JPS593414B2 - 金属被覆光フアイバの製造方法 - Google Patents
金属被覆光フアイバの製造方法Info
- Publication number
- JPS593414B2 JPS593414B2 JP56007747A JP774781A JPS593414B2 JP S593414 B2 JPS593414 B2 JP S593414B2 JP 56007747 A JP56007747 A JP 56007747A JP 774781 A JP774781 A JP 774781A JP S593414 B2 JPS593414 B2 JP S593414B2
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- JP
- Japan
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- metal
- optical fiber
- machine
- metal strip
- coated optical
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属被覆光ファイバの製造方法に関する。
光ファイバの外周に対熱性の被覆層を形成する５ 場合
、一般的には真空メッキ、金属のフォーミング加工、溶
融金属中への浸漬などにより、光ファイバの外周に金属
被覆層が形成される。
、一般的には真空メッキ、金属のフォーミング加工、溶
融金属中への浸漬などにより、光ファイバの外周に金属
被覆層が形成される。
上記のうち、真空メッキの場合ではそのメッキ装置の内
外にわたつて光ファイバが通過するため、１０当該装置
の出入口部に光ファイバと密接するシール機構が必要に
なるが、この際のシールパッキンなどを強〈光ファイバ
に接触させると該光ファイバ表面に傷がつ〈ことになり
、逆に弱い接触では所定の真空度が保持できないことと
なつていた。
外にわたつて光ファイバが通過するため、１０当該装置
の出入口部に光ファイバと密接するシール機構が必要に
なるが、この際のシールパッキンなどを強〈光ファイバ
に接触させると該光ファイバ表面に傷がつ〈ことになり
、逆に弱い接触では所定の真空度が保持できないことと
なつていた。
・５ また、真空メッキによつて形成される金属被覆層
は薄＜て硬いために脆さも有している６一方、金属フォ
ーミング加工も、裸状とした光ファイバの外周に直接こ
の加工を施した場合には該光ファイバを傷つけることに
なり、こうして加’ｏ 工された金属被覆層の継目容接
が満足に行えないことも問題になつている。
は薄＜て硬いために脆さも有している６一方、金属フォ
ーミング加工も、裸状とした光ファイバの外周に直接こ
の加工を施した場合には該光ファイバを傷つけることに
なり、こうして加’ｏ 工された金属被覆層の継目容接
が満足に行えないことも問題になつている。
さらに溶融金属中へ光ファイバを浸漬する方法では、溶
融金属の粘性抵抗によつて光ファイバが断線される虞れ
があるので、高速被覆は望めず、；５ 溶融金属表面の
スケールが光ファイバに付着することへの技術的配慮も
必要となる。
融金属の粘性抵抗によつて光ファイバが断線される虞れ
があるので、高速被覆は望めず、；５ 溶融金属表面の
スケールが光ファイバに付着することへの技術的配慮も
必要となる。
本発明は光ファイバの紡糸工程と同期して光ファイバの
外周を金属被覆するようにし、しかもこの際の被覆手段
として真空メッキ、金属のフォー１９ミング加工を併用
してこれらの欠点を相互補完せしめ、かつ、真空メッキ
時、フォーミング加工時における個々の問題をも解消し
たもので、以下その具体的方法を図示の装置と共に説明
する。
外周を金属被覆するようにし、しかもこの際の被覆手段
として真空メッキ、金属のフォー１９ミング加工を併用
してこれらの欠点を相互補完せしめ、かつ、真空メッキ
時、フォーミング加工時における個々の問題をも解消し
たもので、以下その具体的方法を図示の装置と共に説明
