JPS5935243B2 - 乾式脱硝用竪形反応器 - Google Patents

乾式脱硝用竪形反応器

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JPS5935243B2
JPS5935243B2 JP52077805A JP7780577A JPS5935243B2 JP S5935243 B2 JPS5935243 B2 JP S5935243B2 JP 52077805 A JP52077805 A JP 52077805A JP 7780577 A JP7780577 A JP 7780577A JP S5935243 B2 JPS5935243 B2 JP S5935243B2
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JP
Japan
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catalyst layer
reactor
dust
catalyst
gas
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Application number
JP52077805A
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English (en)
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JPS5413458A (en
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寿夫 津金
正 内藤
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IHI Corp
Original Assignee
IHI Corp
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Publication date
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/02Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
    • B01J8/04Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Chimneys And Flues (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は乾式脱硝用竪形反応器に関するものである。
従来、乾式脱硝装置における問題点として、一つは、既
設のガス発生源(ボイラなど)に設置する場合、反応器
を設置するに充分なスペースのない場合が多く、既設ダ
クトの一部を改造して反応器の設置を要求される場合が
多い。
また他の一つはダストや亜硫酸アンモニウムなどの生成
物が触媒に付着して性能低下や圧力損失の上昇を来すの
で、これらの清掃と機能回復を図る必要がある。
これらは長時間連続運転を必要とする場合、運転をとめ
ずに行なえるようにしておく必要がある。
この発明の目的の一つは既設のダクト等に組み込むこと
ができるようにすることであり、また他の一つは脱硝反
応の運転中に触媒に付着したダスト等を除去することに
よって長時間連続運転を可能とすることである。
この発明を添付図面の実施例について説明すると、竪形
の断面方形な反応器本体1の下方にガス人口2を、また
上方にガス出口3を設け、該ガス出入口間の反応器本体
1の上部に拡大部15を形成し、該拡大部15内に仕切
板16を介して上部触媒層14aを設け、該触媒層14
aの下方に四角錐状のダストホッパ=7をその外周が前
記拡大部15の内周と間隔17を有するよう設け、前記
ガス出入口間の反応器本体1の下部に下部触媒層14b
を設け、該触媒層14bの下方にダストホッパー9を前
記反応器本体1と一体に形成し、前記上下のダストホッ
パー1,9の下部にチェーンコンベヤ、ロータリーバル
ブ等の排出装置8゜10を設け、前記上下の触媒層14
a、14bの上部に該触媒層の表面に沿って水平に移動
可能なスートブロー管6を設けた乾式脱硝用竪形反応器
である。
第4図、第5図に示すようにハニカム状触媒13を第3
図に示す触媒ボックス5にその触媒の孔18が矢印A1
のガス流方向に向くよう規則的に充填し、該触媒ボック
ス5を更に第2図に示すように断面四角形状の反応器本
体1内に順次並べて触媒層14 a 、14 bを形成
する。
図中、11は反応器取付脚、12は架台である。
NOXを含むボイラー等の燃焼ガスはガス人口2より反
応器本体1内に入り、矢印A1の如く上昇して下部触媒
層14bを通過するうちにNOXか除去された後、上部
のダストホッパー7の外周の間隔17から矢印A7の如
く曲り、再び上昇して上部触媒層14aを通過して更に
NOXを除去されてガス出口3より反応器外へ排出され
る。
この脱硝反応の運転中は燃焼排ガス中のすす、ダストや
NH3とSO2との反応によって生成される亜硫酸アン
モニウム(又は硫酸アンモニウム)などによって触媒層
14の孔18は除々に閉塞されてゆき(第6図参照)、
その脱硝効率の低下および圧力損失の上昇を来す。
そこで一定時間ごとスートブロー管6より空気或は蒸気
等をスートブローせしめ、同時に該スートブロー管6を
水平方向に移動しながら触媒層14の全面をくまなく煤
吹きを行なう。
この場合、第6図に示すように排ガスは触媒層14の孔
18内を下から上に向って矢印A1の如く流れているが
、スートフ宅−管6からの噴出空気は前記ガス流速に対
し非常に早い速度で矢印A6の如く排ガス流と逆方向に
噴出させる。
通常ダストやすすなどの付着物19は触媒層14の孔1
8の入口付近に付着し易く、このように排ガス流と向流
