、６゜６１・・・・・・堆積用台
座、７，７１・・・・・・スクレーパ、１０２・・・・
・・スライドゲート、１１１・・・・・・ホッパ。
Claims (1)
- １ ばいじんを含有する被処理ガスの水平もしくはそれ
に近い方向の流路に、このガスが通過する前後面を通気
板とし、かつ内部に粒状触媒を充填した充填塔を垂直に
配置し、同充填塔の下部に細長いスリット状の粒状触媒
排出開口部を設け、上記充填塔の上部より粒状触媒を逐
次供給する構造を有し、上記粒状触媒排出開口部の下方
に該開口部の吐出口からはみ出した粒状触媒の堆積用台
座を同開口部の全長に亘って横方向に配設した排出装置
において、前記台座上に往復動駆動機構を有するスクレ
ーパを摺動自在に設置したことを特徴とする固気接触反
応装置から触媒を排出する装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50045640A JPS594177B2 (ja) | 1975-04-15 | 1975-04-15 | 固気接触反応装置から触媒を排出する装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50045640A JPS594177B2 (ja) | 1975-04-15 | 1975-04-15 | 固気接触反応装置から触媒を排出する装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS51119680A JPS51119680A (en) | 1976-10-20 |
| JPS594177B2 true JPS594177B2 (ja) | 1984-01-28 |
Family
ID=12724955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50045640A Expired JPS594177B2 (ja) | 1975-04-15 | 1975-04-15 | 固気接触反応装置から触媒を排出する装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS594177B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006187850A (ja) * | 2005-01-07 | 2006-07-20 | Disco Abrasive Syst Ltd | ブレードカバー装置 |
| JP7291674B2 (ja) * | 2020-07-22 | 2023-06-15 | 三菱重工パワー環境ソリューション株式会社 | 異物除去装置および反応装置並びに排煙処理装置、充填材の交換方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50148283A (ja) * | 1974-05-22 | 1975-11-27 | ||
| JPS514064A (en) * | 1974-07-01 | 1976-01-13 | Hitachi Ltd | Shokubaisoheno dasutofuchakuboshisochi |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5412037Y2 (ja) * | 1975-03-28 | 1979-05-29 | ||
| JPS5412038Y2 (ja) * | 1975-03-28 | 1979-05-29 |
-
1975
- 1975-04-15 JP JP50045640A patent/JPS594177B2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50148283A (ja) * | 1974-05-22 | 1975-11-27 | ||
| JPS514064A (en) * | 1974-07-01 | 1976-01-13 | Hitachi Ltd | Shokubaisoheno dasutofuchakuboshisochi |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS51119680A (en) | 1976-10-20 |
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