する。
第１図において、１、２はいずれも密閉型とし３・ ；
た機構であり、これら機構１、２は上下二段に配置さ
れている。このうち、上段の機構１内には、後述のプリ
フオームロツドを挟持して上下動する母材供給機構（図
示せず）の挟持具３と、該挟持具３と、該挟持具３の下
位に配置された筒形の加熱炉４と、該加熱炉４の下位に
配置されたスパツタリング式、イオンプレーテイング式
等による真空メツキ機５とがそれぞれ所定位置に保持さ
れて配置され、かつ、両機箱１，２の境界壁には通孔６
が穿設されている。
た機構であり、これら機構１、２は上下二段に配置さ
れている。このうち、上段の機構１内には、後述のプリ
フオームロツドを挟持して上下動する母材供給機構（図
示せず）の挟持具３と、該挟持具３と、該挟持具３の下
位に配置された筒形の加熱炉４と、該加熱炉４の下位に
配置されたスパツタリング式、イオンプレーテイング式
等による真空メツキ機５とがそれぞれ所定位置に保持さ
れて配置され、かつ、両機箱１，２の境界壁には通孔６
が穿設されている。
一方、下段の機箱２内にはその底部近傍に造管用のフオ
ーミング機７、電気溶接型の溶接機８が上下に配置され
、かつ、該機箱２の底壁にはダイス９が設けられている
。
ーミング機７、電気溶接型の溶接機８が上下に配置され
、かつ、該機箱２の底壁にはダイス９が設けられている
。
また、上記機箱２の外部側方にはテープ状などとした金
属条体の供給機１０が配置され、該機箱２内の上部には
電子型の金属清浄機１１が配置され、さらに機箱２の側
壁には上記両機１０，１１を連絡するための通孔１２が
穿設されていると共にこれら供給機１０、金属清浄機１
１訃よび前記フオーミング機７の各部間には、ガイドロ
ーラ１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄがそれぞれ配設さ
れている。
属条体の供給機１０が配置され、該機箱２内の上部には
電子型の金属清浄機１１が配置され、さらに機箱２の側
壁には上記両機１０，１１を連絡するための通孔１２が
穿設されていると共にこれら供給機１０、金属清浄機１
１訃よび前記フオーミング機７の各部間には、ガイドロ
ーラ１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄがそれぞれ配設さ
れている。
さらに前述した溶接機８の内部には、第２図に示すごと
く、電極ローラ１４ａ，１４ｂが内蔵されている。
く、電極ローラ１４ａ，１４ｂが内蔵されている。
本発明では機箱１内を減圧しい所定の真空度に保持し、
一方、機箱２内は減圧により所定の真空度とした後、そ
の内部を不活性ガスにより置換して訃く。
一方、機箱２内は減圧により所定の真空度とした後、そ
の内部を不活性ガスにより置換して訃く。
そして機箱１内では母材供給機構の挟持具３により挟持
されている石英系のプリフオームロツドＡを加熱炉４内
へと降下させていき、該加熱炉４により溶融されたプリ
フオームロツドＡの下端を線引きして光フアイバＢへと
連続的に紡系すると共にこの紡糸された光フアイバＢを
真空メツキ機５内へ導入してその外周に薄い金層被膜Ｃ
を形成し、これにより第３図のごとき１次金属被覆光フ
アイバＤとする。
されている石英系のプリフオームロツドＡを加熱炉４内
へと降下させていき、該加熱炉４により溶融されたプリ
フオームロツドＡの下端を線引きして光フアイバＢへと
連続的に紡系すると共にこの紡糸された光フアイバＢを
真空メツキ機５内へ導入してその外周に薄い金層被膜Ｃ
を形成し、これにより第３図のごとき１次金属被覆光フ
アイバＤとする。
この１次金属被覆光フアイバＤは、上記真空メツキ機５
外へ出た後、通孔６を通つて機箱２内へと進入し、フオ
ーミング機７、溶接機８へと進行していくが、そのフオ
ーミング機７にかかる手前で該光フアイバＤにはテープ
状とした金属条体Ｅが合流することになる。
外へ出た後、通孔６を通つて機箱２内へと進入し、フオ
ーミング機７、溶接機８へと進行していくが、そのフオ
