JPS5933558B2 - Ggg単結晶を製造する方法 - Google Patents
Ggg単結晶を製造する方法Info
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- JPS5933558B2 JPS5933558B2 JP5829981A JP5829981A JPS5933558B2 JP S5933558 B2 JPS5933558 B2 JP S5933558B2 JP 5829981 A JP5829981 A JP 5829981A JP 5829981 A JP5829981 A JP 5829981A JP S5933558 B2 JPS5933558 B2 JP S5933558B2
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
GGG単結晶のボウル後半におけるIr介在物の混入量
の増大を雰囲気コントロールにより抑え、良質結晶長を
増大したチョクラルスキー法にょるGGG単結晶の製造
方法。
の増大を雰囲気コントロールにより抑え、良質結晶長を
増大したチョクラルスキー法にょるGGG単結晶の製造
方法。
従来チョクラルスキー法によるGGG単結晶の育成法は
原料タルトを020.5〜3%含有するN2雰囲気中で
、周知のようにIrルツボを高周波加熱し、メルトを1
700℃ないし1800℃に保持しつつシードにメルト
を凝固させ、シードを回転させながら引上げ、円形断面
を有する長い単結晶ボウルを製造していた。
原料タルトを020.5〜3%含有するN2雰囲気中で
、周知のようにIrルツボを高周波加熱し、メルトを1
700℃ないし1800℃に保持しつつシードにメルト
を凝固させ、シードを回転させながら引上げ、円形断面
を有する長い単結晶ボウルを製造していた。
この場合雰囲気中に含有される02量を育成の途中で変
更することは行われなかった。
更することは行われなかった。
本方法によるGGGボウルの育成においてはIrの介在
物がボウルの後半部において育成長とともに増大するた
め結晶の品質を劣化させ、ある長さを越えた部分は実用
性を有しない。
物がボウルの後半部において育成長とともに増大するた
め結晶の品質を劣化させ、ある長さを越えた部分は実用
性を有しない。
本発明は上記従来のGGG単結晶製造における欠点を改
良し、ボウル後半部における育成長増大に伴う介在物の
混入量増大を防止し結晶後半部における品質を向上させ
引上げられたボウル全長に亘り高品質結晶を提供するこ
とを目的とする。
良し、ボウル後半部における育成長増大に伴う介在物の
混入量増大を防止し結晶後半部における品質を向上させ
引上げられたボウル全長に亘り高品質結晶を提供するこ
とを目的とする。
\
特開昭48 六31200等により雰囲気中02含有量
とGGG m高中介在物との関係が密であることはよく
知られソ゛℃、・る。
とGGG m高中介在物との関係が密であることはよく
知られソ゛℃、・る。
結晶育成途中における雰囲気中02量の変更により、ボ
ウル後半部における介在物の減少をはかるべく3“φ結
晶につき約250mm長さのボウルを育成し、実験を行
った。
ウル後半部における介在物の減少をはかるべく3“φ結
晶につき約250mm長さのボウルを育成し、実験を行
った。
その結果、結晶育成後半において、雰囲気中02含有量
を初期含有量(05ないし3%)の1.2倍ないし1.
5倍に増大することが著しく介在物の混入量の減少に効
果があることが判明した。
を初期含有量(05ないし3%)の1.2倍ないし1.
