JPS593789A - 半導体メモリ - Google Patents

半導体メモリ

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Publication number
JPS593789A
JPS593789A JP57113143A JP11314382A JPS593789A JP S593789 A JPS593789 A JP S593789A JP 57113143 A JP57113143 A JP 57113143A JP 11314382 A JP11314382 A JP 11314382A JP S593789 A JPS593789 A JP S593789A
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JP
Japan
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word line
transistor
circuit
current
emitter
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Application number
JP57113143A
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English (en)
Inventor
Katsuyuki Yamada
勝之 山田
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPS593789A publication Critical patent/JPS593789A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (1)発明の技術分野 本発明は半導体メモリにかかり、特に読出し時と書込み
時で語線振幅電圧を変えた場合でも一定の語線放電電流
を供給できる半導体メモリ語線放電回路に関する。
(2)技術の背景 最近の大規模集積化技術の発展にともない高集積化低電
力化にすぐれたMOSメモリの発展はめざましいが、よ
り高速な動作の必要なところには、例えば中央演算装置
内のワーキングレジスタ等にはバイポーラメモリが使用
されることが多い。スタティックなバイポーラメモリで
はセルの状態を保持する電流は小さいが、読出し、書込
み時においてセルに流れる電流は比較的大きくする必要
がある。その電流を大きくすれば読み書き動作速度が高
速になるが、逆に消費電力が大きくなる。そこで、バイ
ポーラメモリの低電力化を図るために、従来メモリセル
の保持電流を減少する手段が考えられているが、このよ
うな方法は、ワード線または語線が選択されてから非選
択状態に移行する立ち上がり時間を遅くするので高速動
作の妨げとなっている。
(3)従来技術と問題点 従来の電源マージンを大きくする手段としては、例えば
第1図に示すような回路構成となっている。
第1図に示すように、ワードドライブトランジスタWD
のエミッタに接続されるワード線に共通的に接続された
電流切換型のスクテイソクセル1〜nとそのセルの内部
にあるマルチエミッタトランジスタの下側エミッタ端子
に共通的に接続された保持電流源I8と前記ワード線及
びホールト線HLに接続されたカレントミラー回路を含
む語線放電回路とから構成されている。語線放電回路1
は第1のトランジスタ11.第2のトランジスタ12、
第1の抵抗13.第2の抵抗14.及びカレントミラー
回路15を具備する。カレントミラー回路15はトラン
ジスタ16及びダイオード17より構成される。トラン
ジスタ12のベースはキャパシタを介して接地されてい
る。トランジスタ12のコレクタはボールド線HLに、
エミッタは抵抗を介して電源の一方へ接続されている。
また、抵抗14には電源から2段分のダイオード。
が接続されている。第1図に示すような回路−において
、ワード線WLが高レベルになると語線放電回路1のト
ランジスタ11のベースが高レベルになり導通状態にな
るので、トランジスタ12のベースを上昇させこのトラ
ンジスタも導通状態となる。従って、メモリセルには放
電電流がトランジスタ12に向かって流れる。放電電流
の電源電圧に対する変動を0に保つためには、点への電
圧に対する電圧変動を0に保つ必要がある。そこで、カ
レントミラー回路15においてトランジスタ1Gのエミ
ッタ面積とダイオード17の接合面積を同じにすること