ーミング機７にかかる手前で該光フアイバＤにはテープ
状とした金属条体Ｅが合流することになる。
この金属条体Ｅは機箱２外の供給機１０からガイドロー
ラ１３ａ、通孔１２を経て該機箱２内へ進入すると共に
ガイドローラ１３ｂ経由して金属清浄機１１内を通過す
ることとなり、このとき金属条体Ｅの両側縁、特にその
端面（溶接箇所）が金属清浄機１１内での電子衝撃によ
り清浄化され、さらに清浄化後の金属条体Ｅはガイドロ
ーラ１３ｃ，１３ｄを経て前述のごと〈１次金属被覆光
フアイバＤと縦添え状態で合流し、同状態において両者
Ｄ，Ｅはフオーミング機７へと進入する。
ラ１３ａ、通孔１２を経て該機箱２内へ進入すると共に
ガイドローラ１３ｂ経由して金属清浄機１１内を通過す
ることとなり、このとき金属条体Ｅの両側縁、特にその
端面（溶接箇所）が金属清浄機１１内での電子衝撃によ
り清浄化され、さらに清浄化後の金属条体Ｅはガイドロ
ーラ１３ｃ，１３ｄを経て前述のごと〈１次金属被覆光
フアイバＤと縦添え状態で合流し、同状態において両者
Ｄ，Ｅはフオーミング機７へと進入する。
フオーミング機７では、その造管機能により金属条体Ｅ
がパイプ状に巻き込み成形されると共にそのパイプ内へ
１次金属被覆光フアイバＤが被包され、この状態で両者
Ｄ，Ｅはつがの溶接機８内へ進入する。溶接機８内では
、第２図のごとく１対の電極ローラ１４ａ，１４ｂによ
りパイプ状の金属条体Ｅがホールドされ、これら電極ロ
ーラ１４ａ，１４ｂおよび溶接棒Ｆによりその継目部ｅ
が電気溶接され、またはレーザー光により溶接される。
がパイプ状に巻き込み成形されると共にそのパイプ内へ
１次金属被覆光フアイバＤが被包され、この状態で両者
Ｄ，Ｅはつがの溶接機８内へ進入する。溶接機８内では
、第２図のごとく１対の電極ローラ１４ａ，１４ｂによ
りパイプ状の金属条体Ｅがホールドされ、これら電極ロ
ーラ１４ａ，１４ｂおよび溶接棒Ｆによりその継目部ｅ
が電気溶接され、またはレーザー光により溶接される。
第４図は金属条体Ｅがこうして溶接された状態を示した
ものであり、前記ＩＩＣ卦いて清浄化された箇所が継目
部ｅとなつて該金属条体Ｅは電縫されている。
ものであり、前記ＩＩＣ卦いて清浄化された箇所が継目
部ｅとなつて該金属条体Ｅは電縫されている。
以下、パイプ状の金属条体Ｅぱその内部１ｆＣ１次金属
被覆光フアイバＤを共伴した状態で機箱２のダイス９を
通過すると共に該ダイス９により絞られて第５図の状態
となり、これにより所定の金属被覆光フアイバ、すなわ
ち２次金属被覆光フアイバＧが得られる。
被覆光フアイバＤを共伴した状態で機箱２のダイス９を
通過すると共に該ダイス９により絞られて第５図の状態
となり、これにより所定の金属被覆光フアイバ、すなわ
ち２次金属被覆光フアイバＧが得られる。
な｝、機箱２外へ出た２次金属被覆光７アイバＧは図示
しない引取線により引きとられ、巻取機へ巻きとられる
。
しない引取線により引きとられ、巻取機へ巻きとられる
。
つぎに上記における具体例を説明すると、機箱１内の真
空度ぱ１０−４ｔ０ｒｒ程度とし、プリフオームロツド
Ａは石英の軟化温度以上にまで加熱して外径１２５μｍ
程度の光フアイバＢをつ〈る。
空度ぱ１０−４ｔ０ｒｒ程度とし、プリフオームロツド
Ａは石英の軟化温度以上にまで加熱して外径１２５μｍ
程度の光フアイバＢをつ〈る。
光フアイバＢの外周に形成する金属被膜Ｃの厚さはスパ
ツタリング法により１０００〜２０００λ程度とし、こ
れの材料としてはアルミニウムを用いる。一方、機箱２
内はアルゴンなどの不活性ガスにより置換するが、その
内部は１『２〜１０−３ｔ０ｒｒ程度の真空度とし、供
給機１０からはステンレス製の金属条体Ｅを金属清浄機
１１、フオ一ミング機７、溶接機８へと給送する。
ツタリング法により１０００〜２０００λ程度とし、こ
れの材料としてはアルミニウムを用いる。一方、機箱２
内はアルゴンなどの不活性ガスにより置換するが、その
内部は１『２〜１０−３ｔ０ｒｒ程度の真空度とし、供
給機１０からはステンレス製の金属条体Ｅを金属清浄機
