JPS6017217Y2 - 固気接触反応装置 - Google Patents

固気接触反応装置

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Publication number
JPS6017217Y2
JPS6017217Y2 JP1980067571U JP6757180U JPS6017217Y2 JP S6017217 Y2 JPS6017217 Y2 JP S6017217Y2 JP 1980067571 U JP1980067571 U JP 1980067571U JP 6757180 U JP6757180 U JP 6757180U JP S6017217 Y2 JPS6017217 Y2 JP S6017217Y2
Authority
JP
Japan
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gas
catalyst layer
angle
solid
dust
Prior art date
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Expired
Application number
JP1980067571U
Other languages
English (en)
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JPS56168238U (ja
Inventor
充康 本田
正夫 日野
徹 瀬戸
Original Assignee
三菱重工業株式会社
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Publication date
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Priority to DE3119942A priority patent/DE3119942C2/de
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Application granted granted Critical
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Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/02Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B1/00Shaft or like vertical or substantially vertical furnaces
    • F27B1/10Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
    • F27B1/18Arrangements of dust collectors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、ダーティ排ガス(例えば石炭焚、重油焚、焼
結炉排ガス、コークス炉排ガス等)を対象とした固気接
触反応装置の改良に関し、特に竪配置で使用する場合の
ダスト堆積によるトラブルを解消した上記装置に関する
ものである。
従来の固気接触反応装置は、第1図A−Dに示すように
、比較的小寸法の成る一定の長さを持つたハニカム触媒
(01#、Δ状等)1を枠構造体2内に多数個積重ねて
パッケージ化した触媒層を複数個、反応器の各段に設け
られた支持台3上に挿入充填したものが多い。
しかし、各段に設けられた支持台3のガス流に対して下
流側ではガス偏流が起こり易く、流速が遅いこともあっ
て、特に付着性の強いダストを対象とする場合、第1図
りに示すように、時間の経過と共に該支持台3下流側の
反応器壁6面部にダステト4が付着成長味一定以上に成
長じた場合の自然落下や、外部からの何らかの振動によ
る落下によってガス通過孔5が接触層端面部に覆いかぶ
さり、それに伴ない。
fi)反応器の圧損上昇が著しくなり、長期連続運転が
不可能となる、 (11)触媒自体の性能等に悪影響を及ぼす、という欠
点が生じる。
また、該触媒層のガス流に対し入口側では各パッケージ
化触媒層の隣接部aおよびパッケージ化触媒層と反応壁
6面との接触部すにおいてパッケージ化触媒層の枠構造
体2上部にダストの堆積が生じ、外力等により堆積ダス
トがガス通過孔5に覆いかぶさり、上記N)t (ii
)と同様の欠点が生じる。
本考案は、上記の従来装置に見られる欠点を解消するた
めになされたもので、ダーティ排ガス用固気接触反応装
置において、反応容器の各段パッケージ化触媒層を支え
る支持台の下流の該支持台と反応容器壁とのガス渦流発
生部にダスト付着防止用プレート板を、該プレート板と
上記支持台のなす角度が上記排ガス中のダストの安息角
以上の傾斜角度をもつように設けると共に、上記各段の
パッケージ化触媒層のガス入口側の各パッケージ化触媒
層隣接部のパッケージ花月枠構造体上部および同ガス入
口側のパッケージ化触媒層のパッケージ化用枠構造体と
反応容器壁面との接触部にダスト付着防止板を、該ダス
ト付着防止板と上記枠構造体とのなす角度が前記安息角
以上の傾斜角度をもつように設けることを特徴とする固
気接触反応装置に関する。
第2図A−Cは、本考案の一実施態様例を示す図であり
、該図中第1図A−Dと同一符号は第1図A−Dと同一
部を示す。
先ず、各パッケージ化触媒層のガス流7に対し下流側に
は、第2図A、 Bに示すように、ダスト付着防止用プ
レート板8を支持台3下流側の相対する壁6面に、該プ
レート板8と支持台3のなす角度θが被処理排ガス中の
ダストの安息角(450)以上90°未満の傾斜角度を
もつように取付ける。
なお該プレート板8は、支持台3と一体としてもよく(
ここでは一体としたものを図示する)、また表面はフラ
ットでかつ表面粗度の小さいものを使用することが好ま
しい。
次に、各パッケージ化触媒層のガス流7に対し上流側に
は、第2図Cに示すように、各パッケージ化触媒層の隣
接部(第1図中の符号aに相当する部分)およびパッケ
ージ化触媒層と反応器壁6面との接触部(第1図中の符
号すに相当する部分)にそれぞれダスト付着防止板91
および9□を取付ける。
該ダスト付着防止板91 および9゜は、それぞれ第3
図A、 Bに示すような構造のもの、すなわち傾斜角θ
が被処理排ガス中のダスト流動性を考慮して一般には安
息角(45°)以上90°未満で、状況に応じて角度の
大きさを選定するものとする。
上記のような構造とすることによって、支持台下流側で
ダスト付着ならびに触媒層入口側の枠構造体上部でのダ
スト堆積量を極減し、ガス通過孔の閉塞や触媒性能への
悪影響がなく、長期連続運転が可能となり、実用上極め
て有用な固気接触反応装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図A−Dは従来の固気接触反応装置を説明するため
の図で、単一ハニカム触媒Aをパッケージ化Bし、反応
器の各段に充填した状態Cを示し、更にダスト付着状況
りを示す図、第2図A〜Cは本考案装置の一実施態様例
を示す図で、Aはガス流に対し下流側の態様を、BはA
の概略斜視を、Cはガス流に対し上流側の態様をそれぞ
れ示す図、第3図A、 Bは第2図Cの態様に用いられ
るダスト付着防止板の一例を示す図である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ダーティ排ガス用固気接触反応装置において、反応容器
    の各段パッケージ化触媒層を支える支持台の下流の該支
    持台と反応容器壁とのガス渦流発生部にダスト付着防止
    用プレート板を、該プレート板と上記支持台のなす角度
    が上記排ガス中のダストの安息角以上の傾斜角度をもつ
    ように設けると共に、上記各段のパッケージ化触媒層の
    ガス入口側の各パッケージ化触媒層隣接部のパッケージ
    花月枠構造体上部および同ガス入口側のパッケージ化触
    媒層のパッケージ化用枠構造体と反応容器壁面との接触
    部にダスト付着防止板を、該ダスト付着防止板と上記枠
    構造体とのなす角度が前記安息角以上の傾斜角度をもつ
    ように設けることを特徴とする固気接触反応装置。
JP1980067571U 1980-05-19 1980-05-19 固気接触反応装置 Expired JPS6017217Y2 (ja)

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DE3119942A DE3119942C2 (de) 1980-05-19 1981-05-15 Reaktionsbehälter
US06/458,015 US4544525A (en) 1980-05-19 1983-01-14 Solid gas contact reactor

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JPS56168238U JPS56168238U (ja) 1981-12-12
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DE (1) DE3119942C2 (ja)

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Publication number Publication date
JPS56168238U (ja) 1981-12-12
DE3119942C2 (de) 1984-11-08
DE3119942A1 (de) 1982-03-04
US4544525A (en) 1985-10-01

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