によって抵抗13.14に流れるそれぞれの電流を同し
にし、抵抗13.14の値を同じにすることによってト
ランジスタ12のベース端子の電源電圧に対する電圧変
動を0に保つのが従来の語線放電回路である。第1図に
示す回路においては、トランジスタWDのベースはほぼ
Vccに固定されているが、もしワード線WDの振幅を
読出し時と書込み時で変えた場合、すなわち書込みマー
ジンを減少させずに読出し時間を高速化するために、読
出し時の放電電流よりも書込み時の放電電流の方を大き
くした場合トランジスタ12のコレクタからエミッタに
流れる電流も読出し時と書込み時で異なってくる。しか
し、この回路では読出し時の放電電流を書込み時の放電
電流とほぼ等しくすることができず読出し時間を低速に
するという欠点があった。
(4)発明の目的 本発明は、書込みマージンを減少させず高速読出しを可
能にするため語線振幅の電圧を意図的に変えた場合でも
一定の語線放電電流を供給することができる。すなわち
読出し時の語線振幅電圧を小さくし、放電電流を大きく
することによって読出し動作を高速にすることができる
語線放電回路を有する半導体メモリを提供することを目
的とする。
(5)発明の構成 本発明の特徴とするところは、メモリセルに接続された
ワード線にベース端子が接続されている二つの第1のエ
ミッタフォロアトランジスタと前記容箱1のエミッタフ
ォロアトランジスタの各エミッタ面積に一方の端子が接
続された各抵抗に流れる電流を等しくし前記各抵抗の他
の一方の他の電圧が前記ワード線の振幅が変イヒしても
共に等しく固定するように前記端子に接続されたカレン
トミラー回路と、前記電圧をベース端子に与えられコレ
クタ端子が前記メモリセルに接続されたホールド線に接
続されている第2のエミッタフォロアトランジスタを含
み、ワード線振幅をセルの読出し時と書込み時に変えた
場合でも一定のワード線放電電流を供給することを特徴
とする半導体メモリにある。
(6)発明の実施例 次に、本実施例を図面を参照にして説明する。
第2図(alは本発明のワード線語線放電回路を含む1
ワ一ド分の電流切換型の半導体メモリの構成図である。
第2図(alにおいて、A部はワード線指定用のデコー
ダ回路、B部はワード線駆動回路と読み書き電流制御回
路部、0部はメモリセル部、そしてD部が語線放電回路
部である。A部の回路において、トランジスタAI、A
2.A3によって電流切換型のゲート回路を構成し、A
IとA2のベース端子の少なくとも一方がハイレベルに
あるとA 1゜A2.A3の共通エミッタに接続された
電流源I+によって、電流IIが前記AI、A2のうち
ベース端子がハイレベルにあるトランジスタのコレクタ
、エミッタ間を通して、電源V c’cからR1を通し
て流れ、AI、A2の共通コレクタ端子がローレベルに
なる。これはワード線の非選択の状態であり、ワード線
WLに接続されたセルが保持状態となる。また、A1.
A2のベース端子がともにローレベルにあるときベース
端子が参照電圧■λに固定されるトランジスタA3のコ
レクタ。
エミッタ間を介してコレクタ端子が接続されている電源
から電流IIが流れるので、逆にトランジスタAI、A
2は電流が流れずその共通コレクタ端子はハイレベルに
なる。この状態がワード線WL  の選択状態であり、
WLに接続されたセルの読み書きモードである。
B部の回路は、前記A1.A2のコレクタ端子にベース
端子が接続されているワード線駆動用トランジスタB1
とBIのベース端子にアノードが接続されたダイオード
D1のカソードに接続された電流切換型の読み書き電流
制御回路B′部から構成されている。トランジスタB1
はコレクタが電源Vcc(グランドヘル)に接続されて
いるので、ワード線WLに接続されているエミッタeI
によってベース端子の電圧からベース、エミッタ間順方
向電圧降下(約0.7V )だけ下がった電圧をワード
線WLに与える。また、読出し、書込み制御回路B′は
、トランジスタB2.B部のエミッタが共通的に電流源
■2に接続さているので、電流切換型回路を形成してい
る。トランジスタB3のベース端子は、ライトイネーブ
ル信号WEが接続されているので、信号WEがハイレベ
ルすなわち読出しモードにおいては前記トランジスタB
Iのベース端子に接続されているダイオードD1に接続
されたコレクタ端子を介して電源V cc、抵抗R1,
トランジスタB1のベース、ダイオードD1のルートで
電流I2が流れる。また、逆にWE倍信号ローレベルす