5倍に増大することが著しく介在物の混入量の減少に効
果があることが判明した。
第2図はこれらの実験結果をまとめたものである。
図において、曲線1は初期雰囲気中02量(容量%)の
N2ガス雰囲気と同一雰囲気を育成終了まで維持した場
合の結果、曲線2,3および4は結晶を約半分成長させ
た段階で、それぞれ初期02含有量の1.2倍および2
倍の02含有量に置換した場合の結果である。
N2ガス雰囲気と同一雰囲気を育成終了まで維持した場
合の結果、曲線2,3および4は結晶を約半分成長させ
た段階で、それぞれ初期02含有量の1.2倍および2
倍の02含有量に置換した場合の結果である。
1育成前半・後半を通して0□含有量
を変化させなかった場合にはボウル最低部のウェファ当
り平均介在物数は02含有量1〜3%で比較的少ないが
5ないし7ケ/ウエフア混入されている。
を変化させなかった場合にはボウル最低部のウェファ当
り平均介在物数は02含有量1〜3%で比較的少ないが
5ないし7ケ/ウエフア混入されている。
育成後半の雰囲気を初期02量(ボウル育成前半での0
2量)の1.2倍とした場合の効果は顕著であり、初期
02量1ないし3%であった場合1ケないし2ケ/ウエ
フアに減少している。
2量)の1.2倍とした場合の効果は顕著であり、初期
02量1ないし3%であった場合1ケないし2ケ/ウエ
フアに減少している。
初期02量3.5%以上の場合にはその効果はみられな
い。
い。
この場合、育成後のIrルツボの内壁および残留メルト
表面に通常よりも異常に多いIr粉の付着がみられた。
表面に通常よりも異常に多いIr粉の付着がみられた。
これは雰囲気中02含有量が多すぎ、逆にIrの酸化量
を増大させたことを示していると考えられる。
を増大させたことを示していると考えられる。
この結果メルト中にもIrの混入量が通常よりも増大し
、逆に結晶後半部における02含有量増加の効果がマイ
ナスに働いた考えられる。
、逆に結晶後半部における02含有量増加の効果がマイ
ナスに働いた考えられる。
結晶育成後半における02含有量を初期含有量の1.5
倍とした場合においても効果は顕著であり、特に初期0
2含有量1ないし2%のときには介在物の含有量は1ケ
/ウエフア以下となる。
倍とした場合においても効果は顕著であり、特に初期0
2含有量1ないし2%のときには介在物の含有量は1ケ
/ウエフア以下となる。
この場合も初期02含有量3.5%以上においては、介
在物の含有量は育成後半における02含有量を初期含有
量と同一に保持した場合と比較し、むしろ介在物の含有
量は増大している。
在物の含有量は育成後半における02含有量を初期含有
量と同一に保持した場合と比較し、むしろ介在物の含有
量は増大している。
この場合も同様に残留メルト表面、Irルツボ内壁に多
数のIr粉付着が観察され02含有量過剰により介在物
混入量が増大したものと考えられる。
数のIr粉付着が観察され02含有量過剰により介在物
混入量が増大したものと考えられる。
結晶育成後半における02含有量を初期のそれの2倍と
した場合にもその効果はみられるが、初期0□含有量が
1%近傍においてのみ効果は著しかった。
した場合にもその効果はみられるが、初期0□含有量が
1%近傍においてのみ効果は著しかった。
初期02含有量0.25ないし0.5%においても本発
明の効果は認められたが、この場合には特にボウルのコ
ーン部に介在物が多く、ここで発生した多数の転位が肩
部から結晶前半に亘り結晶外へ抜は切れず多数存在した
ため、結晶前半の結晶品質は低く、実用に適さないもの
であった。
明の効果は認められたが、この場合には特にボウルのコ
ーン部に介在物が多く、ここで発生した多数の転位が肩
部から結晶前半に亘り結晶外へ抜は切れず多数存在した
ため、結晶前半の結晶品質は低く、実用に適さないもの
であった。
この観点からすれば初期02含有量1%の場合もボウル
前半における転位が比較的多いためボウル全体としての
良品部は少く実用性にやや欠けていた。
前半における転位が比較的多いためボウル全体としての
良品部は少く実用性にやや欠けていた。
実用面から言えば初期02量1.5%近傍が良好のよう
であった。
であった。
従って、本発明は初期02含有量0.5ないし3%に対
し、ボウル後半の02含有量の1.2ないし1.5倍と
した雰囲気でのGGG単結晶の育成でその効果とともに
実用性があると言える。
し、ボウル後半の02含有量の1.2ないし1.5倍と
した雰囲気でのGGG単結晶の育成でその効果とともに
実用性があると言える。
゛本実験を通し、初期02含有量3.5%以上の場合に
は、育成後半における02含有量を増大しない場合でも
、ボウル中介在物のみならずボウル前半における転位が
極めて多かった。
は、育成後半における02含有量を増大しない場合でも
、ボウル中介在物のみならずボウル前半における転位が
極めて多かった。
また、メルト中への02含有雰囲気の投入は原料がメル
