JPS5932589Y2 - Ａｌメツキ装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔考案の技術分野〕 本考案は、クライオポンプを使用したＡＩメッキ装置に
係り、特にクライオポンプダウン現象を時短することが
可能なＡＩメッキ装置に関する。

〔従来技術とその問題点〕

従来、アクリル成形ディスクにＡＩを蒸着あるいはスパ
ッタリングする場合に用いられるＡＩメッキ用真空槽に
排気ポンプ系統を接続してなるＡＩメッキ装置において
上記真空槽の排気ポンプ系統として、上記真空槽にクラ
イオポンプと荒抜き用回転ポンプを並列に接続してなる
排気ポンプ系統がある。

クライオポンプは排気速度が大きく清浄な真空が得られ
る利点があるが。

このポンプは溜込み式ポンプのため、クライオポンプ内
の吸着ガスを一定時期に排出してポンプ再生を行なわな
ければならない。

上記Ａ１メッキ装置の排気ポンプ系統の場合、例えば１
６８時間毎に再生するものであるが、実際に稼動した結
果、１サイクル９分として数十回のサイクルで、クライ
オパネル面（約１０°Ｋ）の温度が２００Ｋになり冷凍
機のコンプレッサが停止するというクライオポンプダウ
ン現象が発生した。

種々原因を調査した結果、これは、真空槽内でのＡｌ蒸
着時にＡＩとＨ２Ｏが反応を起こし、多量のＨ２が発生
したことによるもので、数十回のサイクルでクライオポ
ンプのＨ２に対する最大排気容量（１６Ｓｔｄ、ｌ）を
越え、Ｈ２の排気ができなくなり、Ｈ２がクライオパネ
ル面の温度を上昇させたためであることがわかった。

そのため、従来装置では上記クライオポンプダウン現象
の発生により数十回のサイクルでポンプ再生を行なわな
ければならないという欠点を有している。

また上記欠点は、大型で大容量の分子ポンプや拡散ポン
プの使用により回避することも一方法であるが、当然な
がらコストが非常に高くなるばかりでなく、大電力、大
きな設置容積を占める等多くの欠点を有する。

〔考案の目的〕

本考案は、上記欠点を解消することを目的としてお、す
、クライオポンプダウン現象の発生を防止でき、簡単な
装置の付加でしかも表両なＡ１メッキ装置を提供するも
のである。

〔考案の構成〕

上記目的を達成するため、本考案に係るＡＩメッキ装置
は、ＡＩメッキ用真空槽に、荒抜き用回転ポンプとＮ２
吸着用チャコールパネルを有しないクライオポンプと、
Ｎ２排気用拡散ポンプとを並列に接続し、上記拡散ポン
プに補助ポンプを直列に接続してなる排気ポンプ系統を
接続して構成されており、Ｎ２の排気をクライオポンプ
で行なわず、拡散ポンプで行なうようにしたものである
。

〔考案の実施例〕

以下、本考案の実施例を図面を参照して説明する。

図面は本考案に係るＡＩメッキ装置の一実施例を示した
もので、ＡＩ蒸着用真空槽１に、荒抜き用回転ポンプ２
、Ｎ２吸着用チャコールパネルを有しないクライオポン
プ３、Ｎ２排気用拡散ポンプ４をそれぞれ２方弁６ａ、
６ｂ、６ｃを介して並列に接続し、さらに拡散ポンプ４
に補助ポンプ５を直列に接続している。

荒抜き回転用ポンプ２は、真空槽１の排気開始時に２方
弁６ａを開路して使用されるものであり、ある程度Ａｌ
蒸着用真空槽１内の排気を行なった後、２方弁６ｂ、６
ｃを開路してクライオポンプ３と拡散ポンプ４、補助ポ
ンプ５によって排気を行なうものである。

本実施例の場合、クライオポンプ３はＮ２吸着用チャコ
ールパネルを取外しているので、Ｎ２排気能力を有さず
、その他のＮ２０．Ｎ２，０２等の排気を行なうもので
、拡散ポンプ４がＮ２の排気を行なうものである。

そのため、ＡＩ蒸着用真空槽１内のＡｌとＮ２０との反
応により、多量に発生したＮ２の排気が速やかに行なわ
れることになり、クライオポンプ３内のクライオパネル
面のわずかな温度上昇はあるが、冷凍機が停止する温度
までは至らず、クライオポンプダウン現象の発生を防止
することができる。

また、ＡＩを蒸着する１サイクルにおいて、約ｌｃｃの
Ｎ２０がクライオポンプ３内に吸着し、クライオポンプ
再生のサイクルである１６８時間使用後は約１０００ｃ
ｃのＮ２０が吸着することになる。

クライオポンプのＮ２０に対する排気容量は３０００
Ｓｔｄ、Ｉであるため、使用上の不都合はないが、ポン
プ再生時に、より速くＮ２０を排出するためにクライオ
ポンプ内に高温Ｎ２ガスを多量に流入させ、クライオポ
ンプ冷却パネルを常温に戻して１０００ｃｃのＮ２０を
液体状態で排出することが望ましい。

なお、以上はＡ１蒸着の場合を例として述べたが、ＡＩ
スパッタリングの場合も同様であることは言うまでもな
い。

〔考案の効果〕

以上述べたように本考案は、ＡＩメッキ用真空槽に、荒
抜き用回転ポンプと、Ｎ２吸着用チャコールパネルを有
さないクライオポンプと、Ｎ２排気用拡散ポンプとを並
列に接続し、上記拡散ポンプに補助ポンプを直列に接続
してなる排気ポンプ系統を接続してメッキ装置を構成し
たことにより、Ｎ２の排気をクライオポンプで行なわず
、分子ポンプで独立して行なうので、ＡＩメッキ用真空
槽内で多量に発生したＮ２を速やかに排出することがで
き、クライオポンプダウン現象の発生を防ＩＦ。

することができるという効果を有する。

また、大型、大容量の分子ポンプ等を使用する場合に比
較してコストが安くすみ、また経費効率が犬である等の
効果を有する。

【図面の簡単な説明】

図面は本考案の一実施例を示す系統図である。 １・・・・・・Ａ１蒸着用真空槽、２・・・・・・荒抜
き周回転ポンプ、３・・・・・・クライオポンプ、４・
・・・・・拡散ポンフ′、 ５・・・・・・補助ポンプ
、６・・・・・・２方弁。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. ＡＩメッキ用真空槽に排気ポンプ系統を接続してなるＡ
   Ｉメッキ装置において、上記排気ポンプ系統は荒抜き用
   回転ポンプと、Ｈ２吸着用チャコールパネルを有しない
   クライオポンプと、Ｈ２排気用拡散ポンプとを並列に接
   続し、かつ上記拡散ポ刀°に補助ポンプを直列に接続し
   てなるＡＩメッキ装置。