なわち書込みモードにおいてはトランジスタB3はオフ
状態であり、ベース端子が参照電圧VRに接続され、コ
レクタがグランドに接続されているトランジスタB2が
オン状態になり、電流I2はトランジスタB2側に流れ
てしまうので、前記1−ランジスクB1のベース。
ダイオードD1を介して電源V cc、抵抗R1から電
流は流れず、R1のI2による電圧降下は生じない。従
って、A部のデコーダ回路においてワード線が選択され
、B部のトランジスタB+のベース端子がハイレベルに
なる場合、もしWE倍信号ローレベルの書込みモードに
おいては、そのハイレベルが電源Vcc(グランドレベ
ル)すなわちハイレベルのうちの高い方H、t、;gk
になり、また、WE倍信号ハイレベルすなわち読出しモ
ードにおいては、電流I2がR1,D部を介して流れる
の等、電圧降下R1・I2だけトランジスタB1のベー
ス端子は下がり、ハイレベルのうちのローレベルH)。
ッになる。従って、書込み時においては、ワード線WL
はHl、、、、ら−■1oe(ベース、エミッタ間順方
向電圧)となり、読出し時にはワード線WLはHlog
   Vbeとなる。
このようにワード線WLの振幅を読出し時と書込み時で
かえるのは、書込み時には確実に書込み動作を実行する
ためにワード線WLを Hh;gl、1−Vbeまで振
幅を大きくし、書込みマージンを大きくする。一方、読
出し時においては読出し時間を高速にするために、語線
電圧をHl。い−Vbeまで下げるものである。
0部はワード線WLに接続された電流切換型のスタティ
ックセル1〜nとそのセル内部にあるマルチトランジス
タTI、T2の共通に接続された下側エミッタ端子に接
続された保持電流源IHから構成されている。セル1〜
nは全く同様な構成をし、第2図(blに示すようにマ
ルチトランジスタT1.T2がお互いにベース、コレク
ク間を接続したスタティックセルであって、前記ワード
線WLにトランジスタTI、T2のそれぞれのコレツク
間に抵抗とダイオードの並列回路が接続されており、ト
ランジスタTI、T2の上側エミツタがそれぞれビット
線B、Bに接続された構成になっている。ワード線WL
がローレヘルにあるとき、トランジスタT1.T2の上
側エミッタ端子はオフ状態にあり、セルはTI、T2の
うちどちらが一方の下側エミ’7タが保持状態になって
、保持電流IHが流れる。読出しモードにおいては、ト
ランジスタTI、T2の上側エミッタのどちらか一方が
オン状態にし、ピント線Bまたはiを通してセルの内容
がB、B線に接続されたセンス回路に伝達される。また
、書込みモード時においては、セル内容と異なる逆の情
報を前記ビット線に与えることによってセルの内容を反
転させて、書込み動作を行う。
また、D部の語線放電回路は、マルチトランジスタTの
ベース端子が前記ワード線WLに接続され、コレクタが
グランドVccに接続され、下側エミッタが抵抗R2の
一々に接続され、上側エミッタが抵抗R3の一方に接続
されたエミッタフォロア回路を、前記抵抗R2,R3の
他の一方に接続されたトランジスタTHとダイオードD
よりなるカレントミラー回路CM及びベース端子が前記
抵抗R2の他の一方に接続され、コレクタがセル1〜n
の下側エミ’7タに接続されているボールド線HLに接
続され、エミツタが抵抗R4を介して■を電源(負電圧
)に接続されたエミッタフォロアトランジスタT。より
なる。なお、カレントミラー回路内部のトランジスタT
I、Iのコレクタ端子は前記抵抗R2の他の一方に接続
され、ベース端子が前記抵抗R3の他の一方に接続され
、エミッタ端子が負電源VEFに接続され、ダイオード
Dのアノードが前記トランジスタTMのベース端子に接
続され、カソードが負電源vEεに接続された構造とな
っている。キャパシタCが、トランジスタT、のベース
端子と負電源V、p間に接続されている。
この語線放電回路の目的は、マルチトランジスタTのベ
ース端子に接続されたワード線W’Lの振幅に変動が起
きた場合、すなわち、読出し時と書込み時で前述したよ
うに振幅差を意図的に設けた場合でも、セル1ルn内部
のマルチトランジスタTI、T2に接続されたホールド
線HLをがいして流れ出る放電電流をトランジスタT。
のベース端子を一定に保つことによって一定にすること
を目的にしている。このような目的のために、語線放電
回路の内部にカレントミラー回路CMが含まれている。
すなわち、トランジスタTMのエミッタ面積とそのベー
ス端子がアノードに接続されたダイオ−1” Dの接合
面積を一定にすることによって、抵抗R2と抵抗R3に