トダウンしてからより、むしろ原料を加熱する段階から
投入した方がボウル中介在物転位が少くなることがわか
った。
トダウンしてからより、むしろ原料を加熱する段階から
投入した方がボウル中介在物転位が少くなることがわか
った。
本発明において使用された結晶育成チェンバーおよび育
成プロセスの概略を説明する。
成プロセスの概略を説明する。
第1図において、結晶育成チェンバーが例示されている
。
。
Gd Ga Oな(・しGd 3.。
5Ga4.g50.2範囲3 5 12
内の組成に相当する原料の融液(メルト)2がイリジウ
ムルツボ3内に保持されている。
ムルツボ3内に保持されている。
ルツボ3はその側面および底面においてジルコニア製の
断熱耐火物6,7で取囲まれている。
断熱耐火物6,7で取囲まれている。
耐火物6の外周に誘導加熱コイル9が配置される。
ルツボ3および耐火物7は台座10の上に置かれる。
これらは穴12およびガス導入管13部を除いて密閉さ
れたチェンバー11内に配置される。
れたチェンバー11内に配置される。
タルトに対しては、原料を加熱する段階より、雰囲気ガ
ス、例えば2%容積%酸素を伴5N2がガス導入され、
結晶引上シャフト14が挿通されるチェンバー11にと
りつけられた穴12を通して放出される。
ス、例えば2%容積%酸素を伴5N2がガス導入され、
結晶引上シャフト14が挿通されるチェンバー11にと
りつけられた穴12を通して放出される。
結晶引上シャフトの先端には要求に応じて予め決定され
た結晶方位を引上軸方向に有する単結晶(種結晶)15
が取付けられている。
た結晶方位を引上軸方向に有する単結晶(種結晶)15
が取付けられている。
メルトは1700℃から1800℃に維持される。
種結晶15はメルト中に浸漬され、メルトを少しづつ種
結晶に凝固させる。
結晶に凝固させる。
結晶ボウル5は一様な円形断面を有するように引上シャ
フトを回転させながら。
フトを回転させながら。
誘導加熱コイル9に投入される高周波電力を自動的にコ
ントロールする周知のチョクラルスキー結晶育成に従っ
て引上げられる。
ントロールする周知のチョクラルスキー結晶育成に従っ
て引上げられる。
尚1本発明において採用された雰囲気の置換はいずれの
場合にも、1時間ないし2時間以内に雰囲気目標値の±
5%以内に到達していることが02ガス分析記録計によ
り確認された。
場合にも、1時間ないし2時間以内に雰囲気目標値の±
5%以内に到達していることが02ガス分析記録計によ
り確認された。
本発明における具体的実施例を説明する。
使用された結晶育成チェンバーおよびプロセスは前述の
通りであるが実施例の比較が出来るように、いずれの場
合にも育成諸条件を一定とした。
通りであるが実施例の比較が出来るように、いずれの場
合にも育成諸条件を一定とした。
Irルツボな誘導加熱コイルに流れる高周波電流により
加熱し、原料粉をメルトとして1700℃ないし180
0℃に保持した。
加熱し、原料粉をメルトとして1700℃ないし180
0℃に保持した。
その後、種結晶棒なメルト中に浸漬し、引上シャフトを
回転しながら50時間でロードセル重量センサ一方式直
径自動制御により単結晶ボウルを引上げた。
回転しながら50時間でロードセル重量センサ一方式直
径自動制御により単結晶ボウルを引上げた。
最終的に得られたボウルは約82φ直径X250mm長
さの一様な円断面を有していた。
さの一様な円断面を有していた。
このボウルの最底部10〜15mmから10〜15枚の
76.2φX0.5tのウェファをスライスし、鏡面加
工後2分間浸漬し、ウェファ表面に表われる介在物転位
によるエッチピットをノマルスキー顕微鏡で100倍に
拡大し観察評価した。
76.2φX0.5tのウェファをスライスし、鏡面加
工後2分間浸漬し、ウェファ表面に表われる介在物転位
によるエッチピットをノマルスキー顕微鏡で100倍に
拡大し観察評価した。
第2図により本発明の詳細な説明する。
図から明らかな如く、例えば上記プロセスに従って、初
期02含有量1.5%のN2ガス雰囲気で育成終了まで
同一雰囲気で82φX250mmのGGGボウルを育成
した場合、ボウル肩部以降のボウル前半部では全(介在
物は含有されていなかつた。
期02含有量1.5%のN2ガス雰囲気で育成終了まで
同一雰囲気で82φX250mmのGGGボウルを育成
した場合、ボウル肩部以降のボウル前半部では全(介在
物は含有されていなかつた。
しかし、ボウル後半部から除々に介在物が増加し、ボウ
ル最底部15枚のウェファ(76,2φ)内の平均介在
物数は約6ケであった。
ル最底部15枚のウェファ(76,2φ)内の平均介在
物数は約6ケであった。
しかし、約125mm育成した段階で初期02含有量1
.5%の1.2倍1.8%とした場合のボウル最底部分
の平均介在物数は1ケであった。
.5%の1.2倍1.8%とした場合のボウル最底部分
の平均介在物数は1ケであった。
又約1.25 mm育成した段階で初期02含有量1.
