JPS5932993A - シアンイオン含有物の処理法 - Google Patents
シアンイオン含有物の処理法Info
- Publication number
- JPS5932993A JPS5932993A JP14266582A JP14266582A JPS5932993A JP S5932993 A JPS5932993 A JP S5932993A JP 14266582 A JP14266582 A JP 14266582A JP 14266582 A JP14266582 A JP 14266582A JP S5932993 A JPS5932993 A JP S5932993A
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- Japan
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- cyanide ion
- contg
- liquid
- gas
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、シアンイオン含有物の処理法であり、シアン
イオン含有排液や青酸ガス含有排気を処理して無害化す
る技術に係る。従来、廃液中のシアンイオンの除去法と
しては、アルカリ塩素法が広く行なわれて来た。この方
法は次式の原理に基づいていた。
イオン含有排液や青酸ガス含有排気を処理して無害化す
る技術に係る。従来、廃液中のシアンイオンの除去法と
しては、アルカリ塩素法が広く行なわれて来た。この方
法は次式の原理に基づいていた。
（１）ＣＮ’−＋ＮａＣｔＯ→ＣＮＣｌ＋ＯＮａ一ｆ２
）ＣＮＣｔ＋ＯＨ→Ｃｔ−＋ＨＯＣＮ（３）２ＣＮＯ−
１−３０Ｃｔ”−＋Ｈ２０→２Ｃ０４？十Ｎ，，＋３Ｃ
ｌ−＋２０Ｈ−そして、（２）式の反応はｐＨｌＯ以上
のアルカリ側で進行し、（３）式の反応はｐＨが７．５
〜８位で進行するものであっで、従来のアルカリ塩素法
では第１段目で次亜塩素酸ソーダと苛性ソーダを加えＴ
）Ｈ１０前後で常温で滞留時間が１０分位で反応さＷ、
次いで第２段目で次亜塩素酸ソーダと硫酸を加えｐＨを
７．．５〜８の間とし、滞留時間３０〜１５０分で反応
させていた。
）ＣＮＣｔ＋ＯＨ→Ｃｔ−＋ＨＯＣＮ（３）２ＣＮＯ−
１−３０Ｃｔ”−＋Ｈ２０→２Ｃ０４？十Ｎ，，＋３Ｃ
ｌ−＋２０Ｈ−そして、（２）式の反応はｐＨｌＯ以上
のアルカリ側で進行し、（３）式の反応はｐＨが７．５
〜８位で進行するものであっで、従来のアルカリ塩素法
では第１段目で次亜塩素酸ソーダと苛性ソーダを加えＴ
）Ｈ１０前後で常温で滞留時間が１０分位で反応さＷ、
次いで第２段目で次亜塩素酸ソーダと硫酸を加えｐＨを
７．．５〜８の間とし、滞留時間３０〜１５０分で反応
させていた。
しかしながら、この方法では、反応槽を必らず２槽は必
要とすること、若干の反応時間を安するとと、そして各
槽のｐＨ値を町成り正確にコン１・ロールし．なければ
ならないこと、連続処理に適していないこと等工業上効
率的な方法とは言えなかったり 本発明者らは上記事情に鑑みて鋭意検討したところ、驚
くべきことに、シアンイオン含有液に次亜塩素酸塩を添
加しだ液を微酸性ないしアルカリ性で酸素を含有する気
体と接触させることによって、シアンイオンを無害化し
、しかも容易に処理液中の濃度でｉｐｐｍ以下にするこ
とができることを見出し、本発明を完成した。
要とすること、若干の反応時間を安するとと、そして各
槽のｐＨ値を町成り正確にコン１・ロールし．なければ
ならないこと、連続処理に適していないこと等工業上効