流れる電流を同じにしている。また抵抗R2とR3の値
も同じにすれば、R2とR3の電圧降下は等しいから、
トランジスタTMのコレクタ端子とベース端子は同電位
になる。ダイオードDの電圧降下は常にダイオードの順
方向電圧降下0.7■に固定されるので、そのダイオ−
[のアノード電圧に等しくなるように、トランジスタT
;のコレクタ端子の電圧が決定される。従って、そのコ
レクタ端子電圧はワード線WLの電圧変動によって、す
なわぢ続出し時と書込み時の語線電圧に差があっても変
化しない。このため、トランジスタT。のエミッタ電圧
も変化。
がなく、その電圧をR4で割った電流が放電電流として
セルから流れ出る。
なお、第1の実施例に示した本発明の半導体メモリのワ
ード線放電回路は、2ワ一ド以上存在する場合には第3
図に示すように各回路部は接続される。すなわち、ワー
ド線WIに接続されるワード綿線放電回路内のカレント
ミラー回路のトランジスタT白のベース端子は他のワー
ド線に接続されるワード線放電回路内のカレントミラー
回路のトランジスタT萌等のベース端子と共通に接続さ
れるが、カレントミラー回路のダイオードD、マルチエ
ミッタトランジスタTの上側エミッタに接続される抵抗
R3とその抵抗R3の他の一方にアノードが接続される
ダイオードDは各ワードに関して共通的に使用されるの
で全ワードに関して一つでよい。これは、素子数を減ら
すために各ワードごとに存在するマルチエミッタトラン
ジスタTの上側エミッタが共通に接続され、ダイオード
Dのアノードがカレントミラー回路内のトランジスタT
白 −r)・・・等のベースに共通的に接続することに
よって、各ワードごとにある抵抗R2に流れる電流が各
ワード線共通に使用される一つの抵抗R3(R2=R3
)に流れる電流と等しく、一つのダイオードDのアノー
ド端子電圧を固定して各ワードごとにあるエミッタフォ
ロアトランジスタT。のベース端子電圧を読み書きモー
ド時に関して変化しないようにしてT。に流れる放電電
流を変化しないようにできるからである。
次に本発明の半導体メモリワード線放電回路の第2の実
施例を第4図に示す。
A部のデコーダ部、B部のワード線駆動トランジスタB
+と読み書き制御回路部B′及び0部のスタティックメ
モリセル部に関しては、前記第1の実施例のそれぞれA
、B、C,部と全く同じになっているが、D部のワード
線放電回路部のみ異なる構成になっている。ワード線放
電回路部りは、ベース端子がワード線に、コレクタ端子
がグランド電源に、そしてエミッタ端子が抵抗R2を介
してトランジスタT。のベース端子に接続されているエ
ミッタフォロアトランジスタTと、ベース端子が電流切
換型ゲート回路Gの左側トランジスタTCrのコレクタ
端子にエミッタフォロアトランジスタT rrを介して
接続され、コレクタ端子がグランド電源に、そしてエミ
ッタ端子が抵抗R3を介してカレントミラー回路部CM
のダイオードDのアノードに接続されているT′と、前
記トランジスタTDのベース端子にコレクタが接続され
、ベース端子が前記ダイオードDの前記アノードに、そ
してエミッタ端子が負電源に接続されたトランジスタT
)−1とカソードがやはり負電源に接続された前記ダイ
オードDからなるカレントミラー回路部CMと、前記ゲ
ート回路Gとから構成されている。なお、トランジスタ
TDのコレクタ端子はホールド線HLに、そしてエミッ
タ端子は抵抗R4を介して負電源に接続されている。ま
た、前記ゲート回路Gはベース端子がそれぞれWE倍信
号び参照電圧に接続されそれぞれのエミッタが共通的に
電流源嘔に接続されているトランジスタT6とTC,′
とを含み、トランジスター のコレクタが抵抗R5を介
してグランド電源Vccに接続され、トランジスタTG
′のコレクタを直接グランド電源Vccに接続された構
成になっている。
このようなワード線放電回路においては、トランジスタ
Thのベース、エミッタ間接合面積とダイオードDの接
合面積を同じにしであるカレントミラー回路CMによっ
て抵抗R2とR3に流れる電流が等しくなることは実施
例1の場合と同様に説明される。書込みモードにおいて
は、ワード線WLはワード線駆動用トランジスタB1の
ベース端子が零ボルトのHhIっhレベルになるのでH
h;e3h”beの電圧になるので、トランジスタTの
エミッタ出力端子の電圧はHh;3h −2Vl−eと
なる。また、ゲート回路Gにおいて、トランジスタTq
のベース端子にはWE倍信号ローレベルが入力されてい
るので書込みモードにおいてはトランジスタTqがOF