5%の1.5倍2.25%とした場合のそれは0.3ケ
であり、はとんどのウェファは介在物ゼロであった。
5%の1.5倍2.25%とした場合のそれは0.3ケ
であり、はとんどのウェファは介在物ゼロであった。
雰囲気ガスの2段切替効果は顕著である。
本発明によりGGG単結晶ボウルの後半部における介在
物の混入量を従来の%ないし%に減少することが出来、
GGG単結晶ボウルの後半部品質をボウル前半部と同一
レベルとすることにより単結晶ボウルの結晶歩留りを大
巾に向上させえた。
物の混入量を従来の%ないし%に減少することが出来、
GGG単結晶ボウルの後半部品質をボウル前半部と同一
レベルとすることにより単結晶ボウルの結晶歩留りを大
巾に向上させえた。
第1図はGGG単結晶育成チェンバーの概略構造図、第
2図は3“φGGGボウル最底部ウェファ10〜15枚
の平均介在物数の後半育成雰囲気中02量をパラメータ
とした初期雰囲気中02量との相関図である。
2図は3“φGGGボウル最底部ウェファ10〜15枚
の平均介在物数の後半育成雰囲気中02量をパラメータ
とした初期雰囲気中02量との相関図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 IGGG単結晶の育成において、原料のメルトダウン以
前の加熱時をも含めて結晶ボウル引上げの前半部の雰囲
気0.5〜3容量パーセントの02を含むN2雰囲気と
し、結晶ボウル引上げの後半部(ボウルの後半部に相当
)雰囲気中02含有量を前半部のそれの1.2ないし1
.5に増大した雰囲気中で育成することを特徴とするチ
ョクラルスキーGGG単結晶の製造方法。 2 GGG単結晶の育成において、原料のメルトダウン
以前の加熱時をも含めて、結晶ボウル引上げの前半部の
雰囲気を0.5ないし1.5容量パーセントの0□を含
むN2ガス雰囲気とし、結晶ボウル引上げの後半部の雰
囲気中02含有量を前半部のそれの2倍とした雰囲気中
で育成することを特徴とするチョクラルスキーGGG単
結晶の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5829981A JPS5933558B2 (ja) | 1981-04-17 | 1981-04-17 | Ggg単結晶を製造する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5829981A JPS5933558B2 (ja) | 1981-04-17 | 1981-04-17 | Ggg単結晶を製造する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57175799A JPS57175799A (en) | 1982-10-28 |
| JPS5933558B2 true JPS5933558B2 (ja) | 1984-08-16 |
Family
ID=13080337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5829981A Expired JPS5933558B2 (ja) | 1981-04-17 | 1981-04-17 | Ggg単結晶を製造する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5933558B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS605094A (ja) * | 1983-06-13 | 1985-01-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ガリウムガ−ネツト単結晶の製造方法 |
| JPS60155593A (ja) * | 1984-01-24 | 1985-08-15 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | クリソベリル単結晶の製造方法 |
| JP2507997B2 (ja) * | 1986-04-30 | 1996-06-19 | 日本電気株式会社 | 単結晶育成方法 |
-
1981
- 1981-04-17 JP JP5829981A patent/JPS5933558B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57175799A (en) | 1982-10-28 |
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