率的な方法とは言えなかったり 本発明者らは上記事情に鑑みて鋭意検討したところ、驚
くべきことに、シアンイオン含有液に次亜塩素酸塩を添
加しだ液を微酸性ないしアルカリ性で酸素を含有する気
体と接触させることによって、シアンイオンを無害化し
、しかも容易に処理液中の濃度でｉｐｐｍ以下にするこ
とができることを見出し、本発明を完成した。
すな．わほ、本発明はシアンイオンを含有する液■に次
亜．．塩素酸′−ダ．．を．加え微酸性なＩｐシ夕？力
．・１性そ酸素を含有する：気体と接触させること？′
を蒔徴とするものである。・ 本発明では、シアンイオンを含有するものは気体でも液
体でも容易に処理することが出来るが、液体はその捷ま
被処理物とし、気体の場合は次亜塩素酸塩の液顛そのま
捷通気して処理することも出来る。／アンイオ．ン字：
濃．度に？いて云えば液体中約１００（．１ｐｐｍ以下
党場合が普剪容易．に処理出来る濃度である。この様．
な・竿はヤリえばンアン化合物を使用するメノキ工場の
排水とかアンモオキシデ＝ンヨン法によ力？アクリ白二
十リル製造プロセスから発生ずる排水に見られる？。以
下本発明の典型的な実施の態様としてシアンイオン含有
液の処理に話を限定して説明する。
亜．．塩素酸′−ダ．．を．加え微酸性なＩｐシ夕？力
．・１性そ酸素を含有する：気体と接触させること？′
を蒔徴とするものである。・ 本発明では、シアンイオンを含有するものは気体でも液
体でも容易に処理することが出来るが、液体はその捷ま
被処理物とし、気体の場合は次亜塩素酸塩の液顛そのま
捷通気して処理することも出来る。／アンイオ．ン字：
濃．度に？いて云えば液体中約１００（．１ｐｐｍ以下
党場合が普剪容易．に処理出来る濃度である。この様．
な・竿はヤリえばンアン化合物を使用するメノキ工場の
排水とかアンモオキシデ＝ンヨン法によ力？アクリ白二
十リル製造プロセスから発生ずる排水に見られる？。以
下本発明の典型的な実施の態様としてシアンイオン含有
液の処理に話を限定して説明する。
本発明に用いる次亜塩素酸塩としては、これに限られる
ものではないがンーダ塩が便利に用いられる。
ものではないがンーダ塩が便利に用いられる。
シアンイオン含有液に添加する次亜塩素酸ノーダ．り、
（・被処理物のノアンイ刈ンの当量以１−添力１１・４
−る．藩、．理障当一かそれよりほんの少［７．多い鼠
添ノノｌｌ−Ｊ１１１昌１１１１１ るだけ？で十分である。次ｉｉｓ＝素酸ノーダの添Ｉ）
Ｉｆ．／Ｊ法に特に制限はない力：ぺ好ましくは永溶液
の形でレ千ンイオン含有液のラインに注加ず息？。使用
ずる次亜塩素酸ソーダ水溶液の濃度にも！１！ｊに制限
し１、ないが通常１０〜２０重昂％程度の濃度のものが
好１しい。
（・被処理物のノアンイ刈ンの当量以１−添力１１・４
−る．藩、．理障当一かそれよりほんの少［７．多い鼠
添ノノｌｌ−Ｊ１１１昌１１１１１ るだけ？で十分である。次ｉｉｓ＝素酸ノーダの添Ｉ）
Ｉｆ．／Ｊ法に特に制限はない力：ぺ好ましくは永溶液
の形でレ千ンイオン含有液のラインに注加ず息？。使用
ずる次亜塩素酸ソーダ水溶液の濃度にも！１！ｊに制限
し１、ないが通常１０〜２０重昂％程度の濃度のものが
好１しい。
次亜塩素酸ソーダを加えイこ．シアンイオン含有液ｏｐ
Ｈ値は、特に６以トでなければな１−４（い。ンアンイ
オン含有液が極端に酸性である場合にＩ／：Ｌ，苛性ソ
ーダ等アル？カリでＩＩＴ）ｎ・６以−１二とし２、棒
端？なアルカリ性でも本発明の実施に支障ひ１、なａが
、必置の防蝕上その他の不利挨あＺ＞メで硫酸等の酸を
加えてｐｌＴ］．０以下とするのが好Ｊ′？しい。ｐＨ
が６に達ｌ−ないとシアンイオンの無害化反応が円滑に
進行せず本発明の目的を達しがだい。