に噴出させる方がダスト19の剥離が容易となる。
すなわち、もしこれを逆に排ガス流に対し並流に空気を
噴出させると、付着ダスト19を孔18内に押し込みな
がら除去するこさとなり、かえってダスト19の除去か
難しくなり易い。
スートブローによって触媒層14より除去されたダスト
は各々その下方のダストホッパー7.9に落下し、該ダ
ストホッパー7.9にたまったダストは排出装置8,1
0により随時外部へ排出される。
また第1図において触媒層14を上下2層に分割した例
を示したが、これは触媒層があまり厚くすると、スート
ブローによるダストの除去が不充分となるためで、上下
2層に限らず、スートブローの関係より、2層以上に分
割して触媒層を形成してもよい。
尚、この脱硝装置を既設のボイラなどのガス発生源に取
り付ける場合においては設置当時には、これらの脱硝装
置の取付けは全く考慮されておらず、また設置スペース
もないので例えば第7図に示す竪形ダクト21の一部を
切り取って第8図の如くこの脱硝装置を組み込む。
また第9図に示すように排ガスを反応器本体1の下端か
ら上端に向って流れるようになし、上下の触媒層14
a 、14 bを夫々仕切板16を介して設け、その下
方のダストホッパ=1,9を反応本体1内に間隔20を
有するよう設けてもよい。
以上本発明によれば反応器の運転を止めずにダストの清
掃が可能であり、長期間の連続運転ができる。
また反応器が竪形なので設置面積が非常に少なくてすみ
、既設のガス発生源など場所の狭いところでも、既設ダ
クトの一部改造などを行なうことによって反応器の設置
が可能である。
さらにスートブローを行うに際し、ダストは剥離しやす
く且つ剥離したダストが再付着することがなく、また触
媒層は触媒ボックスに触媒を入れて、それを順次並べて
形成するものであるから、取扱が容易であるなど数々の
特徴を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す図、第2図は第1図
の■−■線の断面図、第3図はこの発明の実施に用いる
触媒ボックスの斜視図、第4図はこの発明の実施に用い
る触媒を示す斜視図、第5図は第4図の一部拡大図、第
6図は触媒入口部のダスト付着状態を示す要部の断面図
、第1図はこの発明の装置の設置個所を示す図、第8図
は第7図における個所にこの発明を設置した状態を示す
図、第9図にはこの発明の他の実施例を示す図である。 1・・・・・・反応器本体、2・・・・・・ガス入口、
3・・・・・・ガス出1]、6・・・・・・スートフロ
ー管、 7 、9・・・・・・ダストホッパー、8,1
0・・・・・・排出装置、14・・・・・・触媒層。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 竪形の反応器本体1の下部にガス人口2を、また上
    部にガス出口3を設け、該ガス出入口3゜2間の反応器
    本体1内に規則的に充填した触媒層14を複数個設け、
    該触媒層14の上部に触媒層14の表面に沿って水平に
    移動可能なスートフ宅−管6を夫々設け、前記触媒層1
    4の下方にダストホッパーを夫々設け、該ダストホッパ
    ーの下部にダスト排出装置を設けた乾式脱硝用竪形反応
    器。 2 ハニカム状触媒13を触媒ボックス5内に規則的に
    充填し、該触媒ボックス5を触媒13の孔18が略々垂
    直になるよう複数個ならべて触媒層14を形成した特許
    請求の範囲第1項に記載の乾式脱硝用竪形反応器。 3 触媒層14が二層よりなる特許請求の範囲第1項記
    載の乾式脱硝用竪形反応器。 4 ガス出入口3,2間の反応器本体1の上部に拡大部
    15を形成し、該拡大部15に仕切板16を介して上部
    触媒層14aを形成し、該触媒層14aの下方にダスト
    ホッパー1を設けると共に該ダストホッパー7の外周と
    前記拡大部15の内周とに間隔1γを有するように設け
    、また下部触媒層14bの下方のダストホッパー9を反
    応器本体1と一体に形成し、かつ前記下部触媒層14b
    とダストホッパー9との間の反応器本体1にガス人口2
    を配置した特許請求の範囲第3項に記載の乾式脱硝用竪
    形反応器。 5 上下の触媒層14atlbを仕切板16を介して反
    応器本体1内に設け、該触媒層14a。 14bの下方にダストホッパー7.9を夫々設けると共
    に該ダストホッパー7.9の外周と前記反応器本体1の
    内周とに間隔20を有するように設け、前記下方のダス
    トホッパー9の下方の反応器本体1にガス人口2を配置
    した特許請求の範囲第3項に記載の乾式脱硝用竪形反応
    器。 6 スートブロー管6からの噴出空気の流速が、触媒層
    14の孔18を上昇する排ガスの流速より十分速くなる
    ようスートブロー管6より空気を噴出せしめる特許請求
    の範囲第1乃至第5項いずれかに記載の乾式脱硝用竪形
    反応器。
JP52077805A 1977-07-01 1977-07-01 乾式脱硝用竪形反応器 Expired JPS5935243B2 (ja)

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JPS5413458A JPS5413458A (en) 1979-01-31
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JPS5843931U (ja) * 1981-09-18 1983-03-24 バブコツク日立株式会社 高ダスト用反応器
JP5541078B2 (ja) * 2010-10-21 2014-07-09 Jfeスチール株式会社 ダストキャッチャー
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