１１、フオ一ミング機７、溶接機８へと給送する。
金属清浄機１１ではグロー放電により金属条体Ｅの継目
部ｅとなる部分にイオンを衝突させて同部を浄化し、ま
た、フオーミング機７では金属条体Ｅを外径８ｍ１１１
，に造管し、さらに溶接機８では電子ビームにより継目
部ｅを溶接する。
部ｅとなる部分にイオンを衝突させて同部を浄化し、ま
た、フオーミング機７では金属条体Ｅを外径８ｍ１１１
，に造管し、さらに溶接機８では電子ビームにより継目
部ｅを溶接する。
ダイス９ではパイプ状となつて金属条体Ｅを外径７ｍ７
！Ｌ程度に減径する。
！Ｌ程度に減径する。
なお、上記における金属被膜Ｃとしては窒化アルミニウ
ムをイオンプレーテイングにより形成してもよく、また
、金属条体Ｅとしてはアルミニウムを外径７．５程度の
パイプ状としてその継目部ｅを高周波ＴＩＧ溶接し、さ
らに該パイプ状金属条体Ｅをダイス９Ｖｃより外径７ｍ
７！Ｌ程度に減径する具体例もある。
ムをイオンプレーテイングにより形成してもよく、また
、金属条体Ｅとしてはアルミニウムを外径７．５程度の
パイプ状としてその継目部ｅを高周波ＴＩＧ溶接し、さ
らに該パイプ状金属条体Ｅをダイス９Ｖｃより外径７ｍ
７！Ｌ程度に減径する具体例もある。
以上説明した通り、本発明の方法では真空雰囲気中で紡
糸された光フアイバをぞの雰囲気中における真空メツキ
手段により１次金属被覆するから、箕空メツキ機の内外
にわたつて光フアイバを通すとき、該機の出入口部に格
別のシール機構を設けずとも所定の真空状態は得られ、
さらにシール機構がある場合の光フアイバ表面の損傷も
防止できるまた、真空メツキによる金属被膜だけでは膜
厚が薄硬の状態となり、強度のある耐熱被覆にはなり得
ないが、その後の２次金属被覆手段によりさらに金属の
層が設けられるので、金属被覆光フアイバとして強度の
高いものが得られ、しかもこの２次金属被覆時、すでに
１次金属被覆が施されているので、この際の取り扱いに
訃いても光フアイバを傷つけることはない。
糸された光フアイバをぞの雰囲気中における真空メツキ
手段により１次金属被覆するから、箕空メツキ機の内外
にわたつて光フアイバを通すとき、該機の出入口部に格
別のシール機構を設けずとも所定の真空状態は得られ、
さらにシール機構がある場合の光フアイバ表面の損傷も
防止できるまた、真空メツキによる金属被膜だけでは膜
厚が薄硬の状態となり、強度のある耐熱被覆にはなり得
ないが、その後の２次金属被覆手段によりさらに金属の
層が設けられるので、金属被覆光フアイバとして強度の
高いものが得られ、しかもこの２次金属被覆時、すでに
１次金属被覆が施されているので、この際の取り扱いに
訃いても光フアイバを傷つけることはない。
特に本発明での２次金属被覆時、金属条体の周囲を真空
に保持した場合、大気と反応しやすい金属条体（活性金
属）の当該反応が阻止でき、この際、金属条体の継目部
が清浄化されたものを用いると、その継目部の溶接状態
がより安定する。
に保持した場合、大気と反応しやすい金属条体（活性金
属）の当該反応が阻止でき、この際、金属条体の継目部
が清浄化されたものを用いると、その継目部の溶接状態
がより安定する。
第１図は本発明方法の１実施例をその装置と共に示した
略示説明図、第２図は同上における溶接工程の部分説明
図、第３図、第４図、第５図は同上の加工状態を示した
断面図である。 １，２・・・・・・機箱、３・・・・・・プリフオーム
ロツドの挟持具、４・・・・・・加熱炉、５・・・・・
・真空メツキ機、７・・・・・・フオーミング機、８・
・・・・・溶接機、１０・・・・・・金属条体の供給機
、１１・・・・・・金属清浄機、Ａ・・・・・・プリフ
オームロツド、Ｂ・・・・・・光フアイバ、Ｃ・・・・
・・金属被膜、Ｄ・・・・・・一次金属被覆光フアイバ
、Ｅ・・・・・・金属条体、ｅ・・・・・・継目部、Ｇ
・・・・・・２次金属光フアイバ。
略示説明図、第２図は同上における溶接工程の部分説明
図、第３図、第４図、第５図は同上の加工状態を示した
断面図である。 １，２・・・・・・機箱、３・・・・・・プリフオーム