Ｈ値は、特に６以トでなければな１−４（い。ンアンイ
オン含有液が極端に酸性である場合にＩ／：Ｌ，苛性ソ
ーダ等アル？カリでＩＩＴ）ｎ・６以−１二とし２、棒
端？なアルカリ性でも本発明の実施に支障ひ１、なａが
、必置の防蝕上その他の不利挨あＺ＞メで硫酸等の酸を
加えてｐｌＴ］．０以下とするのが好Ｊ′？しい。ｐＨ
が６に達ｌ−ないとシアンイオンの無害化反応が円滑に
進行せず本発明の目的を達しがだい。
本発明では、次亜塩素酸ソーダを加えだンアンイオン含
有液を酸素含有ガスと接触させるのであるが酸素含有ガ
スとしては空気が特に好ましい。
有液を酸素含有ガスと接触させるのであるが酸素含有ガ
スとしては空気が特に好ましい。
勿論純酸素を用いてもよい・。捷だ、ガス中にアン：モ
ニアガスが混ったアルカリ性：のガスでも使用す？るこ
とができる。ガスの温度は制限はないが、通常常温で充
分である。一 気液接触の方法としては向流接触が有効であり、気液が
向流的に接触し得る一切の手段を採用することができる
が、気液の接触時間は僅か５〜６０秒もあれば充分であ
るので、塔式のものが好ましく用いられる。．′ この場合ぐ塔底伺近からガスを吹きこみ、塔上，部から
次亜塩素酸ノニダを加えたシアンイ芽ン含１有液を降ら
ずのであるが、気液の接触を高めるた？めには、ランヒ
リング等の充填物を挿入し／こり、あるいは泡鐘塔や各
種′１・レー形式とすることが望まＬ，い。・ 液とガスの喰比は・彼処練シアン含有物の重量にｊ対［
〜て空気使用の場合で、重量比で′１／２００もあれば
充分であるが、これより多く用いることに｛＝Ｊ”の不
都合もない。又もし酸素ガスを用いるならこの数値は約
１／５に縮少されよう。酸素／７，イ〕気体の使用量は
シアン濃度に』；り決ぬれはよい。
ニアガスが混ったアルカリ性：のガスでも使用す？るこ
とができる。ガスの温度は制限はないが、通常常温で充
分である。一 気液接触の方法としては向流接触が有効であり、気液が
向流的に接触し得る一切の手段を採用することができる
が、気液の接触時間は僅か５〜６０秒もあれば充分であ
るので、塔式のものが好ましく用いられる。．′ この場合ぐ塔底伺近からガスを吹きこみ、塔上，部から
次亜塩素酸ノニダを加えたシアンイ芽ン含１有液を降ら
ずのであるが、気液の接触を高めるた？めには、ランヒ
リング等の充填物を挿入し／こり、あるいは泡鐘塔や各
種′１・レー形式とすることが望まＬ，い。・ 液とガスの喰比は・彼処練シアン含有物の重量にｊ対［
〜て空気使用の場合で、重量比で′１／２００もあれば
充分であるが、これより多く用いることに｛＝Ｊ”の不
都合もない。又もし酸素ガスを用いるならこの数値は約
１／５に縮少されよう。酸素／７，イ〕気体の使用量は
シアン濃度に』；り決ぬれはよい。
塔式の自流接触装置を用いた場合は、液ｖ．＋．ｑ：底
から彷き出され、ガスは塔頂から向収さｌ．ｌ１る。？
本発明・によれば、わ・〕’ｂ−’１（ｊ〜６０秒でン
゛ｒンイオン濃度をＩ．ｐｐｒｉ以下とすることができ
、そ・の？寸１廃水とＬ２て流ずことがてきる。寸だ、
従来υ：のようにか・ロー調整を各槽毎に行なう必甥が
なく、ｉ１’ｒ−’ｐ’Ｈ調整ｒｌが広いので操作上イ
ｊ利である。さらに、温度制御の点についても、発生熱
１１１“をガス？が容易に持ち去るので、全く１細かい
制御を行う必要がなく、有利である。？ 添加する次ｌｅｔ＋Ｍ’素酸ノーグの扇も最低でＣｌ、
ノアンイオンの当量分でよい。寸だ従来法のように残留
塩素の厳重な管理を−切必要とせず、過剰の次亜塩素酸
ソーダの後処理を特別に考慮せずとも処理液を系外へ廃
棄ずるど・とができる。？１ さらに反応槽を２槽設紋、攪拌手段も備え程必要もない