FでトランジスタTq ゛がONの状態になるのでトラ
ンジスタT6 のコレクタは零電圧のHレベルになって
いる。従って、トランジスタT′のエミッタ端子の電圧
もHhi%  2 Vbeになるので、抵抗R2とR3
が等しければR2とR3のそれぞれの電圧降下が等しく
トランジスタT。
のベース端子とダイオードDのアノード端子の電圧が等
しくなる。ダイオードDのアノード端子はダイオード順
方向電圧降下(0,7V)に固定されているので、トラ
ンジスタT。のベース端子もそれに固定され、結果とし
て、トランジスタT。のコレクタからエミッタに流れる
電流は一定となる。
このことは、読出しモードにおいても同じことが言える
。すなわち、ワード線WLがH1oアーvbeになると
きは、ゲート回路GにおいてトランジスタTqがONす
るのでトランジスタT′のベース端子もHlou  v
、、になり、トランジスタTとT′のエミッタ端子の電
圧が等しくなる。従って、トランジスタT。のベース端
子とダイオードDのアノード端子の電圧が等しくなり、
ダイオードDのアノード端子は前記書込みモードと同様
にダイオード順方向電圧降下(0,7V)に固定される
ので、Toのベース端子の電圧も前記書込みモードにお
ける電圧に等しくなるように固定されるので、Toのコ
レクタからエミッタに流れる放電電流は読み書きの両モ
ードで変化しない。このように実施例2に示した本発明
の方法でも、書込みマージンを減少させずに高速読出し
を可能にするためワ8−ド線振幅を意図的に変えた場合
(続出し時と書込み時で)でも一定のワード線放電電流
を供給することを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のワード線放電回路を含むメモリ回路の回
路図、第2図(81は本発明のワード線放電回路の一実
施例の回路図、第2図(b)はと前記実施例におけるメ
モリセルアレイを示すブロック図、第3図は第1の実施
例の変形例を示す図、第4図は本発明の他の実施例の回
路図である。 A1.A2.A3.Aa、Bl、B2.B3゜・グイオ
ート、  TI、+2.I?l・・・定電流源、 CM
・・・カレントミラー回路。 特許出願人  冨士通株式会社

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)メモリセルに接続されたワード線にベース端子が
    接続されている二つの第1のエミッタフォロアトランジ
    スタと前記各年1のエミッタフォロアトランジスタの各
    エミッタ端子に一方の端子が接続された各抵抗に流れる
    電流を等しくし前記各抵抗の他の一方の電圧が前記ワー
    ド線の振幅が変化しても共に等しく固定するように前記
    端子に接続されたカレントミラー回路と、前記電圧をベ
    ース端子に与えられコレクタ硝子が前記メモリセルに接
    続されたホールド線に接続されている第2のエミッタフ
    ォロアトランジスタを含み、ワード線振幅をセルの読出
    し時と書込み時に変えた場合でも一定のワード線放電電
    流を供給することを特徴とする半導体メモリ
  2. (2)前記二つの第1のエミッタフォロアトランジスタ
    は一つのマルチエミッタフォロアトランジスタから構成
    されることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半
    導体メモリ
JP57113143A 1982-06-30 1982-06-30 半導体メモリ Pending JPS593789A (ja)

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JP57113143A JPS593789A (ja) 1982-06-30 1982-06-30 半導体メモリ

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6171967A (ja) * 1984-09-13 1986-04-12 Disco Abrasive Sys Ltd 回転砥石の位置決め方法
JPS61271691A (ja) * 1985-05-27 1986-12-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体記憶装置

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