ロツドの挟持具、４・・・・・・加熱炉、５・・・・・
・真空メツキ機、７・・・・・・フオーミング機、８・
・・・・・溶接機、１０・・・・・・金属条体の供給機
、１１・・・・・・金属清浄機、Ａ・・・・・・プリフ
オームロツド、Ｂ・・・・・・光フアイバ、Ｃ・・・・
・・金属被膜、Ｄ・・・・・・一次金属被覆光フアイバ
、Ｅ・・・・・・金属条体、ｅ・・・・・・継目部、Ｇ
・・・・・・２次金属光フアイバ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 真空雰囲気中で紡糸された後の光ファイバをその雰
囲気中における真空メッキ手段により１次金属被覆し、
該１次金属被覆後の光ファイバを、フォーミング加工に
よる金属条体のパイプ状空間内に導入して２次金属被覆
し、該金属条体の継目部を電気溶接手段により溶接する
ことを特徴とした金属被覆光ファイバの製造方法。 ２ 電気溶接時、パイプ状とした金属条体の周囲を真空
雰囲気に保持してその継目部を溶接する特許請求の範囲
第１項記載の金属被覆光ファイバの製造方法。 ３ ２次金属被覆用の金属条体として、その継目部とな
る部分が清浄に保持されたものを用いる特許請求の範囲
第１項または第２項記載の金属被覆光ファイバの製造方
法。 ４ 金属条体の継目部となる部分は、電子衝撃により清
浄化されている特許請求の範囲第３項記載の金属被覆光
ファイバの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56007747A JPS593414B2 (ja) | 1981-01-21 | 1981-01-21 | 金属被覆光フアイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56007747A JPS593414B2 (ja) | 1981-01-21 | 1981-01-21 | 金属被覆光フアイバの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57123838A JPS57123838A (en) | 1982-08-02 |
| JPS593414B2 true JPS593414B2 (ja) | 1984-01-24 |
Family
ID=11674282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56007747A Expired JPS593414B2 (ja) | 1981-01-21 | 1981-01-21 | 金属被覆光フアイバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS593414B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6321052Y2 (ja) * | 1984-07-24 | 1988-06-10 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57191248A (en) * | 1981-05-22 | 1982-11-25 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Covering of optical fiber |
-
1981
- 1981-01-21 JP JP56007747A patent/JPS593414B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6321052Y2 (ja) * | 1984-07-24 | 1988-06-10 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57123838A (en) | 1982-08-02 |
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