のでシアン処理シスナムをヨンバク１・にすることがで
きるし、設備費も安価になるというメリソｌ・も生ずる
。
から彷き出され、ガスは塔頂から向収さｌ．ｌ１る。？
本発明・によれば、わ・〕’ｂ−’１（ｊ〜６０秒でン
゛ｒンイオン濃度をＩ．ｐｐｒｉ以下とすることができ
、そ・の？寸１廃水とＬ２て流ずことがてきる。寸だ、
従来υ：のようにか・ロー調整を各槽毎に行なう必甥が
なく、ｉ１’ｒ−’ｐ’Ｈ調整ｒｌが広いので操作上イ
ｊ利である。さらに、温度制御の点についても、発生熱
１１１“をガス？が容易に持ち去るので、全く１細かい
制御を行う必要がなく、有利である。？ 添加する次ｌｅｔ＋Ｍ’素酸ノーグの扇も最低でＣｌ、
ノアンイオンの当量分でよい。寸だ従来法のように残留
塩素の厳重な管理を−切必要とせず、過剰の次亜塩素酸
ソーダの後処理を特別に考慮せずとも処理液を系外へ廃
棄ずるど・とができる。？１ さらに反応槽を２槽設紋、攪拌手段も備え程必要もない
のでシアン処理シスナムをヨンバク１・にすることがで
きるし、設備費も安価になるというメリソｌ・も生ずる
。
以下、本発明の具体例を示す。
実施例一ｌ
シアンイオン７００ｐｐｒｎを含む酸性排水２０Ｔｏｎ
／Ｉ−１に４５％苛性ンークーを添加し、ｐＨ６に調整
しブｊあと、化学的理論当量の１．１倍の量だけ、１２
．％次亜曹水溶液として次即塩素酸ソーダを注加しスタ
ティック型ラインミキザーで混合攪拌後、直しに７５０
＊ｍφＳＵＳ製充填塔（１インチ磁製ラ／ヒリング充填
）の塔頂部ヘフイートする。塔底』＝り、フィードＪＪ
ｌ水量と空気量の重叶比４：１なる常温空気を送りこむ
。
／Ｉ−１に４５％苛性ンークーを添加し、ｐＨ６に調整
しブｊあと、化学的理論当量の１．１倍の量だけ、１２
．％次亜曹水溶液として次即塩素酸ソーダを注加しスタ
ティック型ラインミキザーで混合攪拌後、直しに７５０
＊ｍφＳＵＳ製充填塔（１インチ磁製ラ／ヒリング充填
）の塔頂部ヘフイートする。塔底』＝り、フィードＪＪ
ｌ水量と空気量の重叶比４：１なる常温空気を送りこむ
。
塔底より抜き出された排水中には、わずか０．７ｐｐｍ
のシアンイオンが検出されるのみてあった。
のシアンイオンが検出されるのみてあった。
一方、充填塔−１二部に０５、空気洗滌用に水を２Ｔｏ
ｎ／ＨスプレーＬ．、Ｊ’ＪＩ水フイード呻より−」一
の部分よりサイ１・カットして系外に抜き出したが、全
くシアンイメンし」、検出されなかった。又、出｛」空
気中のシアン成分を検知しだが、全く検知されなかった
・ 同様な方法で種々条件を変え、以゛「゛の実験を行い、
好成績を上げることが出来１ｃｏその結果Ｖ｛、次の表
に示す。なお実験番号Ｉ’ｌｌ、、本発明４＋（アＬ）
いては比較例に相当する。
ｎ／ＨスプレーＬ．、Ｊ’ＪＩ水フイード呻より−」一
の部分よりサイ１・カットして系外に抜き出したが、全
くシアンイメンし」、検出されなかった。又、出｛」空
気中のシアン成分を検知しだが、全く検知されなかった
・ 同様な方法で種々条件を変え、以゛「゛の実験を行い、
好成績を上げることが出来１ｃｏその結果Ｖ｛、次の表
に示す。なお実験番号Ｉ’ｌｌ、、本発明４＋（アＬ）
いては比較例に相当する。
前記の表に示｛７プ乙実験１．；Ｉいーう−１１も′ｊ
：’ｒ’ｌ晶（。イＪない、液体ニツイテノ分析（｝；
１、、ＪＳＳＫ−ｔ）ｌｔ）２ＬＬ’．．じ＋ｉ＋ｆ．
ｃ−）ｌζ０
：’ｒ’ｌ晶（。イＪない、液体ニツイテノ分析（｝；
１、、ＪＳＳＫ−ｔ）ｌｔ）２ＬＬ’．．じ＋ｉ＋ｆ．
ｃ−）ｌζ０
図面ケ」，、｛・発明の実施のノｊｌ−４・小゛Ｊ′も
σ）（“５！″・る。 １・−・被処理＋Ｊｌ水供給バイブ ２・・・−・・次罷塩素酸供給・：イブ３・・・・処理
