JPS5938308B2 - インバ−の化学研磨液 - Google Patents

インバ−の化学研磨液

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JPS5938308B2
JPS5938308B2 JP12279079A JP12279079A JPS5938308B2 JP S5938308 B2 JPS5938308 B2 JP S5938308B2 JP 12279079 A JP12279079 A JP 12279079A JP 12279079 A JP12279079 A JP 12279079A JP S5938308 B2 JPS5938308 B2 JP S5938308B2
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JP
Japan
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invar
mol
chemical polishing
polishing liquid
aqueous solution
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Expired
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JP12279079A
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English (en)
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JPS5647567A (en
Inventor
義憲 高倉
憲一 山岡
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F3/00—Brightening metals by chemical means
    • C23F3/04—Heavy metals
    • C23F3/06—Heavy metals with acidic solutions

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はインバーの化学研磨液に係り、さらに詳しく
は硫酸０．０２〜０．１０モルと塩酸０．１５〜０．３
０モルとオルトリン酸０．２０〜０．４０モルとを含む
水溶液を提案するものである。
従来においてインバーの化学研磨は硫酸を含む水溶液に
浸漬させて行うか、又は塩化ニッケルと塩酸とを含む水
溶液中で電解することによつて行つていた。
し力走これらの方法は、品物の形状が凹凸のない平らな
物であれば有効であるが、口径が小さく複雑な構造をし
た導波管のようにパイプ状の管を有するものであると困
難である。しかも、インバーは通常の金属と違つて、鉄
と、コバルトと、ニッケルとの合金であり、インバー上
に密着の良いめつき皮膜を得ることは大変むすかしい。
この発明はこのようなインバーのめつき前の処理液の改
善を図り、いかなる形状の品物でも、浸漬するだけで処
理でき、しかも処理後のめつき皮膜の密着性も良好なイ
ンバーの化学研磨液を提供せんとするものである。めつ
き前の化学研磨液としては、素地を過度にエッチングせ
ず一定のなめらかさを保ち、素地金属の酸化膜を完全に
除去し、清浄な表面をあられにすることが必要とされて
いる。
しかるに、出願人において実験の結果、インバーは塩酸
、硫酸の順に溶解しやすく、オルトリン酸にはほとんど
溶解しないことを確認した。さらに種々の実験では、硫
酸と、塩酸と、オルトリン酸とを含む水溶液中の塩酸の
含量比が多いとインバーの表面は過度にエッチングされ
、化学研磨液浸漬後の外観及ひめつき後のめつき皮膜の
密着性も悪くなる。
上記水溶液中の硫酸の含量比を０．０２〜０．１０モル
の間で一定にしておいて、上記水溶液中の塩酸とオルト
リン酸との含量比をある一定の比率することが最適であ
ることを確認した。例えば、硫酸０．１０モルと、塩酸
０．３０モルと、オルトリン酸０．２０モルとを含む水
溶液中でインバーを化学研磨すると、インバーの素地表
面は過度にエッチングされ、光沢がなくなり、しかもそ
の表面にあるめつきを施したところ、めつき後の密着性
試験でそのめつき皮膜は簡単に剥離した。
上記の水溶液中の塩酸の量を０．１５モルとし、オルト
リン酸を０．４０モルと硫酸を０．１０モルとを含む水
溶液中でインバーを化学研磨したところ、インバーの素
地表面はなめらかで、しかも金属光沢を呈した。その表
面にあるめつきを施し、めつき後の密着性試験ではめつ
き皮膜はほとんど剥離せず良好な結果が得られた。以上
、述べたこの発明のインバーの化学研磨液は、インバー
を単に浸漬するだけであるため、いかなる形状の部品で
も処理することが可能である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ ０．０２モルないし０．１０モルの濃度範囲内の硫
    酸水溶液に０．１５モルないし０．３０モルの濃度範囲
    内の塩酸と、０．２０モルないし０．４０モルの濃度範
    囲内のオルトリン酸とを加え、これにインバーを浸漬さ
    せることにより化学研磨が行えるようにしたインバーの
    化学研磨液。
JP12279079A 1979-09-25 1979-09-25 インバ−の化学研磨液 Expired JPS5938308B2 (ja)

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CN106947975A (zh) * 2017-04-12 2017-07-14 柳州立洁科技有限公司 一种化学抛光清洗剂及其制备方法
CN114059068A (zh) * 2021-11-15 2022-02-18 陕西金信天钛材料科技有限公司 一种心脏支架表面化学及等离子体电化学复合抛光方法

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