水１」１出ノ゛：イブ ４・・・空気供給パイプ ５・・・・・空気１」１出ノくイグ ６・−・洗滌水供給・２イブ ７・・・（ｋ．滌水排出・に〜１ブ ８・・・・処理塔 ５５２
σ）（“５！″・る。 １・−・被処理＋Ｊｌ水供給バイブ ２・・・−・・次罷塩素酸供給・：イブ３・・・・処理
水１」１出ノ゛：イブ ４・・・空気供給パイプ ５・・・・・空気１」１出ノくイグ ６・−・洗滌水供給・２イブ ７・・・（ｋ．滌水排出・に〜１ブ ８・・・・処理塔 ５５２
Claims (1)
- シアンイオン含有物を次亜塩素酸塩の存在下微酸性ない
しアルカリ性で酸素を含有する気体で曝気処理するに当
りシアン含有物の重量に対して酸素の重量で１７１００
０以上の酸素含有気体を用いる仁どを特徴とするシアン
イオン含有物の処理法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14266582A JPS5932993A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | シアンイオン含有物の処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14266582A JPS5932993A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | シアンイオン含有物の処理法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5932993A true JPS5932993A (ja) | 1984-02-22 |
| JPH0141397B2 JPH0141397B2 (ja) | 1989-09-05 |
Family
ID=15320646
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14266582A Granted JPS5932993A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | シアンイオン含有物の処理法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5932993A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5120451A (en) * | 1989-07-05 | 1992-06-09 | Minproc Technology Pty. Limited | Process for reducing the cyanide content of a solution |
-
1982
- 1982-08-19 JP JP14266582A patent/JPS5932993A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5120451A (en) * | 1989-07-05 | 1992-06-09 | Minproc Technology Pty. Limited | Process for reducing the cyanide content of a solution |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0141397B2 (ja) | 1989-09-05 |
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